一种防眩光低反射膜及其制作方法技术

本发明专利技术公开一种防眩光低反射膜及其制作方法，制作方法包括步骤：在衬底上喷涂防眩光涂层；将衬底置于预固化设备中，对防眩光涂层进行加热预固化；使衬底进入磁控溅射设备的真空腔体中，调整磁控溅射设备的高低折射率靶材的溅射功率和ICP的离化功率，以空镀方式对防眩光涂层进行第一次固化；在磁控溅射设备中进行磁控溅射镀膜，使在防眩光涂层上形成减反射膜层，且使防眩光涂层进行第二次固化。本发明专利技术中，省去了将防眩光涂层置入固化炉中高温固化的工艺流程，有效缩短了防眩光低反射膜的制作工艺流程。工艺流程。工艺流程。

【技术实现步骤摘要】
一种防眩光低反射膜及其制作方法


[0001]本专利技术涉及防眩光膜制作
，尤其涉及一种防眩光低反射膜及其制作方法。

技术介绍

[0002]眩光是一种视觉状态，是指视野中由于不适宜亮度分布或在空间、时间上存在极端的亮度对比，以致引起视觉不舒适和降低物体可见度的视觉条件。视野内产生人眼无法适应之光亮感觉，可能引起厌恶、不舒服等情况，且是引起视觉疲劳的重要原因之一。
[0003]在汽车(或电动车等)的例如前挡风玻璃等上尤其需要进行防眩光处理。同时，还需要进行减反射处理，即减少或消除前挡风玻璃表面的反射光，从而增加其透光量，减少或消除其的杂散光。
[0004]目前，制作防眩光低反射膜时，先采用喷涂方式将防眩光膜涂在衬底上，然后对衬底进行预热处理，然后再进行高温固化，待固化完毕后，采用磁控溅射工艺做减反射膜，最终实现防眩光和减反射效果。但是，通过上述方法制作防眩光低反射膜时，工艺流程较多。

技术实现思路

[0005]本专利技术公开一种防眩光低反射膜及其制作方法，用于解决现有技术中，制作工艺流程较多的问题。
[0006]为了解决上述问题，本专利技术采用下述技术方案：
[0007]提供一种防眩光低反射膜的制作方法，包括步骤：
[0008]步骤S10，在衬底上喷涂防眩光涂层；
[0009]步骤S20，将衬底置于预固化设备中，对所述防眩光涂层进行加热预固化；
[0010]步骤S30，使衬底进入磁控溅射设备的真空腔体中，调整所述磁控溅射设备的高低折射率靶材的溅射功率和ICP的离化功率，以空镀方式对所述防眩光涂层进行第一次固化；
[0011]步骤S40，在所述磁控溅射设备中进行磁控溅射镀膜，使在所述防眩光涂层上形成减反射膜层，且使所述防眩光涂层进行第二次固化。
[0012]可选的，所述高低折射率靶材的溅射功率和所述ICP的离化功率在磁控溅射镀膜时与空镀时相同。
[0013]可选的，所述防眩光涂层在加热预固化时的温度与空镀时的温度差大于40℃。
[0014]可选的，所述防眩光涂层在加热预固化时的温度不高于80℃，而在空镀时的温度不低于100℃。
[0015]可选的，所述防眩光涂层在加热预固化时的温度为60
‑
80℃。
[0016]可选的，所述防眩光涂层在空镀时的温度为100
‑
150℃。
[0017]可选的，加热预固化时所用的时间小于空镀时所用的时间和磁控溅射镀膜时所用的时间。
[0018]可选的，加热预固化时所用的时间为6
‑
8min。
[0019]可选的，空镀时所用的时间为30
‑
45min。
[0020]可选的，磁控溅射镀膜时所用的时间为30
‑
45min。
[0021]可选的，所述高低折射率靶材的溅功率大于或等于12KW，所述ICP的离化功率大于4KW。
[0022]可选的，所述防眩光涂层的材质为氧化硅。
[0023]还提供一种根据上述中任一项所述的制作方法制作的防眩光低反射膜，包括：
[0024]衬底；
[0025]防眩光涂层，所述防眩光涂层喷涂在所述衬底上；
[0026]减反射膜层，所述减反射膜层镀设在所述防眩光涂层。
[0027]本专利技术采用的技术方案能够达到以下有益效果：
[0028]在磁控溅射设备中镀设减反射膜层的过程中，实现了对防眩光涂层的固化。这样，省去了将防眩光涂层置入固化炉中高温固化的工艺流程，有效缩短了防眩光低反射膜的制作工艺流程。而且制作的防眩光涂层的致密性好，防眩效果好。
附图说明
[0029]为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，构成本专利技术的一部分，本专利技术的示意性实施例及其说明解释本专利技术，并不构成对本专利技术的不当限定。在附图中：
[0030]图1为现有技术公开的防眩光低反射膜的制作流程图；
[0031]图2为本专利技术实施例公开的防眩光低反射膜的结构示意图。
[0032]其中，附图1
‑
2中具体包括下述附图标记：
[0033]衬底
‑
1；防眩光涂层
‑
2；减反射膜层
‑
3。
具体实施方式
[0034]为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本专利技术具体实施例及相应的附图对本专利技术技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0035]本专利技术的防眩光低反射膜的制作方法，如图1、图2所示，具体包括步骤：
[0036]步骤S10，在衬底1上喷涂防眩光涂层2；
[0037]步骤S20，将衬底1置于预固化设备中，对防眩光涂层2进行加热预固化；
[0038]步骤S30，使衬底1进入磁控溅射设备的真空腔体中，调整磁控溅射设备的高低折射率靶材的溅射功率和ICP的离化功率，以空镀方式对防眩光涂层2进行第一次固化；
[0039]步骤S40，在磁控溅射设备中进行磁控溅射镀膜，使在防眩光涂层2上形成减反射膜层3，且使防眩光涂层2进行第二次固化。
[0040]通过上述方法制作防眩光低反射膜，在磁控溅射设备中镀设减反射膜层3的过程中，实现了对防眩光涂层2的固化。这样，省去了将防眩光涂层2置入固化炉中高温固化的工艺流程，有效缩短了防眩光低反射膜的制作工艺流程。而且制作的防眩光涂层2的致密性好，防眩效果好。
[0041]步骤S10中，衬底1可以为玻璃衬底1或亚克力衬底1等，根据使用需求具体设定，以适用于多种使用场合，可以应用于例如车辆的挡风玻璃、后视镜，也可以应用于显示模组的盖板，例如车载中控屏、车载仪表屏、手机或电脑等显示模组的盖板。防眩光涂层2的材质可以为氧化硅，成本低，其通过喷涂工艺涂在衬底1上，且在喷涂防眩光涂层2之前，可以对衬底1先进行清洗。
[0042]步骤S20中，预固化设备可以为UV预固化设备，紫外光预固化的成膜速度快、涂层透明性好、力学性能优良。对防眩光涂层2加热预固化时，防眩光涂层2的温度不高于80℃，在一个优选的例子中，对防眩光涂层2加热预固化时，防眩光涂层2的温度为60
‑
80℃，使防眩光涂层2附着在衬底1上的同时，尽可能避免防眩光涂层2对衬底1造成较大应力。对防眩光涂层2的加热预固化时间可以为6
‑
8min，使防眩光涂层2较好的附着在衬底1上，减少溅射镀膜时，对防眩光涂层2造成损坏。
[0043]步骤S30中，空镀，即仅有高能量的气体离子(例如氩离子等)高速轰击防眩光涂层2，使防眩光涂层2在高速气体离子轰击下产生热量，进行第一次固化，并且可以由高速气体打掉防眩光涂层2表面的杂质及有机物，提高防眩光本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种防眩光低反射膜的制作方法，其特征在于，包括步骤：步骤S10，在衬底上喷涂防眩光涂层；步骤S20，将衬底置于预固化设备中，对所述防眩光涂层进行加热预固化；步骤S30，使衬底进入磁控溅射设备的真空腔体中，调整所述磁控溅射设备的高低折射率靶材的溅射功率和ICP的离化功率，以空镀方式对所述防眩光涂层进行第一次固化；步骤S40，在所述磁控溅射设备中进行磁控溅射镀膜，使在所述防眩光涂层上形成减反射膜层，且使所述防眩光涂层进行第二次固化。2.根据权利要求1所述的防眩光低反射膜的制作方法，其特征在于，所述高低折射率靶材的溅射功率和所述ICP的离化功率在磁控溅射镀膜时与空镀时相同。3.根据权利要求1所述的防眩光低反射膜的制作方法，其特征在于，所述防眩光涂层在加热预固化时的温度与空镀时的温度差大于40℃。4.根据权利要求3所述的防眩光低反射膜的制作方法，其特征在于，所述防眩光涂层在加热预固化时的温度不高于80℃，而在空镀时的温度不低于100℃。5.根据权利要求4所述的防眩光低反射膜的制作方法，其特征在于，所述防眩光涂层在加热预固化时的温度为60
‑
80℃。6.根据权利要求5所述的防眩光低反射膜的制作方法，其特征在于，所述防眩光涂层在空镀时的温度为100
‑...

【专利技术属性】
技术研发人员：周伟杰，
申请(专利权)人：信利光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：