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为提供荧光Ｘ射线分析设备，由此通过有效地激发聚焦元素改进峰－背比例且通过减小为背景的散射Ｘ射线改进聚焦元素的检测限度。样品外壳具有一个或更多由Ｘ射线传输通过的材料制成的壁表面，且布置Ｘ射线源为初级Ｘ射线照射到壁表面上。布置样品外壳为不同于初...
该专利属于精工电子纳米科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过精工电子纳米科技有限公司授权不得商用。

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