*Co－γ射线辐照加工用的双层辐照源架制造技术

一种↑［６０］Ｃｏ－γ射线辐照加工用的双层辐照源架，其特征在于它具有上源架（１４）和下源架（１５），上源架骑在下源架上，下源架依次具有挂钩（７）、挂钩板（６）、拉杆（５）、上支架（１）、中支架（２）、下支架（３），上、中、下支架由支撑杆（４）固定，上源架依次具有上支架（１０）、中支架（１１）、下支架（１２），上、中、下支架由支撑杆（１３）固定，在上、中、下支架上设有源棒定位孔（８）。（*该技术在2012年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：史建君，孙志明，赵小俊，
申请(专利权)人：浙江大学，
类型：实用新型
国别省市：