一种曝光装置及适用于该曝光装置的调整装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种曝光装置及适用于该曝光装置的调整装置。所述曝光装置包括：掩模版、至少一组投影物镜及感光基板，所述投影物镜包括：第一成像镜头及第二成像镜头；曝光光束可照射所述掩模版的图案成像，并经过所述第一成像镜头形成中间像面，再通过所述第二成像镜头曝光于所述感光基板；所述第一成像镜头及第二成像镜头关于所述中间像面镜头对称。本发明专利技术能够提高曝光装置的镜头视场利用率。够提高曝光装置的镜头视场利用率。够提高曝光装置的镜头视场利用率。

【技术实现步骤摘要】
一种曝光装置及适用于该曝光装置的调整装置


[0001]本专利技术涉及曝光机
，特别涉及一种曝光装置及适用于该曝光装置的调整装置。

技术介绍

[0002]光刻是可以在涂有光敏感介质的基板上做出图形的一种技术，可用于集成电路(IC)及其封装、平板显示(FPD)、LED照明、微机电系统器件(MEMS)和其他精密器件的制造。光刻时使用的曝光装置是实现预期图形转移到基板目标区域上的一种工具。如图1所示的一种现有技术中的曝光装置，包括：光源1、掩模版2、调整装置3、戴森光学系统10、戴森光学系统11及感光基板12(基板指硅片、玻璃板、PCB板、化合物半导体衬底等)。戴森光学系统10包括直角反射镜4、透镜5和凹面反射镜6，戴森光学系统11包括直角反射镜7、透镜8和凹面反射镜9，调整装置3放置在掩模版2和直角反射镜4之间，调整装置3为两端为平面的无焦光学系统，调整装置可放置在多个位置，如图1中未标号的虚线方框为调整装置3其他可放置的位置。光源1照射光照2上图案成像，经调整装置、戴森光学系统10和11投影曝光于所述感光基板12上。/>[0003]但是本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种曝光装置，其特征在于，包括：掩模版、至少一组投影物镜及感光基板，所述投影物镜包括：第一成像镜头及第二成像镜头；曝光光束可照射所述掩模版的图案成像，并经过所述第一成像镜头形成中间像面，再通过所述第二成像镜头曝光于所述感光基板；所述第一成像镜头及第二成像镜头关于所述中间像面镜头对称。2.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述投影物镜仅有一组。3.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述投影物镜具有1至N组，所述曝光装置还包括：分光系统及1至N个照明单元；所述分光系统适于将光源等分为1至N个光源光束，以对应进入所述1至N个照明单元；所述照明单元适于将对应光源光束匀化与整形以形成对应分光后的1至N个曝光光束，分光后的1至N个曝光光束可照射至掩模版的对应图案，并入射至对应1至N组投影物镜；N为大于或等于2的自然数。4.如权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，所述掩模版图案设置为可由投影物镜曝光视场投射，所述感光基板的待曝光区域可对应设置为由所述投影物镜曝光视场投影的子曝光区域；所述曝光装置还包括：曝光系统、运动台及掩模台；所述曝光系统适于：在曝光时使曝光光束照射投影物镜曝光视场当前掩模版图案，并经该投影物镜将所述被照射的掩模版图案通过掩模版与感光基板在水平面同步扫描运动投影至当前的子曝光区域，以形成当前子曝光图案；通过所述掩模版与感光基板在水平面按照S形轨迹同步扫描运动以继续将所述掩模版被照射的图案投影至下一个子曝光区域，以完成当前曝光场场内子曝光区域的拼接曝光，从而实现当前曝光场曝光；调整所述运动台及掩模台使所述掩模版与感光基板在水平面相对运动以继续将所述掩模版图案投影至下一个曝光场的子曝光区域，以完成下一个曝光场的拼接曝光；直至感光基板上所有需要曝光的曝光场均完成曝光。5.如权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，所述掩模版图案设置为可由投影物镜曝光视场投射的子掩模版图案，所述感光基板的待曝光区域可对应设置为由所述投影物镜曝光视场投影的子曝光区域；所述曝光装置还包括：曝光系统、运动台及掩模台；所述曝光系统适于：在曝光时使曝光光束照射投影物镜曝光视场当前子掩模版图案，并经该投影物镜将所述掩模版图案投影至当前的子曝光区域，掩模版与感光基板在水平面同步扫描运动以形成当前子曝光图案；调整所述运动台及掩模台使所述掩模版与感光基板在水平面按照S形轨迹同步扫描运动以继续将所述掩模版图案投影至下一个子曝光区域，以形成下一个子曝光图案，以实现感光基板所有需要曝光区域的扫描拼接曝光。6.如权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，所述掩模版图案可对应设置为分别由1至N组投影物镜曝光视场投射的第1至第N个子掩模版图案，所述感光基板的待曝光区域可对应设置为由所述1至N组投影物镜曝光视场投影的子曝光区域组，所述子曝光区域组由所述1至N组投影物镜曝光视场可同时投影形成的第1至N个子曝光区域组成；所述曝光装置还包括：曝光系统、运动台及掩模台；所述曝光系统适于：在曝光时使分光后的1至N个曝光光束分别照射所述1至N组投影物镜曝光视场对应的第1至第N个子掩模版图案，并经该所述1至N组投影物镜将所述第1至第N个子掩模版图案投影至当前的子曝光区域组，通过掩模版与感光基板在水平面同步扫描运动以形成当前曝光场图案；调整所述运动台使所述掩模版与感光基板在水平面相对运动，以继续将所述掩模版图案投影至下一个曝光场区域，以完成下一个曝光场曝光；直至感光基板上所有需要曝光的曝光场均完成曝光。7.如权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，所述掩模版图案可对应设置为分别由1
至N组投影物镜曝光视场投射的子掩模版图案组，所述子掩模版图案组由所述1至N组投影物镜曝光视场可同时投影的第1至N个子掩模版图案组成，所述第一所述感光基板的待曝光区域可对应设置为由所述1至N组投影物镜曝光视场投影的子曝光区域组，所述子曝光区域组由所述1至N组投影物镜曝光视场可同时投影形成的第1至N个子曝光...

【专利技术属性】
技术研发人员：ꢀ七四专利代理机构，
申请(专利权)人：上海度宁科技有限公司，
类型：发明
国别省市：