一种基板清洗输送装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种基板清洗输送装置，包括机架、基片吊装工装、桁架机械手，所述机架的左右两侧分别设置有出料位、进料位，所述机架的内部上方设置有二维运输机构，且内部下方设置有清洗机构，所述二维运输机构包括X轴运动机构、Z轴运动机构，所述X轴运动机构上设置有Z轴运动机构，所述Z轴运动机构上设置有桁架机械手，所述桁架机械手对应基片吊装工装设置有夹爪机构，所述基片吊装工装为镂空结构。本实用新型专利技术通过二维运输机构驱动桁架机械手将装有基板的基片吊装工装导入清洗机构中进行清洗，实现了自动化的进料、清洗、出料，有效提高了工作效率，同时保证了操作的安全性，具有较好的实用性。较好的实用性。较好的实用性。

【技术实现步骤摘要】
一种基板清洗输送装置


[0001]本技术属于基板清洗设备的
，具体涉及一种基板清洗输送装置。

技术介绍

[0002]掩模版（mask）简称掩模，是光刻工艺不可缺少的部件。掩模上承载有设计图形，光线透过它，把设计图形透射在光刻胶上。掩模的性能直接决定了光刻工艺的质量。在工业生产中，掩模版(MASK)在使用一段时间后表面会沉积金属层及油污、杂质等，影响了后续的加工程序，使用性能降低。因此，需要定期对掩模版基板进行清洗。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于提供一种基板清洗输送装置，通过二维运输机构驱动桁架机械手将装有基板的基片吊装工装导入清洗机构中进行清洗，实现自动化输送清洗，有效提高工作效率，同时保证操作的安全性，具有较好的实用性。
[0004]本技术主要通过以下技术方案实现：
[0005]一种基板清洗输送装置，包括机架、基片吊装工装、桁架机械手，所述机架的左右两侧分别设置有出料位、进料位，所述机架的内部上方设置有二维运输机构，且内部下方设置有清洗机构，所述二维运输机构包括X轴运动机构、Z轴运动机构，所述X本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基板清洗输送装置，其特征在于，包括机架（11）、基片吊装工装（30）、桁架机械手（31），所述机架（11）的左右两侧分别设置有出料位（15）、进料位（14），所述机架（11）的内部上方设置有二维运输机构，且内部下方设置有清洗机构，所述二维运输机构包括X轴运动机构（33）、Z轴运动机构（34），所述X轴运动机构（33）上设置有Z轴运动机构（34），所述Z轴运动机构（34）上设置有桁架机械手（31），所述桁架机械手（31）对应基片吊装工装（30）设置有夹爪机构（32），所述基片吊装工装（30）为镂空结构。2.根据权利要求1所述的一种基板清洗输送装置，其特征在于，所述基片吊装工装（30）包括镂空的架体（301）以及引导块（302）、接触导块（303），所述架体（301）内部设置有卡槽，且卡槽的一端设置有进出料口，所述进出料口的两端分别设置有引导块（302），所述卡槽的内部沿周向设置有若干个接触导块（303）。3.根据权利要求2所述的一种基板清洗输送装置，其特征在于，所述卡槽的内部的两侧以及底侧分别沿长度方向设置有若干个接触导块（303）；所述架体（301）的底部两端分别设置有支撑垫块。4.根据权利要求1所述的一种基板清洗输送装置，其特征在于，所述夹爪机构（...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨伟，张小林，
申请(专利权)人：注能光学仪器科技苏州有限公司，
类型：新型
国别省市：