本发明专利技术涉及等离子体显示屏障壁形成用光敏性糊剂组合物和等离子体显示屏障壁形成方法。本发明专利技术提供如下ＰＤＰ障壁形成用光敏性糊剂组合物，该组合物适合于利用紫外线照射的光刻法，并且其不仅能够利用一次光刻工序形成厚障壁并使障壁不损坏且具有优异的烧制外形，而且能够实现高强度和高分辨率，并确保烧制裕度，从而能够形成安全的障壁图案。本发明专利技术特别是涉及含有无机成分以及光敏性有机成分的ＰＤＰ障壁形成用光敏性糊剂组合物，所述无机成分含有玻璃粉末和填料，所述组合物的特征在于，所述填料包含至少７０重量％的α－石英。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及等离子体显示屏(plasma display panel,以下称为PDP) 障壁形成用光敏性糊剂组合物和PDP障壁形成方法，更详细地说，本发 明涉及如下PDP障壁形成用光敏性糊剂组合物和PDP障壁形成方法，该 组合物适合于利用紫外线照射的光刻(photolithography)法，利用一次光刻 工序就能够形成厚障壁并使障壁不损坏且具有优异的烧制外形(profile)，不仅如此，该组合物还能够实现高强度和高分辨率，并确保烧制裕度 (firingmargin),从而能够形成安全的障壁图案。
技术介绍
在以PDP为代表的LCD、 OLED等平板显示器的市场需求增加的同 时，在趋向大型化方面竞争正在加速，由此要求通过显示元件的高精细 化、高分辨率化来实现全高清(fWlHighDefmition)画质。PDP是利用如下现象的平板显示器在上板和下板之间填充的Ne、 Xe等气体放电时产生等离子体，由该等离子体放出的真空紫外线(主要 为147nm波长带)与荧光体发生碰撞，变为可见光区域的红、绿、蓝色 光。PDP中的障壁是为了确保放电空间并防止相邻的单元(Cdl)之间在 电、光学上相互串扰(Cross talk)而形成于PDP的背面基板上的结构物， 其起到决定PDP的图像显示品质的重要要素的作用。作为PDP障壁形成方法，己知有印刷法(printing method)、喷砂法 (sandblast method)、湿式蚀刻法(wet-etching method)等。但是，上述方法 的工序复杂，难以形成满足高纵横比(highaspectratio)的结构物。特别是， 喷砂法和湿式蚀刻法不仅实现微细图案是非常困难的，而且因环境污染 问题严重而在绿色环境方面存在问题。从很早以前日本的松下社(Matushida)就有以下事例为了实现高分 辨率，开发出光刻法及其材料以用于形成PDP障壁，并进行批量应用， 由此成功地实现了产品化，但是以目前的标准来看，存在采用对光敏性 障壁材料进行两次曝光的工序来实施该方法等工序上的繁琐和材料的局 限性。
技术实现思路
为了解决上述现有技术的问题，本专利技术的目的在于提供一种PDP障 壁形成用光敏性糊剂组合物，该组合物不仅能够利用一次光刻工序形成 厚障壁并使障壁不损坏且具有优异的烧制外形，而且能够实现高强度和 高分辨率，并确保烧制裕度，从而能够形成安全的障壁图案。本专利技术的其他目的在于提供一种PDP障壁形成方法和以上述方法形 成的障壁，该方法适合于利用紫外线照射的光刻法，并且能够实现工序 的简单化(能够一次涂布、 一次曝光等)和低成本化。为了达到上述目的，本专利技术提供一种PDP障壁形成用光敏性糊剂组 合物，该组合物包含a)无机成分以及b)光敏性有机成分，所述无机成分 含有i)玻璃粉末和ii)填料，所述组合物的特征在于，所述填料包含至少70重量％的(x-石英 (quartz)。优选上述填料相对于100重量份PDP障壁形成用光敏性糊剂组合物 为0.1重量份 20重量份。此外，本专利技术提供PDP障壁形成方法，其特征在于，该方法包括如 下步骤-a) 将上述PDP障壁形成用光敏性糊剂组合物涂布到将要形成障壁 的基板上并对涂布后的基板进行干燥；和b) 利用光刻法将上述经干燥的基板形状化为障壁；和c) 对上述经形状化的障壁进行烧制。此外，本专利技术提供以上述方法制造出的PDP障壁。本专利技术的PDP障壁形成用光敏性糊剂组合物适合于利用紫外线照射的光刻法，并且不仅能够利用一次曝光工序形成障壁不损坏且具有优异 的烧制外形的障壁，而且能够实现高强度和高分辨率，并确保烧制裕度， 从而能够形成安全的障壁图案。此外，本专利技术的光敏性糊剂组合物适合 于利用紫外线照射的光刻法，并且能够实现工序的简单化(能够一次印刷、 一次曝光等)和低成本化。具体实施方式下面，详细说明本专利技术。本专利技术的PDP障壁形成用光敏性糊剂组合物为包含a)无机成分以及 b)光敏性有机成分的PDP障壁形成用光敏性糊剂组合物，所述无机成分 含有i)玻璃粉末和ii)填料，所述组合物的特征在于，所述填料包含至少 70重量％的a-石英。用作上述填料的a-石英以结晶质石英、平均粒径为0.5 pm 10 pm 的为宜。优选使用的a-石英的比表面积(surface area)为1.0 m2/g 20 m2/g 且粒度分布为D1()=0，01 (im 5.0 pm、 D5()=0.5 |im 10.0 |iim、 D9Q=2 jim 20 pm。当a-石英的平均粒径、比表面积、粒度分布处于上述范围内时， 具有如下优点高分辨率的障壁形状和烧制外形优异。此外，作为可与上述a-石英混合使用的填料，可以将鳞石英 (Tridymite)、方石英(Cristobalite)、柯石英(coesite)、非晶质石英、氧化铝、 氧化钛、氧化锌和超石英(stishovite)中的单独1种或2种以上与上述a-石英混合来使用，并优选混合鳞石英(Tridymite)或非晶质二氧化硅来使用 为宜。此外，优选的是，使用填料的90重量％以上的01-石英，最优选的是， 单独使用a-石英作为填料为宜。优选在总共100重量份的光敏性糊剂组合物中含有0.1重量份 20重 量份的上述填料，进一步优选含有1重量份 10重量份的上述填料为宜。 当所述填料的含量小于0.1重量份时，填料含量低，有可能在烧制工序中 障壁形状损坏或者使下层介电体发生变形，所形成的障壁的光反射率低， 放电效率降低。在使用小于0.1重量份的a-石英并使用其他种类的填料的情况下，对180iam以上的较厚的涂布层进行一次曝光来形成图案时，由 于透光性不足，因而不易形成具有优异的上下宽度比例的高精细化障壁。 此外，在填料含量大于20重量份时，填料含量高，烧制致密度和表面粗 糙度降低，有时导致下部附着力低，分辨率不良。本专利技术的上述玻璃粉末可以使用用于PDP障壁的通常的玻璃粉末， 并且球状型或破碎型的玻璃粉末均可使用，但特别是在使用球状型的玻 璃粉末时，在分辨率和障壁烧制外形方面更好。进一步优选的是，上述 玻璃粉末以粒度分布为D10=0.01 |xm 5 ,、 D50=0.5 , 10.0 ,、 D9o=2 |im 20 的球形为宜。作为一个具体实例，对于玻璃粉末，可以使用玻璃化转变温度(Tg) 为350。C 65(TC的Si02-B203-Al2OrZnO系或Si02-B203-Al203系无铅玻 璃粉末。优选在总共100重量份的光敏性糊剂组合物中含有35重量份 80重 量份的上述玻璃粉末，进一步优选含有40重量份 60重量份的上述玻璃 粉末为宜。所述玻璃粉末的含量在上述范围内时，涂布性、显影性、分 辨率、烧制致密度、储藏稳定性方面均良好。含有这样的玻璃粉末和填料的无机成分与光敏性有机成分一起形成 光敏性糊剂组合物。在17(TC对光敏性糊剂组合物进行了 2小时干燥之时，以干燥重量 计，优选在100重量份经干燥的光敏性糊剂中含有40重量份 90重量份 上述无机成分。所述无机成分的含量为上述范围时，具有如下优点糊 剂的粘度、涂布性、干燥性是稳定的，曝光、显影均匀性较高，能够得 到优异的障壁图案。经干燥的糊剂内的无机成分含量小于40重量份时， 无机粉末间的距本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种ＰＤＰ障壁形成用光敏性糊剂组合物，该组合物含有ａ）无机成分以及ｂ）光敏性有机成分，所述无机成分含有ｉ）玻璃粉末和ｉｉ）填料， 所述组合物的特征在于，所述填料含有至少７０重量％的α－石英。
【技术特征摘要】
KR 2007-4-6 10-2007-00343511. 一种PDP障壁形成用光敏性糊剂组合物，该组合物含有a)无机成分以及b)光敏性有机成分，所述无机成分含有i)玻璃粉末和ii)填料，所述组合物的特征在于，所述填料含有至少70重量％的α-石英。2. 如权利要求1所述的PDP障壁形成用光敏性糊剂组合物，其特征 在于，在100重量份所述糊剂组合物中，所述填料为0.1重量份 20重 量份。3. 如权利要求1所述的PDP障壁形成用光敏性糊剂组合物，其特征 在于，所述填料是将鳞石英或非晶质二氧化硅单独与所述a-石英混合而 得到的，或者所述填料是将鳞石英和非晶质二氧化硅混合后与所述a-石 英混合而得到的。4. 如权利要求1所述的PDP障壁形成用光敏性糊剂组合物，其特征 在于，所述a-石英的粒度分布为D1(H).01 pm 5.0 pm、 D5Q=0.5 nm 10.0萍、D90=2 fim 20 (am。5. 如权利要求1所述的PDP障壁形成用光敏性糊剂组合物，其特征 在于，所述玻璃粉末为球形。6. 如权利要求5所述的PDP障壁形成用光敏性糊剂组合物，其特征 在于，所述玻璃粉末的粒度分布为D1()=0.01 pm 5 pm、 D5。=0.5 (im 10.0 |jm、 D90=2 |j_m 20 |_im。7. 如权利要求1所述的PDP障壁形成用光敏性糊剂组合物，其特征 在于，在17(TC对所述光敏性糊剂组合物进行了2小时干燥之时，以干燥 重量计，在...
【专利技术属性】
技术研发人员：朴赞硕，高俊，黄建镐，郑熙俊，郑镛埈，金泰成，
申请(专利权)人：东进世美肯株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]
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