【技术实现步骤摘要】
紫外宽光谱光刻镜头及具有其的光刻机
[0001]本技术涉及电路板光刻
，尤其是涉及一种紫外宽光谱光刻镜头及具有其的光刻机。
技术介绍
[0002]光刻镜头是直写光刻设备中曝光引擎的重要组成部分，光刻镜头的设计参数和成像质量直接决定曝光线条的精度。
[0003]相关技术中，直写光刻设备多针对窄光谱(395nm
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415nm)进行光刻镜头设计，但此类设备在PCB光刻制程上存在局限，尤其在阻焊工艺方面不能满足对板面光泽度的要求。为了使直写光刻设备能够全面覆盖PCB光刻制程，需要针对更宽光谱(350nm
‑
420nm)进行光刻镜头设计，但会大幅度提高设计难度，尤其体现在色差的校正上，通常在设计中多采用多镜片结构来提高成像质量，但是由于普通光学玻璃对400nm以下波段的光吸收强烈，多镜片会明显降低光刻镜头光能利用率，影响制板产能，不利于行业应用。同时，部分光学玻璃受到紫外光长时间照射后透过率会明显下降，如果材料选择不佳会严重影响设备运行稳定性。
技术实现思路
[0004]本...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种紫外宽光谱光刻镜头，其特征在于，所述光刻镜头包括第一透镜组、第二透镜组、光阑和第三透镜组，从物面侧至像面侧方向上，所述第一透镜组、所述第二透镜组、所述光阑和所述第三透镜组沿光的轴线方向依次排布，所述第一透镜组包括：从物面侧至像面侧的方向上依次分布的保护玻璃和平板玻璃；所述第二透镜组包括：从物面侧至像面侧的方向上依次分布的第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜、第五透镜、第六透镜、第七透镜和第八透镜；所述第三透镜组包括：从物面侧至像面侧的方向上依次分布的第九透镜、第十透镜和第十一透镜。2.根据权利要求1所述的紫外宽光谱光刻镜头，其特征在于，所述第一透镜为正透镜，所述第一透镜的物面侧为凹面，所述第一透镜的像面侧为凸面；所述第二透镜为正透镜，所述第二透镜的物面侧和所述第二透镜的像面侧均为凸面；所述第三透镜为负透镜，所述第三透镜的物面侧和所述第三透镜的像面侧均为凹面；所述第四透镜为正透镜，所述第四透镜的物面侧和所述第四透镜的像面侧均为凸面；所述第五透镜为负透镜，所述第五透镜的物面侧为凸面，所述第五透镜的像面侧为凹面；所述第六透镜为正透镜，所述第六透镜的物面侧和所述第六透镜的像面侧均为凸面；所述第七透镜为正透镜，所述第七透镜的物面侧和所述第七透镜的像面侧均为凸面；所述第八透镜为负透镜，所述第八透镜的物面侧和所述第八透镜的像面侧均为凹面；所述第九透镜为负透镜，所述第九透镜的物面侧和所述第九透镜的像面侧均为凹面；所述第十透镜为正透镜，所述第十透镜的物面侧为凹面，所述第十透镜的像面侧为凸面；所述第十一透镜为正透镜，所述第十一透镜的物面侧为凸面，所述第十一透镜的像面侧为平面。3.根据权利要求2所述的紫外宽光谱光刻镜头，其特征在于，所述第三透镜和所述第四透镜为胶合透镜，所述第五透镜和所述第六透镜为胶合透镜，所述第七透镜和所述第八透镜为胶合透镜。4.根据权利要求3所述的紫外宽光谱光刻镜头，其特征在于，所述第四透镜、所述第六透镜、所述第七透镜为氟冕玻璃；所述第三透镜、所述第五透镜、所述第八透镜为镧冕玻璃。5.根据权利要求2所述的紫外宽光谱光刻镜头，其特征在于，所述第一透镜的物面侧曲率半径的取值范围为630mm
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755mm，所述第一透镜的像面侧曲率半径的取值范围为135mm
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230mm；所述第二透镜的物面侧曲率半径的取值范围为155mm
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200mm，所述第二透镜的像面侧曲率半径的取值范围为70mm
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120mm；所述第三透镜的物面侧曲率半径的取值范围为40mm
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90mm，所述第三透镜的像面侧曲率半径的取值范围为300mm
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400mm；所述第四透镜的物面侧曲率半径的取值范围为300mm
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400mm，所述第四透镜的像面侧曲率半径的取值范围为50mm
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100mm；
所述第五透镜的物面侧曲率半径的取值范围为150mm
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200mm，所述第五透镜的像面侧曲率半径的取值范围为40mm
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75mm；所述第六透镜的物面侧曲率半径的取值范围为40mm
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75mm，所述第六透镜的像面侧曲率半径的取值范围为90mm
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165mm；所述第七透镜的物面侧曲率半径的取值范围为35mm
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65mm，所述第七透镜的像面侧曲率半径的取值范围为210mm
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255mm；所述第八透镜的物面侧曲率半径的取值范围为210mm
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255mm，所述第八透镜的像面侧曲率半径的取值范围为350mm
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380m；所述第九透镜的物面侧曲率半径的取值范围为20...
【专利技术属性】
技术研发人员：李鹏飞，蔡潍，杨宇航，
申请(专利权)人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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