【技术实现步骤摘要】
一种UV LED光刻光源
[0001]本技术涉及LED光刻光源领域,更具体地说,涉及一种UV LED光刻光源。
技术介绍
[0002]光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。是对半导体晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)进行开孔,以便进行杂质的定域扩散的一种加工技术。
[0003]在半导体行业中有许多使用UV LED对半导体等表面进行开孔,而传统的UV LED产生的光线对半导体表面开孔时,传统的UV LED射出的光线不经处理,直接对半导体进行开孔,可能会由于光线的强度不均匀,导致半导体开孔大小不一,因此亟需一种便于保持光线强度统一的UV LED光刻光源。
技术实现思路
[0004]1.要解决的技术问题
[0005]针对现有技术中存在的问题,本技术的目的在于提供一种UV LED光刻光源,它便于通过折射和散射将UV LED模组发出出来的光线保持统一强度,从而防止对半导体等开孔时,由于光线强度不同而导致开孔大小不一,且该装置消耗功率低、稳定时间短。
[0006]2.技术方案
[000 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种UV LED光刻光源,包括UV LED模组(1)、导光模组(2)、复眼模组(3)、反射镜(4)和准直镜(5),其特征在于:所述UV LED模组(1)发出光源依次经过导光模组(2)和复眼模组(3)投射到反射镜(4),所述反射镜(4)将光线折射到准直镜(5)。2.根据权利要求1所述的一种UV ...
【专利技术属性】
技术研发人员:游证杰,
申请(专利权)人:顺诠达重庆电子有限公司,
类型:新型
国别省市:
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