一种缓冲式加热装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种缓冲式加热装置，包括：瓦楞状加热板，所述瓦楞状加热板上设有至少一个热量缓冲槽，每一所述热量缓冲槽的两侧均设有对待加热基片起支撑作用的支撑台；加热外壳，所述瓦楞状加热板设于所述加热外壳的顶部；多个加热丝，所述多个加热丝设于所述加热外壳内并在所述加热外壳内均匀分布。本发明专利技术采用特殊的瓦楞状加热板的形状设计，提高了产品受热时的均匀性，并通过热量缓冲槽达到了缓冲温度的作用，既能确保光刻胶内部稀释剂充分挥发，又能避免温度过快上升，造成稀释剂快速冲出片子表面的光刻胶，进而形成大量密集的气泡、凹坑的问题，让光刻胶的稀释剂有充足时间挥发，减少气泡、凹坑缺陷，保证烘干效果。保证烘干效果。保证烘干效果。

【技术实现步骤摘要】
一种缓冲式加热装置


[0001]本技术属于半导体制备
，具体涉及一种缓冲式加热装置。

技术介绍

[0002]前后烘是芯片半导体光刻制造中一道关键的工序，随着特征尺寸越来越小，对光刻的要求也越来越高。曝光前后的烘干工序极大影响着线条精度、成品良率，从而决定器件的整体性能和制造成本。工业上常用的有烘箱、管式炉、平面热板等烘烤方式。
[0003]传统烘箱、管式炉烘烤时，产品置于设备内，设备通过使腔内充满气体，气体均匀受热于产品。但是这会使产品接受热量的方式是由外向内，造成光刻胶的挥发成分稀释剂优先从光刻胶外部挥发，然后硬化，阻挡了内部的稀释剂挥发，从而造成光刻胶内部稀释剂挥发不充分，造成曝光线条误差严重的问题。
[0004]平面热板烘烤时，将产品接受热量的方式直接改为由内向外，虽然改善了稀释剂的挥发均匀性问题。但是大部分产品片子都是1mm厚度以下，比较薄。薄片子直接放在平面热板上时，会快速达到烘干的温度，会造成稀释剂快速冲出片子表面的光刻胶，易形成大量密集的气泡、凹坑，因为已经达到硬化温度，所以这些缺陷会残留下来。最终会对光刻线条精度、产品良率产生非常大的影响。

技术实现思路

[0005]为了解决上述问题，本技术提供一种缓冲式加热装置。
[0006]本技术所采用的技术方案为：一种缓冲式加热装置，包括：
[0007]瓦楞状加热板，所述瓦楞状加热板上设有至少一个热量缓冲槽，每一所述热量缓冲槽的两侧均设有对待加热基片起支撑作用的支撑台；
[0008]加热外壳，所述瓦楞状加热板设于所述加热外壳的顶部；
[0009]多个加热丝，所述多个加热丝设于所述加热外壳内并在所述加热外壳内均匀分布。
[0010]作为一种可选的技术方案，所述热量缓冲槽设有多个，相邻两个所述热量缓冲槽之间的间隔相等，所述间隔内设有所述的支撑台。
[0011]作为一种可选的技术方案，所述热量缓冲槽的最大宽度为20
‑
24mm，所述热量缓冲槽的深度为6
‑
10mm，所述支撑台的顶部宽度为3
‑
7mm。
[0012]作为一种优选的技术方案，所述热量缓冲槽的最大宽度为22mm，所述热量缓冲槽的深度为8.71mm，所述支撑台的顶部宽度为5mm。
[0013]作为一种可选的技术方案，所述待加热基片的尺寸为2
‑
4inch。
[0014]作为一种可选的技术方案，所述热量缓冲槽的截面为弧形、矩形或是梯形，所述热量缓冲槽的底部距离所述加热外壳的顶部之间的距离为10
‑
13mm。
[0015]作为一种可选的技术方案，相邻的两个所述加热丝之间的距离为20
‑
24mm。
[0016]作为一种可选的技术方案，所述瓦楞状加热板为铝合金材质。
[0017]作为一种可选的技术方案，所述瓦楞状加热板的侧壁上设有防烫伤护栏。
[0018]作为一种可选的技术方案，所述加热外壳的底部设有承载垫脚。
[0019]本技术的有益效果为：本专利技术采用特殊的瓦楞状加热板的形状设计，提高了产品受热时的均匀性，并通过热量缓冲槽达到了缓冲温度的作用，既能确保光刻胶内部稀释剂充分挥发，又能避免温度过快上升，造成稀释剂快速冲出片子表面的光刻胶，进而形成大量密集的气泡、凹坑的问题，让光刻胶的稀释剂有充足时间挥发，减少气泡、凹坑缺陷，保证烘干效果。
附图说明
[0020]图1为本技术缓冲式加热装置的结构示意图。
[0021]图2是瓦楞状加热板的俯视图。
具体实施方式
[0022]为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本技术实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此，以下对在附图中提供的本技术的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本技术的范围，而是仅仅表示本技术的选定实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0023]下面结合附图及具体实施例对本技术作进一步阐述。
[0024]实施例：
[0025]如图1和图2所示，一种缓冲式加热装置，包括：
[0026]瓦楞状加热板1，所述瓦楞状加热板1上设有至少一个热量缓冲槽101，每一所述热量缓冲槽101的两侧均设有对待加热基片2起支撑作用的支撑台102；
[0027]加热外壳3，所述瓦楞状加热板1设于所述加热外壳3的顶部；
[0028]多个加热丝4，所述多个加热丝4设于所述加热外壳3内并在所述加热外壳3内均匀分布。
[0029]作为一种可选的实施方式，所述热量缓冲槽101设有多个，相邻两个所述热量缓冲槽101之间的间隔相等，所述间隔内设有所述的支撑台102。
[0030]作为一种可选的实施方式，所述热量缓冲槽101的最大宽度D1为20
‑
24mm，所述热量缓冲槽101的深度D2为6
‑
10mm，所述支撑台102的顶部宽度D3为3
‑
7mm。
[0031]作为一种优选的实施方式，所述热量缓冲槽101的最大宽度D1为22mm，所述热量缓冲槽101的深度D2为8.71mm，所述支撑台102的顶部宽度D3为5mm。
[0032]作为一种可选的实施方式，所述待加热基片2的尺寸为2
‑
4inch。
[0033]作为一种可选的实施方式，所述热量缓冲槽101的截面为弧形、矩形或是梯形，所述热量缓冲槽101的底部距离所述加热外壳3的顶部之间的距离D4为10
‑
13mm，作为一种优选的实施方式，所述热量缓冲槽101的底部距离所述加热外壳3的顶部之间的距离D4为
11.29mm。
[0034]作为一种可选的实施方式，相邻的两个所述加热丝4之间的距离D5为20
‑
24mm，作为一种优选的实施方式，相邻的两个所述加热丝4之间的距离D5为22.52mm。其中，加热丝4与瓦楞状加热板1垂直，且加热丝4呈波浪状。
[0035]作为一种可选的实施方式，所述瓦楞状加热板1为铝合金材质。
[0036]作为一种可选的实施方式，所述瓦楞状加热板1的侧壁上设有防烫伤护栏5。
[0037]作为一种可选的实施方式，所述加热外壳3的底部设有承载垫脚6。
[0038]本实施例中，加热时，将不同尺寸（2或4inch）的待加热基片2放在瓦楞状加热板1上，待加热基片2与支撑台102接触。热量由加热丝4均匀地传递至加热板1上，再传递至支撑台102，由支撑台102传递给待加热基片2，这种直接接触的热量传递方式，加快本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种缓冲式加热装置，其特征在于，包括：瓦楞状加热板，所述瓦楞状加热板上设有至少一个热量缓冲槽，每一所述热量缓冲槽的两侧均设有对待加热基片起支撑作用的支撑台；加热外壳，所述瓦楞状加热板设于所述加热外壳的顶部；多个加热丝，所述多个加热丝设于所述加热外壳内并在所述加热外壳内均匀分布。2.根据权利要求1所述的缓冲式加热装置，其特征在于：所述热量缓冲槽设有多个，相邻两个所述热量缓冲槽之间的间隔相等，所述间隔内设有所述的支撑台。3.根据权利要求2所述的缓冲式加热装置，其特征在于：所述热量缓冲槽的最大宽度为20
‑
24mm，所述热量缓冲槽的深度为6
‑
10mm，所述支撑台的顶部宽度为3
‑
7mm。4.根据权利要求3所述的缓冲式加热装置，其特征在于：所述热量缓冲槽的最大宽度为22mm，所述热量...

【专利技术属性】
技术研发人员：唐兴友，
申请(专利权)人：四川科尔威光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：