【技术实现步骤摘要】
半导体封装
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2020年6月3日在韩国知识产权局提交的题为“半导体封装”的韩国专利申请No.10
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2020
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0067277的优先权,其通过引用整体并入本文。
[0003]实施例涉及半导体封装。
技术介绍
[0004]集成电路芯片可以以半导体封装的形式实现,以便适当地应用于电子产品。在典型的半导体封装中,半导体芯片可以安装在印刷电路板(PCB)上,并且可以通过接合线或凸块电连接到PCB。随着电子产业的发展,已经研究了用于提高半导体封装的可靠性和耐用性的各种技术。
技术实现思路
[0005]在一方面,一种半导体封装可以包括:第一基板;在第一基板上彼此间隔开的第一芯片结构和第二芯片结构,在第一芯片结构和第二芯片结构之间设置有间隙区域;以及覆盖第一芯片结构、第二芯片结构和第一基板的散热构件。散热构件可以包括设置在散热构件的内顶表面中的第一沟槽,第一沟槽可以与间隙区域竖直地重叠并且宽度可以大于间隙区域的宽度。第一沟槽可以与第一芯片结构的顶表面的一部分或第二芯片结构的顶表面的一部分中的至少一个竖直地重叠。
[0006]在另一方面,一种半导体封装可以包括:封装基板;设置在封装基板上的中介层基板;安装在中介层基板上并且彼此间隔开的第一芯片结构和第二芯片结构,在第一芯片结构和第二芯片结构之间设置有间隙区域;以及覆盖第一芯片结构、第二芯片结构、中介层基板和封装基板并且粘附到封装基板的顶表面的散热构件。散热 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种半导体封装,包括:第一基板;在所述第一基板上彼此间隔开的第一芯片结构和第二芯片结构,在所述第一芯片结构和所述第二芯片结构之间限定有间隙区域;以及覆盖所述第一芯片结构、所述第二芯片结构和所述第一基板的散热构件,所述散热构件在所述散热构件的内顶表面中包括第一沟槽,其中,所述第一沟槽与所述间隙区域竖直地重叠,并具有比所述间隙区域的宽度大的宽度,并且其中,所述第一沟槽与所述第一芯片结构的顶表面的一部分或所述第二芯片结构的顶表面的一部分中的至少一个竖直地重叠。2.根据权利要求1所述的半导体封装,还包括:在所述第一芯片结构和所述散热构件之间的第一热界面材料层,所述第一热界面材料层延伸以与所述第一沟槽的第一内侧壁接触;以及在所述第二芯片结构和所述散热构件之间的第二热界面材料层,所述第二热界面材料层延伸以与所述第一沟槽的第二内侧壁接触,并且所述第一热界面材料层与所述第二热界面材料层间隔开。3.根据权利要求2所述的半导体封装,其中,所述第一沟槽的内顶表面的至少一部分不与所述第一热界面材料层和所述第二热界面材料层接触,而是被暴露。4.根据权利要求1所述的半导体封装,其中,所述散热构件在与所述第一沟槽间隔开的位置处具有第一厚度,所述第一沟槽距所述散热构件的内顶表面具有第一深度,并且所述第一深度在所述第一厚度的1/3至2/3的范围内。5.根据权利要求1所述的半导体封装,其中,所述第一沟槽距所述散热构件的内顶表面具有第一深度,与所述第一沟槽重叠的所述第一芯片结构的顶表面具有比所述第一沟槽的第一深度小的第一宽度。6.根据权利要求1所述的半导体封装,其中,所述第一沟槽包括:第一沟槽侧壁;以及入口部分,在所述入口部分处所述第一沟槽侧壁与所述散热构件的内顶表面相遇,所述入口部分的截面为直角的、圆形的或阶梯形的。7.根据权利要求1所述的半导体封装,其中,当在平面图中观察时,所述散热构件包括三个圆角和一个具有刻面的刻面角。8.根据权利要求1所述的半导体封装,其中:所述第一芯片结构包括:与所述第二芯片结构相邻的第一芯片侧壁,所述第一沟槽与所述第一芯片侧壁重叠,以及与所述第一芯片侧壁相对的第二芯片侧壁,并且所述散热构件还包括在所述散热构件的内顶表面中的第二沟槽,所述第二沟槽与所述第二芯片侧壁重叠。9.根据权利要求8所述的半导体封装,其中:所述散热构件包括在所述第一沟槽和所述第二沟槽之间的第一内部突起,所述第一内
部突起在第一方向上具有第一宽度,并且所述第一芯片结构在所述第一方向上具有第二宽度,所述第一宽度小于所述第二宽度。10.根据权利要求1所述的半导体封装,其中,所述散热构件还包括从与所述内顶表面相对的外顶表面向上突出的第一鳍部,所述第一鳍部与所述第一沟槽重叠。11.根据权利要求1所述的半导体封装,其中:所述散热构件的外顶表面是不平坦的,所述散热构件在与所述第一沟槽间隔开的位置处具有第一厚度,并且在所述第一沟槽上具有第...
【专利技术属性】
技术研发人员:柳孝昌,金喆禹,柳周铉,李相贤,崔允硕,
申请(专利权)人:三星电子株式会社,
类型:发明
国别省市:
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