一种抗干扰型晶圆旋转冲洗甩干设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种抗干扰型晶圆旋转冲洗甩干设备，包括：基座、腔体支座、一组腔体支架、腔体、外壳、控制装置、显示屏和伺服电机，基座设于外壳内，腔体支座设于基座上，腔体设于腔体支座上方，腔体支架一侧与腔体支座连接，另一侧与腔体连接，伺服电机设于腔体的一侧，并通过一组电机连接架与腔体支座连接，控制装置设于外壳上部，并置于腔体的上方，显示屏设于外壳上，并与控制装置连接，显示屏采用触摸显示屏。本实用新型专利技术通过基座、腔体支座、腔体支架与腔体的配合，提高了腔体安装以及运行稳定性，提高晶圆加工稳定性，降低晶圆破损率，通过对控制装置优化，提高其抗干扰能力，触摸显示屏具有显示直观，提高操作的准确性，避免误操作。误操作。误操作。

【技术实现步骤摘要】
一种抗干扰型晶圆旋转冲洗甩干设备


[0001]本技术属于晶圆加工
，特别涉及一种抗干扰型晶圆旋转冲洗甩干设备。

技术介绍

[0002]晶圆是指制作硅半导体电路所用的硅晶片，其原始材料是硅。高纯度的多晶硅溶解后掺入硅晶体晶种，然后慢慢拉出，形成圆柱形的单晶硅。硅晶棒在经过研磨，抛光，切片后，形成硅晶圆片，也就是晶圆。
[0003]加工后的晶圆通常需要对其表面清洗。现有的小型晶圆冲洗甩干机大多采用的单片机控制，用单片机制作的主板受制版工艺，布局结构，器件质量的因素的影响导致抗干扰能力差，故障率高，不易扩展，对环境依赖强，开发周期长，因而现有的晶圆冲洗甩干机还有待于改进。

技术实现思路

[0004]技术目的：为了克服以上不足，本技术的目的是提供一种抗干扰型晶圆旋转冲洗甩干设备，其结构简单、设计合理、易于生产，通过基座、腔体支座、腔体支架与腔体的配合，大大的提高了腔体安装以及运行的稳定性，有效的提高晶圆加工的稳定性，降低晶圆破损率，同时也通过对控制装置的优化，提高其抗干扰能力，故障率低。
[0005]技术方案：为了实现本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种抗干扰型晶圆旋转冲洗甩干设备，其特征在于：包括：基座（1）、腔体支座（2）、一组腔体支架（3）、腔体（4）、外壳（41）、控制装置（42）、显示屏（43）和伺服电机（5），所述基座（1）设于外壳（41）内，所述腔体支座（2）设于基座（1）上，所述腔体（4）设于腔体支座（2）的上方，且所述腔体支架（3）一侧与腔体支座（2）连接，另一侧与腔体（4）连接，所述伺服电机（5）设于腔体（4）的一侧，并通过一组电机连接架（51）与腔体支座（2）连接，所述控制装置（42）设于外壳（41）的上部，并置于腔体（4）的上方，所述显示屏（43）设于外壳（41）上，并与控制装置（42）连接，且所述显示屏（43）采用触摸显示屏。2.根据权利要求1所述的抗干扰型晶圆旋转冲洗甩干设备，其特征在于：所述外壳（41）包括腔体外壳（411）和用于安装控制装置（42）的控制装置外壳（412），所述腔体外壳（411）和控制装置外壳（412）呈上、下设置，且所述腔体外壳（411）和控制装置外壳（412）内均设有支撑座（413），所述腔体（4）设于腔体外壳（411）内，并通过基座（1）与腔体外壳（411）内的支撑座（413）连接，所述控制装置（42）设于控制装置外壳（412）内，并与控制装置外壳（412）内的支撑座（413）连接，且所述控制装置（42）采用PLC控制装置，所述显示屏（43）设于控制装置外壳（412）的一侧；所述腔体外壳（411）包括背板、盖板和一组侧板，所述背板和盖板相对设置，所述侧板设于背板和盖板的两侧，且所述盖板上设有开口，所述开口处设有门板（414）。3.根据权利要求1所述的抗干扰型晶圆旋转冲洗甩干设备，其特征在于：还包括喷水装置（6）、加热装置（7）和静电消除器（8），所述喷水装置（6）通过安装座与腔体（4）连接，且所述喷水装置（6）与水管（9）连接，所述加热装置（7）两端与腔体（4）连接，所述静电消除器（8）设于腔体（4）的表面。4.根据权利要求3所述的抗干扰型晶圆旋转冲洗甩干设备，其特征在于：所述喷水装置（6）靠近水管（9）的一侧设有第一气动阀（62），且所述喷水装置（6）通过一组PFA接头（63）与第一气动阀（62）连接，所述水管（9）远离喷水装置（6）的一端设有一组分支管道；所述加热装置（7）的一端设有过滤器（71）和第三气动阀（72）。5.根据权利要求4所述的抗干扰型晶圆旋转冲洗甩干设备，其特征在于：所述分支管道包括第一分支管道...

【专利技术属性】
技术研发人员：涂辉，
申请(专利权)人：谷微半导体科技江苏有限公司，
类型：新型
国别省市：