一种基板清洗系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种基板清洗系统，包括安装在机架上的壳体，所述壳体的顶部设置有排风系统，且前侧面设置有观察窗；所述机架的内部上方设置有二维运输机构，且内部的下方从进料位至出料位的方向依次设置有第一超声清洗槽、去金属槽、表面化学处理槽、第二超声清洗槽；所述进料位设置有基片吊装工装，所述二维运输机构包括X轴运动机构、Z轴运动机构，所述X轴运动机构上设置有Z轴运动机构，所述Z轴运动机构上设置有桁架机械手，所述桁架机械手对应基片吊装工装设置有夹爪机构。本实用新型专利技术实现了相对密闭的自动化的进料、清洗、出料的操作，提高了工作效率的同时保证了清洗操作的环保安全度，具有较好的实用性。具有较好的实用性。具有较好的实用性。

【技术实现步骤摘要】
一种基板清洗系统


[0001]本技术属于基板清洗设备的
，具体涉及一种基板清洗系统。

技术介绍

[0002]掩模版（mask）简称掩模，是光刻工艺不可缺少的部件。掩模上承载有设计图形，光线透过它，把设计图形透射在光刻胶上。掩模的性能直接决定了光刻工艺的质量。在工业生产中，掩模版(MASK)在使用一段时间后表面会沉积金属层及油污、杂质等，影响了后续的加工程序，使用性能降低。因此，需要定期对掩模版基板进行清洗。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于提供一种基板清洗系统，通过壳体实现整体清洗系统的相对密闭，通过二维运输机构与桁架机械手实现自动化的进料、清洗、出料，本技术有效提高了工作效率，同时保证了清洗操作的环保安全度，具有较好的实用性。
[0004]本技术主要通过以下技术方案实现：
[0005]一种基板清洗系统，包括壳体，所述壳体的顶部设置有排风系统，且前侧面设置有观察窗；所述壳体安装在机架上，所述机架的左右两侧分别设置有出料位、进料位，所述机架的内部上方设置有二维运输机构，且内部的下方从进料位至出料位的方向依次设置有第一超声清洗槽、去金属槽、表面化学处理槽、第二超声清洗槽；所述进料位设置有基片吊装工装，所述二维运输机构包括X轴运动机构、Z轴运动机构，所述X轴运动机构上设置有Z轴运动机构，所述Z轴运动机构上设置有桁架机械手，所述桁架机械手对应基片吊装工装设置有夹爪机构。
[0006]本技术在使用过程中，壳体嵌入式的安装在机架上，且侧壁设置有进风口、顶部设置有排风系统，前侧设置有观察窗，方便施工过程的监测观看，所述系统两侧的进料位、出料位对应设置有自动感应门，整体系统相对密闭的状态。将基板装入基片吊装工装内，然后放入进料位，所述X轴运动机构驱动桁架机械手沿X方向移动至进料位的上方，然后通过Z轴运动机构驱动桁架机械手下降至设定位置，然后桁架机械手通过驱动夹爪机构抓取基片吊装工装，后续在二维运输机构的驱动下依次放入第一超声清洗槽、去金属槽、表面化学处理槽、第二超声清洗槽中进行浸泡清洗，清洗完成后将基片吊装工装输送至出料位处，所述桁架机械手通过驱动夹爪机构松开基片吊装工装，以方便进行后续的运输操作。本技术实现了整体清洗系统的相对密闭以及自动化的进料、清洗、出料，保证了清洗操作的环保安全度，有效提高了工作效率，具有较好的实用性。
[0007]为了更好地实现本技术，进一步地，所述去金属槽、表面化学处理槽的顶部分别设置有自动密封盖；所述第一超声清洗槽、第二超声清洗槽的一侧分别设置有超声振子，所述第二超声清洗槽顶部设置有风切机构。
[0008]本技术在使用过程中，将基板依次放入第一超声清洗槽、去金属槽、表面化学处理槽、第二超声清洗槽进行浸泡清洗，且通过第二超声清洗槽上的风切机构实现对基板
表面的清洗液进行风干，方便后续程序的操作，且保证了操作环境的环保安全性。所述去金属槽、表面化学处理槽的顶部通过自动密封盖实现自动开关，具有自锁功能，降低对施工环境的污染，提高操作的安全性，具有较好的实用性。
[0009]为了更好地实现本技术，进一步地，所述风切机构包括风管、风嘴，所述第二超声清洗槽的槽体顶部两侧分别沿长度方向设置有风管，所述风管上设置有若干个风嘴。本技术通过风机与风管连接，并通过风嘴的设置产生高压气流，以实现短时间对基板进行风干，具有较好的实用性。
[0010]为了更好地实现本技术，进一步地，还包括供水装置，所述供水装置包括储水罐、纯水机、管路系统，所述管路系统包括溢流管路机构、注水管路机构、排放管路机构；所述储水罐与纯水机连接，所述纯水机通过注水管路机构分别为第一超声清洗槽、去金属槽、表面化学处理槽、第二超声清洗槽供水；所述第一超声清洗槽、去金属槽、表面化学处理槽、第二超声清洗槽的顶部分别与溢流管路机构、注水管路机构连接，且底部分别与排放管路机构连接。
[0011]为了更好地实现本技术，进一步地，所述排放管路机构包括第一排水管、第二排水管，所述第一超声清洗槽、第二超声清洗槽的排水口分别与第一排水管连接，所述表面化学处理槽、去金属槽的排水口分别与第二排水管连接。
[0012]所述第一超声清洗槽、第二超声清洗槽内部的清洗液类似，所述表面化学处理槽、去金属槽内部的清洗液要更耐腐蚀，因此，将第一超声清洗槽、第二超声清洗槽内的清洗液通过第一排水管排出，而表面化学处理槽、去金属槽内的清洗液通过第二排水管排出。
[0013]为了更好地实现本技术，进一步地，所述自动密封盖包括开关盖气缸、压紧气缸、槽盖，所述去金属槽、表面化学处理槽的槽体顶部分别设置有槽盖，且侧边设置有压紧气缸，所述压紧气缸的驱动端设置有位于槽盖上方的限位压紧块，所述槽盖的一侧设置有开关盖气缸，所述开关盖气缸的驱动端与槽盖连接。
[0014]为了更好地实现本技术，进一步地，所述去金属槽、表面化学处理槽的左侧的两端分别设置有开关盖气缸，且前后两侧分别设置有压紧气缸。
[0015]本技术在使用过程中，可以在槽体的顶部滑动设置槽盖，槽盖的一侧设置有开关盖气缸，当压紧气缸处于松弛的状态时，此时槽盖与限位压紧块分离，可以通过开关盖气缸驱动槽盖沿槽体的顶部直线滑动；当开关盖气缸驱动槽盖覆盖槽体的顶部开口时，驱动压紧气缸带动限位压紧块压紧槽盖，从而实现槽盖的密封自锁。
[0016]为了更好地实现本技术，进一步地，所述基片吊装工装包括镂空的架体以及引导块、接触导块，所述架体内部设置有卡槽，且卡槽的一端设置有进出料口，所述进出料口的两端分别设置有引导块，所述卡槽的内部沿周向设置有若干个接触导块。
[0017]为了更好地实现本技术，进一步地，所述卡槽的内部的两侧以及底侧分别沿长度方向设置有若干个接触导块；所述架体的底部两端分别设置有支撑垫块。
[0018]本技术在使用过程中，先将基板通过进出料口插入卡槽内，所述引导块用于对进出基板进行导向及定位，基板的两侧与架体之间沿周向设置有若干个接触导块，所述接触导块与基板之间预留1mm的间隙，避免在移动过程中出现较大的晃动。所述引导块、接触导块、支撑垫块分别采用耐腐蚀材料制备得到，例如聚四氟乙烯材料。
[0019]为了更好地实现本技术，进一步地，所述夹爪机构包括夹爪气缸和夹爪手指，
所述夹爪气缸的两侧分别设置有夹爪手指，所述夹爪手指的工作端设置有定位槽，所述基片吊装工装对应设置有夹持定位端。
[0020]当夹爪机构达到进料位的设定位置时，此时夹爪手指位于基片吊装工装的两侧，驱动夹爪气缸使两侧的夹爪手指相互靠近，最终实现基片吊装工装稳固的被两侧的夹爪手指夹取，此时停止夹爪气缸，通过二维运输机构驱动夹爪机构运动到指定清洗位置。所述夹爪手指与基片吊装工装的夹持定位端接触的一端为工作端，所述夹爪手指的工作端通过定位槽的设置提高与基片吊装工装夹持定位端的抓取稳定性，避免移动过程中的工装晃动。所述夹爪手指进入清洗溶液的部件，采用聚四氟乙烯制作。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基板清洗系统，其特征在于，包括壳体（10），所述壳体（10）的顶部设置有排风系统（12），且前侧面设置有观察窗（13）；所述壳体（10）安装在机架（11）上，所述机架（11）的左右两侧分别设置有出料位（15）、进料位（14），所述机架（11）的内部上方设置有二维运输机构，且内部的下方从进料位（14）至出料位（15）的方向依次设置有第一超声清洗槽（20）、去金属槽（21）、表面化学处理槽（22）、第二超声清洗槽（23）；所述进料位（14）设置有基片吊装工装（30），所述二维运输机构包括X轴运动机构（33）、Z轴运动机构（34），所述X轴运动机构（33）上设置有Z轴运动机构（34），所述Z轴运动机构（34）上设置有桁架机械手（31），所述桁架机械手（31）对应基片吊装工装（30）设置有夹爪机构（32）。2.根据权利要求1所述的一种基板清洗系统，其特征在于，所述去金属槽（21）、表面化学处理槽（22）的顶部分别设置有自动密封盖（24）；所述第一超声清洗槽（20）、第二超声清洗槽（23）的一侧分别设置有超声振子，所述第二超声清洗槽（23）顶部设置有风切机构。3.根据权利要求2所述的一种基板清洗系统，其特征在于，所述风切机构包括风管、风嘴，所述第二超声清洗槽（23）的槽体顶部两侧分别沿长度方向设置有风管，所述风管上设置有若干个风嘴。4.根据权利要求2所述的一种基板清洗系统，其特征在于，还包括供水装置，所述供水装置包括储水罐（26）、纯水机（27）、管路系统，所述管路系统包括溢流管路机构（01）、注水管路机构（02）、排放管路机构（03）；所述储水罐（26）与纯水机（27）连接，所述纯水机（27）通过注水管路机构（02）分别为第一超声清洗槽（20）、去金属槽（21）、表面化学处理槽（22）、第二超声清洗槽（23）供水；所述第一超声清洗槽（20）、去金属槽（21）、表面化学处理槽（22）、第二超声清洗槽（23）的顶部分别与溢流管路机构（01）、注水管路机构（02）连接，且底部分别与排放管路机构（03）连接。5.根据权利要求4所述的一种基板清洗系统，其特征在于，所述排放管路机构（03）...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨伟，张小林，
申请(专利权)人：注能光学仪器科技苏州有限公司，
类型：新型
国别省市：