【技术实现步骤摘要】
具有除氧化物结构的旋转靶材绑定装置
[0001]本技术涉及磁控溅射靶材制备
,特别涉及一种具有除氧化物结构的旋转靶材绑定装置。
技术介绍
[0002]近年来,采用溅射法制备的薄膜材料因其高致密度、优良附着性等优点,受到平面显示器、电子控制器、玻璃镀膜、光学薄膜等行业的青睐。随着上述领域的高速发展,溅射靶材的需求量急剧增加。根据溅射面的形状,靶材通常可分为平面靶材,旋转靶材和异型靶材。平面靶材溅射使用可达到30%~40%,而旋转靶材溅射使用率可达到80%,旋转靶材呈空心圆管状,能够围绕在固定的磁控溅射设备上旋转,可360度均匀刻蚀靶面,这样均匀的使用让靶材表面光滑,减少“结瘤”现象的产生,提升镀膜均匀性,提高靶材的利用率,从而降低镀膜成本,因此旋转靶材是未来发展的一大趋势。
[0003]在旋转靶材的制备工艺中,对于无法用喷涂浇筑方式生产的陶瓷靶材和某些金属靶材,需用绑定贴合法(绑定)将需要溅射的靶材与背管绑定。目前绑定方法大多是将直径较大的外管靶材套在直径相对较小的背管上,用金属铟或导电胶等具有良好导电导热性能的 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.具有除氧化物结构的旋转靶材绑定装置,旋转靶材包括背管和多节环状靶管,绑定装置包括底座、注铟装置和背管安装位,其特征是,还包括硬质波纹片,环状靶管套在背管外的状态下,所述硬质波纹片能以同时接触背管外壁和靶管内壁的方式设在背管与靶管之间的间隙内。2.根据权利要求1所述的具有除氧化物结构的旋转靶材绑定装置,其特征是,所述硬质波纹片是耐高温的PI/PBI片或者硬质金属片。3.根据权利要求1所述的具有除氧化物结构的旋转靶材绑定装置,其特征是,硬质波纹片的波纹为连续的两侧外凸的弧形,外凸的最大距离略小于靶材与背管之间的间隙宽度。4.根据权利要求3所述的具有除氧化物结构的旋转靶材绑定装置,其特征是,所述硬质波纹片在竖向压力下竖向压缩横向外张,从而实现硬质波纹片的弧形边缘与背管外表面和靶管内表面都接触。5.根据权利要求1所述的具有除氧化物结构的旋转靶材绑...
【专利技术属性】
技术研发人员:雷雨,周志宏,肖世洪,周昭宇,汪政军,刘芳,
申请(专利权)人:广州市尤特新材料有限公司,
类型:新型
国别省市:
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