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本发明提供一种曝光装置及适用于该曝光装置的调整装置。所述曝光装置包括：掩模版、至少一组投影物镜及感光基板，所述投影物镜包括：第一成像镜头及第二成像镜头；曝光光束可照射所述掩模版的图案成像，并经过所述第一成像镜头形成中间像面，再通过所述第二成...
该专利属于上海度宁科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海度宁科技有限公司授权不得商用。

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