一种高强度晶圆光刻掩膜版制造技术

本技术提供一种高强度晶圆光刻掩膜版，属于光刻掩膜版技术领域，以解决在光刻掩膜版的反复使用过程中，每次使用前和使用完毕后都需要操作人员对掩膜版进行拿取和存放，操作较为不便问题，包括支撑辅助架，掩膜版主体固定连接在支撑辅助架的内侧；两个防护架左右对称往复滑动设置在支撑辅助架的外侧；两组驱动辅助结构分别设置在支撑辅助架下方的前后两侧；两组间距控制机构分别设置在两个驱动架与防护架之间；增阻辅助结构设置在两个防护架的内侧端面；简化了本技术在实际应用过程中的操作步骤，提高了本技术的使用便捷度，同时还避免了工作人员手部与掩膜版主体的直接接触，减缓了对掩膜版主体表层造成的污染和划痕的产生。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于光刻掩膜版，更具体地说，特别涉及一种高强度晶圆光刻掩膜版。

技术介绍

1、在晶圆光刻掩膜版的反复使用过程中，为了保证掩膜版的使用寿命，在掩膜版使用完毕后通常将其放置在防护盒内部，减缓掩膜版表层划痕的产生，保证掩膜版的使用效果，实现对晶圆光刻掩膜版在实际应用过程中的防尘工序。

2、如现有申请号cn201822152257.5，公开了一种光刻掩膜版，包括透明基板，所述透明基板包括第一表面和第二表面，所述第一表面形成有掩膜接触面图形化结构，所述掩膜接触面图形化结构包括多个凹沟道，所述凹沟道内形成有金属掩膜层；通过在基板面的表面根据掩膜的需求制作图形化凹沟道，在凹沟道内填充金属掩膜层，填充厚度与凹沟道深度一致，从而使基板面和金属掩膜层面处于同一平面，再用电化学抛光的方式去除剥离留下来的毛刺，大大提高了掩膜版接触面的表面平整度。

3、基于上述，在光刻掩膜版的反复使用过程中，每次使用前和使用完毕后都需要操作人员对掩膜版进行拿取和存放，操作较为不便，同时在拿取和存放掩膜版的过程中，由于工作人员手部与掩膜版的直接接触，不仅极易对掩膜版的表本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种高强度晶圆光刻掩膜版，包括支撑辅助架、掩膜版主体、两个防护架、两组驱动辅助结构、两组间距控制机构和增阻辅助结构，其特征在于：所述支撑辅助架的前后两侧开设有导向通槽；所述掩膜版主体固定连接在支撑辅助架的内侧；两个所述防护架左右对称往复滑动设置在支撑辅助架的外侧，防护架的内端为空腔结构；两组所述驱动辅助结构分别设置在支撑辅助架下方的前后两侧，所述驱动辅助结构包括有：驱动架，所述驱动架滑动设置在支撑辅助架下方的前后两侧；两组所述间距控制机构分别设置在两个驱动架与防护架之间，间距控制机构包括有：两组第一连杆，两组所述第一连杆分别铰接在驱动架顶部端面的左右两侧；所述增阻辅助结构设置在两个防...

【技术特征摘要】

1.一种高强度晶圆光刻掩膜版，包括支撑辅助架、掩膜版主体、两个防护架、两组驱动辅助结构、两组间距控制机构和增阻辅助结构，其特征在于：所述支撑辅助架的前后两侧开设有导向通槽；所述掩膜版主体固定连接在支撑辅助架的内侧；两个所述防护架左右对称往复滑动设置在支撑辅助架的外侧，防护架的内端为空腔结构；两组所述驱动辅助结构分别设置在支撑辅助架下方的前后两侧，所述驱动辅助结构包括有：驱动架，所述驱动架滑动设置在支撑辅助架下方的前后两侧；两组所述间距控制机构分别设置在两个驱动架与防护架之间，间距控制机构包括有：两组第一连杆，两组所述第一连杆分别铰接在驱动架顶部端面的左右两侧；所述增阻辅助结构设置在两个防护架的内侧端面。

2.如权利要求1所述一种高强度晶圆光刻掩膜版，其特征在于：所述驱动架底部端面固定连接有助力辅助架，所述助力辅助架与驱动架之间相互垂直。

3.如权利要求1所述一种高强度晶圆光刻掩膜版，其特征在于：所述支撑辅助架四个夹角的外侧开设有限位辅...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈宏渊，
申请(专利权)人：艾斯尔光电南通有限公司，
类型：新型
国别省市：