【技术实现步骤摘要】
一种光学组件及其制作方法
[0001]本专利技术涉及光胶技术,尤其涉及一种光学组件及其制作方法。
技术介绍
[0002]浸没光刻机对平面光栅测量系统的测量行程需求,决定了使用大面积光栅的必要性,而高精度、大面积光栅存在制作难度大、成本高等难点。玻璃材质的小面积光栅采用光胶技术与在大面积玻璃底板胶合,使得大面积光栅集成、使用成为可能。
[0003]光胶胶合为不用黏结剂,稍加压力使两个清洁光滑和面形一致的光学零件表面吸附在一起的工艺过程。光胶技术本质是范德华力作用即分子力粘接。与胶水层粘接相比,光胶技术粘合层的厚度可以忽略不计,避免了在粘接过程中发生的变形,因而可以获得更稳定的面形。
[0004]传统的光胶技术,一般用于尺寸小于直径200毫米的玻璃器件。概括地说即是将两个干净的平坦表面紧密接触彼此的过程中,通过外部施加压力,将两个粘接件结合在一起,粘接点从初始接触点迅速蔓延扩大至整个粘接面。由于存在外部力施加和几乎无姿态纠正操作时间,此方法很难满足有粘接精度需求,且大面积的光栅测量面的集成。
[0005] ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种光学组件,包括第一光学件和至少一个第二光学件,其特征在于,所述第一光学件包括至少一个节流孔;在形成所述光学组件时,通过至少一个所述节流孔产生负压吸附所述第二光学件,使所述第一光学件和所述第二光学件光胶胶合。2.根据权利要求1所述的光学组件,其特征在于,还包括至少一个密封件,所述密封件的数量与所述节流孔的数量相同,所述密封件位于所述节流孔内。3.根据权利要求1所述的光学组件,其特征在于,所述至少一个节流孔包括至少一个正压节流孔和至少一个负压节流孔,所述正压节流孔用于通过气体并产生正压以支撑所述第二光学件,所述负压节流孔用于通过气体并产生负压以吸附所述第二光学件。4.根据权利要求1所述的光学组件,其特征在于,所述光学组件包括M个所述第二光学件;所述第一光学件包括M个胶合区域,M个所述第二光学件分别光胶胶合在所述第一光学件的M个胶合区域内,M为大于1的正整数。5.根据权利要求4所述的光学组件,其特征在于,所述胶合区域的形状与所述所述第二光学件的形状相同;所述至少一个节流孔包括至少一个正压节流孔和至少一个负压节流孔,所述正压节流孔用于通过气体并产生正压以支撑所述第二光学件,所述负压节流孔用于通过气体并产生负压以吸附所述第二光学件;每一个所述胶合区域设置一个所述负压节流孔和多个所述正压节流孔,所述负压节流孔位于所述胶合区域...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘明放,曹萌,吴萍,
申请(专利权)人:上海微电子装备集团股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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