【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及纳米压印,尤其涉及纳米压印方法及纳米压印辊。
技术介绍
1、纳米压印技术是当前微纳米加工制造的前沿关键性技术,在纳米压印过程中,需要使用压印模板。但是在大批量生产过程中,通过单个压印模板依次进行压印,效率较低。
2、对此,现有技术提供了一种纳米压印用拼版模版的制备方法,其提供模版框架和至少两个单元模版,模版框架中包含至少两个子框架,单元模版上设有预置图案,将单元模版填充进子框架中,得到整版模版,随后,将整版模版压印在待压印模版上,得到拼版模版,并能够通过拼版模板加工纳米压印产品。但是其存在的问题是,需进行纳米压印的预置图案位于拼版模板的表面,且在进行纳米压印时,需要将待压印产品与拼版模板整体贴合,而拼版模板的整体尺寸较大,在纳米压印的过程中可能会因为拼版模板与待压印产品之间无法完全贴紧而产生气泡,影响压印效果,获得有缺陷的压印产品,进而影响显示效果或影响生产良率,造成成本的浪费。
技术实现思路
1、根据本专利技术的一个方面,本专利技术提供纳米压印方法,以解决现有技
...【技术保护点】
1.纳米压印方法,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的纳米压印方法,其特征在于,步骤S500包括:
3.根据权利要求1所述的纳米压印方法,其特征在于,还包括位于S300与步骤S400之间的:
4.根据权利要求1所述的纳米压印方法,其特征在于,步骤S400中,通过紫外线照射所述模板胶(4),以使所述模板胶(4)固化。
5.根据权利要求1-4任一项所述的纳米压印方法,其特征在于,通过步骤S100得到的所述单元软模版(1)至少包括两个不同的光栅结构;
6.根据权利要求5所述的纳米压印方法,其特征在于,多个所
...【技术特征摘要】
1.纳米压印方法,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的纳米压印方法,其特征在于,步骤s500包括:
3.根据权利要求1所述的纳米压印方法,其特征在于,还包括位于s300与步骤s400之间的:
4.根据权利要求1所述的纳米压印方法,其特征在于,步骤s400中,通过紫外线照射所述模板胶(4),以使所述模板胶(4)固化。
5.根据权利要求1-4任一项所述的纳米压印方法,其特征在于,通过步骤s100得到的所述单元软模版(1)至少包括两个不同的光栅结构;
6.根据权利要求5所述的纳米压印方法,其特征在于,多个所述单元软模版(1)包含的所述光栅结构的数量相同,且所述单元软模版(1)包含的多个所述光栅结构依次为第1光栅结构、第2光栅结构、…、第n光...
【专利技术属性】
技术研发人员:胡庆文,朱海萍,杨雨帆,方道畅,史瑞,李晓军,
申请(专利权)人:广纳四维广东光电科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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