【技术实现步骤摘要】
吹扫喷嘴组件和包括该吹扫喷嘴组件的半导体处理组件
[0001]本公开总体上涉及吹扫喷嘴组件和包括该吹扫喷嘴组件的半导体处理组件。
技术介绍
[0002]对于半导体工业中的某些应用，开发了一种吹扫晶片盒的系统，该系统使用底部带有吹扫端口的晶片盒。该系统在放置晶片盒的某些位置需要吹扫喷嘴。放置晶片盒的界面可以是运动联接界面，该联接界面允许晶片盒在放置在这些联接上和/或以一定角度放置晶片盒期间向一侧移动。吹扫喷嘴可用于通过晶片盒的端口将无颗粒气体插入晶片盒。JP6519897B2公开了一种吹扫喷嘴组件。
技术实现思路
[0003]提供此
技术实现思路
是为了以简化的形式介绍概念选择。这些概念在以下公开的示例实施例的详细描述中被进一步详细描述。该
技术实现思路
不旨在标识所要求保护的主题的关键特征或必要特征，也不旨在用于限制所要求保护的主题的范围。
[0004]人们认识到，吹扫喷嘴靠着吹扫端口周围的晶片盒表面的放置应该以这样的方式进行，即可以最小化颗粒产生。通常，垫圈可以安装在晶片盒和/或吹扫喷嘴组件上的吹扫端口周围...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种吹扫喷嘴组件(10)，包括：
‑
吹扫喷嘴主体(12)，其包括入口开口(14)和出口开口(16)，其中出口开口(16)通向吹扫喷嘴接触表面(18)；
‑
安装主体(20)，用于将吹扫喷嘴组件(10)连接到外部框架构件；
‑
机械联接机构，其可移动地将吹扫喷嘴主体(12)与安装主体(20)联接，并且构造成：
‑
允许吹扫喷嘴主体(12)相对于安装主体(20)倾斜；以及
‑
允许吹扫喷嘴主体(12)相对于安装主体(20)的显著横向运动，其中横向运动具有基本平行于接触表面(18)的运动分量。2.根据权利要求1所述的吹扫喷嘴组件，其中，所述机械联接机构包括：
‑
至少一个弹簧(22)，其连接到所述吹扫喷嘴主体(12)和安装主体(20)，并且构造为在基本垂直于所述吹扫喷嘴接触表面(18)并且指向远离吹扫喷嘴接触表面(18)的方向上相对于安装主体(20)偏压吹扫喷嘴主体(12)；
‑
与吹扫喷嘴主体(12)和安装主体(20)连接的多个拉动元件(24)，所述拉动元件(24)被至少一个弹簧(22)拉紧，以提供吹扫喷嘴主体(12)相对于安装主体(20)的限定的初始位置。3.根据权利要求2所述的吹扫喷嘴组件，其中，所述拉动元件(24)各自沿拉动方向施加拉力，其中多个拉动元件(24)的拉动方向的交叉点(P)基本在由所述吹扫喷嘴接触表面(18)限定的平面内。4.根据权利要求3所述的吹扫喷嘴组件，其中，所述交叉点(P)位于所述吹扫喷嘴主体(12)的中心轴线(L)上，该中心轴线(L)基本垂直于由吹扫喷嘴接触表面(18)限定的平面。5.根据权利要求3或4所述的吹扫喷嘴组件，其中，所述出口开口(16)限定出口轴线，该出口轴线与所述吹扫喷嘴主体(12)的中心轴线(L)共线。6.根据权利要求2至5中任一项所述的吹扫喷嘴组件，其中，所述至少一个弹簧(22)包括至少一个推动弹簧。7.根据权利要求2至5中任一项所述的吹扫喷嘴组件，其中，所述至少一个弹簧(22)包括至少一个拉动弹簧。8.根据权利要求2至7中任一项所述的吹扫喷嘴组件，其中，每个拉动元件(24、24)包括缆绳、绳索、链条。9.根据权利要求2至8中任一项所述的吹扫喷嘴组件，其中，每个拉动元件(24)包括单个连杆，该连杆可滑动地且可枢转地与所述吹扫喷嘴主体(12)和安装主体(20)中的一个连接，并且该连杆至少可枢转地且可选地也可滑动地与吹扫喷嘴主体(12)和安装主体(20)中的另一个连接。10.根据权利要求2至9中任一项所述的吹扫喷嘴组件，其中，所述多个拉动元件(24)包括三个拉动元件(24)。11.根据权利要求2至10中任一项所述的吹扫喷嘴组件，其中，所述至少一个弹簧(22)是单个弹簧。12.根据权利要求2至10中任一项所述的吹扫喷嘴组件，其中，所述至少一个弹簧(22)是多个弹簧，例如三个弹簧。13.根据权利要求2至12中任一项所述的吹扫喷嘴组件，其中，所述至少一个弹簧(22)
是螺旋弹簧。14.根据权利要求2至13中任一项所述的吹扫喷嘴组件，其中，所述吹扫喷嘴主体(12)在吹扫喷嘴主体(12)的圆周外表面中具有圆形凹槽，吹扫主体环(26)安装在所述圆形凹槽中，...
【专利技术属性】
技术研发人员：CGM德里德，KP伯昂斯特拉，
申请(专利权)人：ASMIP私人控股有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。