荧光X射线分析设备制造技术

为提供荧光Ｘ射线分析设备，由此通过有效地激发聚焦元素改进峰－背比例且通过减小为背景的散射Ｘ射线改进聚焦元素的检测限度。样品外壳具有一个或更多由Ｘ射线传输通过的材料制成的壁表面，且布置Ｘ射线源为初级Ｘ射线照射到壁表面上。布置样品外壳为不同于初级Ｘ射线照射到的壁表面的壁表面与Ｘ射线检测器入射窗相对。布置来自Ｘ射线源的初级Ｘ射线以便能够照射Ｘ射线检测器入射窗相对的样品外壳的壁表面。样品外壳具有随着从Ｘ射线检测器入射窗观察Ｘ射线检测器内的检测元件的视场延伸而延伸的形状。在样品外壳壁上，用于次级激发聚焦元素的金属布置在除了初级Ｘ射线传输通过的区域和来自聚焦元素的荧光Ｘ射线传到检测器的区域的区域上。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及荧光X射线分析设备，其通过在测量样品上照射初级X射线，从测量样品诱发荧光X射线，并测量该荧光X射线的能量和X射线的强度，进行测量样品的元素分析和成分分析。
技术介绍
参考图10描述常规通常的荧光X射线分析设备。跨过水平的测量样品基座1003， 测量样品1005布置在测量样品基座1003的上方，X射线源1001，初级滤光器1002，和检测器1007布置在测量样品基座1003的下面。参考数字1004指示从X射线源1001照射的初级X射线，参考数字1006指示当测量样品1005由初级X射线1004激发时产生的荧光X射线。这样，常规地，测量样品的表面上的初级X射线的照射表面和测量样品的表面上的与检测器相对的表面在相同平面上。另外，通常通过让检测器和X射线源尽可能地接近测量样品改进来自聚焦元素的荧光X射线的检测效率。另外，提供了具有初级滤光器的设备，以便改进聚焦元素的荧光X射线的峰强度和主要基于散射X射线等的背景强度之间的比例(此后，称为峰-背比例)；使用次级靶的设备；以及使用使X射线成为单色并聚焦X射线的光学装置的设备，然而，所有这些设备具有使得检测器与初级X射线照射的点相对本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种荧光Ｘ射线分析设备，其包括：　　　　用于容纳固体样品或液体样品的样品密封构件，其由Ｘ射线传输通过的材料制成；　　　　用于产生初级Ｘ射线的Ｘ射线源，初级Ｘ射线以放射状的方式从样品密封构件的侧壁进入，以便用Ｘ射线照射样品；及　　　　检测器，其与样品密封构件的底面相对设置，并具有在样品的方向内从入射点延伸至检测元件的入射立体角，用于检测从给予初级Ｘ射线的样品产生的荧光Ｘ射线；　　　　其中荧光Ｘ射线分析设备从检测的荧光Ｘ射线的谱进行样品的元素的分析。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：深井隆行，的场吉毅，高桥正则，
申请(专利权)人：精工电子纳米科技有限公司，
类型：发明
国别省市：JP[日本]