一种真空镀膜设备上的抽拉式离子源机构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种真空镀膜设备上的抽拉式离子源机构，包括安装箱，所述安装箱内插槽，所述插槽内设有置物架，所述置物架的两侧外壁上均固定连接有滑板，所述安装箱的两侧内壁上均固定连接有多个导块，多个所述导块上均设有与滑板对应的导槽，所述导块的上下两侧内壁上均固定连接有安装块，所述安装块上转动连接有限位轮，所述滑板的两侧外壁上设有与限位轮对应的限位槽，所述置物架的一端上固定连接有闭合板，所述安装箱的底部固定连接有支撑架，所述支撑架的一端上滑动插设有卡杆，本实用新型专利技术整体结构简单，抽拉结构的稳定性较高，且能够在闭合后有效对其进行位置限定，避免了自行开启，适合大规模推广。适合大规模推广。适合大规模推广。

【技术实现步骤摘要】
一种真空镀膜设备上的抽拉式离子源机构


[0001]本技术涉及真空镀膜相关制品领域，具体为一种真空镀膜设备上的抽拉式离子源机构。

技术介绍

[0002]离子源是使中性原子或分子电离，并从中引出离子束流的装置。它是各种类型的离子加速器、质谱仪、电磁同位素分离器、离子注入机、离子束刻蚀装置、离子推进器以及受控聚变装置中的中性束注入器等设备的不可缺少的部件，离子源的应用十分广泛,在离子源镀膜的应用中，粒子被电离后,粒子的动能可控,其化学活性大为提高,从而可利用来实现镀膜的功能,离子源是产生离子的装置。
[0003]目前离子源设计本着结构稳定的特点多为固定式结构，但是它有着难以维修，拆卸任务繁重的问题，因此急需一种真空镀膜设备上的抽拉式离子源机构。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种真空镀膜设备上的抽拉式离子源机构，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种真空镀膜设备上的抽拉式离子源机构，包括安装箱，所述安装箱内插槽，所述插槽内设有置物架，所述置物架的两侧外壁上本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜设备上的抽拉式离子源机构，包括安装箱（1），其特征在于：所述安装箱（1）内插槽，所述插槽内设有置物架（2），所述置物架（2）的两侧外壁上均固定连接有滑板（3），所述安装箱（1）的两侧内壁上均固定连接有多个导块（4），多个所述导块（4）上均设有与滑板（3）对应的导槽，所述导块（4）的上下两侧内壁上均固定连接有安装块（5），所述安装块（5）上转动连接有限位轮（6），所述滑板（3）的两侧外壁上设有与限位轮（6）对应的限位槽，所述置物架（2）的一端上固定连接有闭合板（7），所述安装箱（1）的底部固定连接有支撑架（8），所述支撑架（8）的一端上滑动插设有卡杆（9），所述闭合板（7）的底部设有与卡杆（9）对应的卡槽，所述卡杆（9）的底端固定连接有拉环（10），所述支撑架（8）的底部固定连接有连接块（11），所述连接块（11）上滑动插设有定...

【专利技术属性】
技术研发人员：袁旭庆，
申请(专利权)人：福建国泰光电设备有限公司，
类型：新型
国别省市：