光刻机参数状态检测方法、装置、设备及其存储介质制造方法及图纸

本申请公开了一种光刻机参数状态检测方法、装置、设备及其存储介质，该方法包括获取工作时的光刻机的各种工作参数；将各种工作参数转换成对应的工作图形界面并量化；对比工作图形界面与对应的正常图形界面的偏差，若偏差在预设范围内，则工作时的光刻机指标合格；若偏差超过预设范围，则工作时的光刻机出现故障。本申请提供的上述技术方案，通过将工作时的光刻机的各种工作参数转换成对应的工作图形界面，根据工作图形界面来判断光刻机的各个参数是否出现异常，更加直观的对比出设备各项参数状态的变化，解决了传统方式依靠工程师停机检查及设备仪器检测时效性低的问题，同时避免了因为设备参数变化跟踪不及时导致产品的批量报废。报废。报废。

【技术实现步骤摘要】
光刻机参数状态检测方法、装置、设备及其存储介质


[0001]本专利技术涉及光刻机
，具体涉及一种光刻机参数状态检测方法、装置、设备及其存储介质。

技术介绍

[0002]光刻机是集成电路生产和制造过程中的关键设备之一，光刻机在持续的工作状态中，因为外界温湿度、净化度等环境影响，同时由于工作时联动的零部件很多，容易出现马达丢步，光路偏移，能量衰减等一系列的故障，从而影响掩模版的图形质量。
[0003]目前在检查光刻机的图形质量时，主要是通过跟踪设备各个部件的参数变化或者在停机时通过工程师对各个设备仪器进行检测，这样不但效率低下，而且在设备参数变化跟踪不及时容易导致产品的批量报废。

技术实现思路

[0004]鉴于现有技术中的上述缺陷或不足，期望提供一种光刻机参数状态检测方法、装置、设备及其存储介质。
[0005]第一方面，本申请实施例提供了一种光刻机参数状态检测方法，该方法至少包括以下步骤：
[0006]获取工作时的光刻机的各种工作参数；
[0007]将各种所述工作参数转换成对应的工作图形界面并量本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光刻机参数状态检测方法，其特征在于，该方法至少包括以下步骤：获取工作时的光刻机的各种工作参数；将各种所述工作参数转换成对应的工作图形界面并量化；对比所述工作图形界面与对应的正常图形界面的偏差，若所述偏差在预设范围内，则工作时的光刻机指标合格；若所述偏差超过预设范围，则工作时的光刻机出现故障。2.根据权利要求1所述的光刻机参数状态检测方法，其特征在于，该方法包括：获取工作时的光刻机的Focus参数，所述Focus为光刻机曝光时的镜头与掩膜版之间的距离；将所述Focus参数转换成黑白交界的正方块并量化；对比所述黑白交界的正方块与对应的正常图形界面的偏差，当所述黑白交界的正方块的长宽不相等或者90
°
角的清晰度小于预设值时，则判定工作时的Focus参数有异常。3.根据权利要求1所述的光刻机参数状态检测方法，其特征在于，该方法包括：获取工作时的光刻机的CD bias参数，所述CD bias为曝光时xy方向实际线条效果与设计值之间的偏差；将所述CD bias参数转换成横竖线条并量化；对比所述横竖线条区域的透光率与预设值之间的偏差，当所述偏差值超过阈值时，则判定所述CD bias参数有异常。4.根据权利要求1所述的光刻机参数状态检测方法，其特征在于，该方法包括：获取工作时的光刻机的PPX
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PPY参数，所述PPX
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PPY参数为光刻机的激光器出光后经过两条光路处理后合并成完全重叠的同一个光斑；将所述PPX
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PPY参数转换成对应的内十字图形和外十字图形并量化；对比所述内十字图形和所述外十字图形之间的重合度，当所述重合度超过预设值时，则判定所述PPX
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PPY参数有异常。5.根据权利要求1所述的光刻机参数状态检测方法，其特征在于，该方法包括：获取工作时的光刻机的zoom参数，所述zoom参...

【专利技术属性】
技术研发人员：叶小龙，侯广杰，谢超，王栋，
申请(专利权)人：深圳市龙图光电有限公司，
类型：发明
国别省市：