一种超高纯电子气体吸附剂的活化装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种超高纯电子气体吸附剂的活化装置，包括两个支撑底座，支撑底座上有第一反应罐和第二反应罐；第一反应罐的上端面设有密封套环上固定有端盖，端盖与连接管之间设有密封机构；第一反应罐与密封套环之间设有支撑机构，第一反应罐内设有用于对吸附剂进行预处理活化的预处理机构，第一反应罐与第二反应罐之间设有用于对吸附剂原料补充的补充机构，补充机构内设有用于保持补充机构补充气体过程中密封的卡合机构，本发明专利技术通过第一反应罐内对吸附剂惰性状态反应，实现吸附剂在进行活化处理前，对吸附剂在进行活性处理之前保持高于惰性状态的温度与活性，便于后续对吸附剂进行活化处理过程。行活化处理过程。行活化处理过程。

【技术实现步骤摘要】
一种超高纯电子气体吸附剂的活化装置


[0001]本专利技术属于气体吸附剂活化装置
，具体涉及一种超高纯电子气体吸附剂的活化装置。

技术介绍

[0002]电子气体是指用于半导体及相关电子产品生产的特种气体，应用范围十分广泛。在集成电路、平面显示器件和太阳能等电子工业生产环节中，从芯片生产到最后器件的封装，几乎每一步、每一个环节都离不开电子气体，因此电子气体堪称电子制造的“血液”。电子气体成本仅占IC材料总成本的5％
‑
6％，但是即使只是某一种特定杂质超标，都可能导致产品严重缺陷，甚至因为不合格气体的扩散，导致整个生产线被污染或报废。因此，电子气体的品质很大程度上决定了半导体器件性能的好坏，电子气体纯度每提高一个数量级，都会极大地推动半导体器件质的飞跃。
[0003]现有的吸附剂均具有一定的活性寿命，其在使用寿命结束后，便无法对高纯度电子气体继续起到吸附与约束的作用，因此吸附剂通常需要经过活化处理后才可实现循环多次使用；此外，现有的吸附剂活化装置在使用时，活化剂内原料的反应状态不一，在实际的活化处理过程中无法实现活化本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种超高纯电子气体吸附剂的活化装置，其特征在于，包括两个支撑底座(1)，其中一个所述支撑底座(1)上固定连接有第一反应罐(2)，另一个所述支撑底座(1)上固定连接有第二反应罐(19)；所述第一反应罐(2)的上端面设有密封套环(3)，所述密封套环(3)的上端面固定连接有端盖，所述端盖的中心位置贯穿滑动连接有连接管(7)，所述端盖与连接管(7)之间设有用于连接管(7)滑动过程中限位及保持密封的密封机构；所述第一反应罐(2)与密封套环(3)之间设有用于对密封套环(3)限位与支撑的支撑机构，所述第一反应罐(2)内设有用于对吸附剂进行预处理活化的预处理机构，所述第一反应罐(2)与第二反应罐(19)之间设有用于对吸附剂原料补充的补充机构，所述补充机构内设有用于保持补充机构补充气体过程中密封的卡合机构。2.根据权利要求1所述的一种超高纯电子气体吸附剂的活化装置，其特征在于，所述密封机构包括固定连接在端盖下端面的限位盲管，所述限位盲管的侧壁上周向均匀的开设有多个进气口(27)，所述限位盲管的内底面均匀的固定连接有多个缓冲杆(28)，所述缓冲杆(28)上套设有移动堵板(29)，所述缓冲杆(28)的顶端延伸至连接管(7)内。3.根据权利要求1所述的一种超高纯电子气体吸附剂的活化装置，其特征在于，所述支撑机构包括固定连接在第一反应罐(2)的侧壁上的抵环(6)，所述密封套环(3)的下端面周向均匀的固定连接有多个限位杆(8)，所述第一反应罐(2)的侧壁周向上开设有多个限位槽(4)，所述限位槽(4)延伸至抵环(6)内，所述限位杆(8)滑动连接在限位槽(4)内。4.根据权利要求1所述的一种超高纯电子气体吸附剂的活化装置，其特征在于，所述预处理机构包括固定连接在第一反应罐(2)内侧壁上的混合管(22)，所述混合管(22)的侧壁周向开...

【专利技术属性】
技术研发人员：李俊华，林坤，孟祥军，王少波，马朝选，
申请(专利权)人：中船重工邯郸派瑞特种气体有限公司，
类型：发明
国别省市：