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本技术提供一种高强度晶圆光刻掩膜版，属于光刻掩膜版技术领域，以解决在光刻掩膜版的反复使用过程中，每次使用前和使用完毕后都需要操作人员对掩膜版进行拿取和存放，操作较为不便问题，包括支撑辅助架，掩膜版主体固定连接在支撑辅助架的内侧；两个防护架左...
该专利属于艾斯尔光电（南通）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过艾斯尔光电（南通）有限公司授权不得商用。

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