一种投影光刻机、照明系统、控制系统及方法技术方案

本发明专利技术提供一种投影光刻机、照明系统、控制系统及方法。照明系统包括：光源、微镜阵列、照明光路以及微镜阵列数字控制器；所述光源适于发出曝光光束，所述微镜阵列数字控制器适于发出微镜阵列控制信号，以控制所述微镜阵列不同区域的微镜像素开闭状态；所述微镜阵列适于根据所述微镜阵列控制信号形成狭缝窗口，接收入射至所述狭缝窗口的曝光光束，以形成照明光束；所述照明光路适于调制所述照明光束，以在掩模版上形成照明视场。本发明专利技术能够简化投影光刻机扫描狭缝模块控制复杂度，并降低扫描狭缝窗口的实现成本。窗口的实现成本。窗口的实现成本。

【技术实现步骤摘要】
一种投影光刻机、照明系统、控制系统及方法


[0001]本专利技术涉及光刻技术，特别涉及一种投影光刻机、照明系统、控制系统及方法。

技术介绍

[0002]光刻是可以在涂有光敏感介质的硅片或基板上做出图形的一种技术，可用于集成电路(IC)及其封装、平板显示(FPD)、LED照明、微机电系统器件(MEMS)和其他精密器件的制造。光刻技术中的光刻设备是实现预期图形转移到硅片或基板目标区域上的一种工具。光刻机是一种可细分为接触式、接近式、投影式等多种工作方式的系统装置，以上光刻技术中，均要使用掩模版。
[0003]投影式光刻机的镜头倍率一般采用1：1、2：1、4：1或5：1等，其中步进投影光刻机一般采用1：1或5：1居多，扫描投影光刻机一般采用4:1居多。扫描投影光刻机通过曝光场与曝光场间工件台的步进运动，曝光场内工件台掩模台同步扫描运动的方式实现整个硅片的曝光。
[0004]在工件台与掩模台同步扫描过程中，需要配置可变扫描狭缝(简称扫描狭缝)模块配合一起扫描运动，以避免曝光场之间的光相互串扰。在曝光时，扫描狭缝用来将设定视场大小的光线入本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种适用于投影光刻机的照明系统，其特征在于，包括：光源、匀光光路、微镜阵列、照明光路以及微镜阵列数字控制器；所述光源适于发出曝光光束，所述微镜阵列数字控制器适于发出微镜阵列控制信号，以控制所述微镜阵列不同区域的微镜像素开闭状态；所述微镜阵列适于根据所述微镜阵列控制信号的开关状态形成可变的、大小可控的开状态区域或关状态区域，其中开状态所在区域称为狭缝窗口，微镜阵列接收入射至所述狭缝窗口的曝光光束，以形成照明光束；所述照明光路适于调制所述照明光束，以在掩模版上形成照明视场。2.如权利要求1所述的照明系统，其特征在于，所述微镜阵列有一组，所述照明系统还包括：所述微镜阵列数字控制器适于发出一组微镜阵列控制信号，以控制所述该组微镜阵列不同区域的微镜像素开闭状态。3.如权利要求1所述的照明系统，其特征在于，所述微镜阵列有多组，所述照明系统还包括：反射镜组件；所述微镜阵列数字控制器适于发出多组微镜阵列控制信号，以控制所述多组微镜阵列不同区域的微镜像素开闭状态；所述反射镜组件适于将多组微镜阵列形成的照明光束反射汇聚至所述照明光路。4.如权利要求3所述的照明系统，其特征在于，所述光源有多个，每个光源适于发出曝光光束至对应微镜阵列。5.如权利要求3所述的照明系统，其特征在于，所述光源也可以是分光光源，也即一个光源分成多组分光光源，以分别照射多组微镜阵列。6.如权利要求3所述的照明系统，其特征在于，所述微镜阵列有两组，所述反射镜组件为双面棱镜，包括侧面棱镜；一组微镜阵列适于接收入射至该微镜阵列狭缝窗口的曝光光束以形成第一照明光束，所述第一照明光束可通过一侧面棱镜反射至照明光路；另一组微镜阵列适于接收入射至该微镜阵列狭缝窗口的曝光光束以形成第二照明光束，所述第二照明光束可通过另一侧面棱镜反射至照明光路；所述照明光路适于调制所述第一照明光束以在掩模版上形成第一照明视场，调制所述第二照明光束以在掩模版上形成第二照明视场，所述掩模版上形成的照明视场为所述第一照明视场及第二照明视场形成的拼接视场。7.如权利要求3所述的照明系统，其特征在于，所述微镜阵列有三组，所述反射镜组件为梯形棱镜，包括侧面棱镜及中间棱镜；第一组微镜阵列适于接收入射至该微镜阵列狭缝窗口的曝光光束以形成第一照明光束，所述第一照明光束可通过一侧面棱镜反射至照明光路；第二组微镜阵列适于接收入射至该微镜阵列狭缝窗口的曝光光束以形成第二照明光束，所述第一照明光束可通过另一侧面棱镜反射至照明光路；第三组微镜阵列适于接收入射至该微镜阵列狭缝窗口的曝光光束以形成第三照明光束，所述第三照明光束可通过中间棱镜透射至照明光路；所述照明光路适于调制所述第一照明光束以在掩模版上形成第一照明视场，调制所述第二照明光束以在掩模版上形成第二照明视场，调制所述第三照明光束以在掩模版上形成第三照明视场，所述掩模版上形成的照明视场为所述第一照明视场、第二照明视场及第三
照明视场形成的拼接视场。8.如权利要求1至7任一项所述的照明系统，其特征在于，所述微镜阵列为空间光调制器或液晶显示器构成。9.如权利要求1至7任一项所述的照明系统，其特征在于，所述微镜阵列为N行乘以M列的由微米水平微镜排布而成的方形阵列，微镜总数量为N
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M，N及M分别为大于或等于1的自然数。10.如权利要求1至7任一项所述的照明系统，其特征在于，所述微镜阵列包括可控制所述曝光光束直接照射或通过的可转动微镜，所述微镜阵列控制信号适于控制所述微镜阵列中微镜的转动角度以控制微镜像素开闭状态；或者，所述微镜阵列包括可控制所述曝光光束直接照射或通过的开关阵列，所述微镜阵列控制信号适于控制所述开关阵列的开启或关闭以控制微镜像素开闭状态。11.一种适用于投影光刻机的照明方法，基于如权利要求1所述的照明系统；其特征在于，包括：所述微镜阵列根据所述微镜阵列数字控制器发出的微镜阵列控制信号控制不同区域的微镜像素开闭状态，以形成当前狭缝窗口；使用光源发出曝光光束，入射至对应微镜阵列所述当前狭缝窗口，以形成照明光束；通过所述照明光路调制所述照明光束，以在掩模版上形成照明视场。12.如权利要求11所述的照明方法，其特征在于，所述微镜阵列有多组，所述照明系统还包括：反射镜组件；所述微镜阵列根据所述微镜阵列数字控制器发出的微镜阵列控制信号控制不同区域的微镜像素开闭状态，以形成当前狭缝窗口包括：所述微镜阵列根据所述微镜阵列数字控制器发出的对应各组微镜阵列的微镜阵列控制信号控制不同组微镜阵列不同区域的微镜像素开闭状态，以形成各组微镜阵列的狭缝窗口；所述照明方法还可以包括：采用反射镜组件将多组微镜阵列形成的照明光束反射至所述照明光路。13.如权利要求12所述的照明方法，其特征在于，所述使用光源发出曝光光束可以包括：采用分光光源发出曝光光束至对应微镜阵列。14.如权利要求12所述的照明方法，其特征在于，所述微镜阵列有两组，所述反射镜组件为双面棱镜，包括侧面棱镜；所述使用光源发出曝光光束，入射至对应微镜阵列所述当前狭缝窗口，以形成照明光束，包括：接收入射至一组微镜阵列狭缝窗口的曝光光束以形成第一照明光束，接收入射至另一组微镜阵列狭缝窗口的曝光光束以形成第二照明光束；所述采用反射镜组件将多组微镜阵列形成的照明光束反射至所述照明光路包括：通过一侧面棱镜反射所述第一照明光束至照明光路，通过另一侧面棱镜反射所述第二照明光束至照明光路；所述通过所述照明光路调制所述照明光束包括：通过所述照明光路调制所述第一照明光束以在掩模版上形成第...

【专利技术属性】
技术研发人员：ꢀ七四专利代理机构，
申请(专利权)人：上海度宁科技有限公司，
类型：发明
国别省市：