一种光罩镭雕用夹持机构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种光罩镭雕用夹持机构，包括光罩载台，光罩载台上开设放置槽，放置槽内对称安装两组夹紧组件，两组夹紧组件之间夹持待镭雕光罩，光罩载台下方设置底座，光罩载台与底座之间安装升降气缸和减震组件，本实用新型专利技术结构设计新颖，能够实现对光罩载台的升降，同时能够夹持不同尺寸的光罩，提高了光罩镭雕效率。镭雕效率。镭雕效率。

【技术实现步骤摘要】
一种光罩镭雕用夹持机构


[0001]本技术涉及光罩镭雕
，具体为一种光罩镭雕用夹持机构。

技术介绍

[0002]光罩(英文:Reticle, Mask):在制作IC的过程中，利用光蚀刻技术，在半导体上形成图型，为将图型复制於晶圆上，必须透过光罩作用的原理，类似于冲洗照片时，利用底片将影像复制至相片上。业内又称光掩模版、掩膜版，该产品是由石英玻璃作为衬底，在其上面镀上一层金属铬和感光胶，成为一种感光材料，把已设计好的电路图形通过电子激光设备曝光在感光胶上,被曝光的区域会被显影出来，在金属铬上形成电路图形，成为类似曝光后的底片的光掩模版，然后应用于对集成电路进行投影定位，通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻，其生产加工工序为:曝光，显影，去感光胶，最后应用于光蚀刻。
[0003]光罩镭雕时需要对光罩进行夹持固定，现有的夹持机构结构单一，无法有效的提高光罩镭雕效率。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种光罩镭雕用夹持机构，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光罩镭雕用夹持机构, 包括光罩载台（1），其特征在于：所述光罩载台（1）上开设放置槽（2），所述放置槽（2）内对称安装两组夹紧组件，两组所述夹紧组件之间夹持待镭雕光罩（3），所述光罩载台（1）下方设置底座（4），所述光罩载台（1）与所述底座（4）之间安装升降气缸（5）和减震组件。2.根据权利要求1所述的一种光罩镭雕用夹持机构，其特征在于：每组所述的夹紧组件包括顶推气缸（6）和顶紧板（7），所述顶推气缸（6）安装于放置槽（2）侧壁和顶紧板（7）之间，所述顶紧板（7）表面包覆橡...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑永庆，张衡，陈宏渊，
申请(专利权)人：艾斯尔光电南通有限公司，
类型：新型
国别省市：