【技术实现步骤摘要】
本技术实施例涉及微纳米加工，尤其涉及一种实现样品表面高度可控的制备装置。
技术介绍
1、目前，在衍射光波导的制备中，为了解决现有衍射光波导出瞳不均匀的问题，二维微纳结构不满足于实际集成度要求，三维结构需求扩张，需要不同周期或占空比或在光栅结构区域上不均匀的高度或深度。
2、在一些应用中，利用灰度级掩膜光致抗蚀剂材料层进行作为掩膜进行刻蚀加工，获得高度可控的介质层表面，但由于灰度曝光对于光致抗蚀剂材料层的要求比较高，曝光参数的控制比较精准，故而需要更高精度的设备，其存在成本高，加工周期很长等问题。
技术实现思路
1、本技术提供了一种实现样品表面高度可控的制备装置，可以实现样品表面高度可控，具有成本低、加工周期短等优势。
2、本申请提供了一种实现样品表面高度可控的制备装置，包括：
3、主反应单元，用于存储刻蚀液和进行样品表面湿法刻蚀；
4、样品夹持单元，用于夹持和移动样品至所述主反应单元中；
5、刻蚀液单元，所述刻蚀液单元与所述主反应...
【技术保护点】
1.一种实现样品表面高度可控的制备装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的制备装置，其特征在于，所述主反应单元包括腔室主体，其底部安置匀液板；
3.根据权利要求2所述的制备装置，其特征在于，所述腔室主体的底部设置台阶面，所述匀液板设置在所述台阶面上；
4.根据权利要求3所述的制备装置，其特征在于，所述匀液板包括升降柱，所述升降柱为伸缩样式，
5.根据权利要求3所述的制备装置，其特征在于，所述刻蚀液单元包括溶液存储器、输入管路和输出管路；
6.根据权利要求5所述的制备装置，其特征在于，所述刻蚀液单元还...
【技术特征摘要】
1.一种实现样品表面高度可控的制备装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的制备装置，其特征在于，所述主反应单元包括腔室主体，其底部安置匀液板；
3.根据权利要求2所述的制备装置，其特征在于，所述腔室主体的底部设置台阶面，所述匀液板设置在所述台阶面上；
4.根据权利要求3所述的制备装置，其特征在于，所述匀液板包括升降柱，所述升降柱为伸缩样式，
5.根据权利要求3所述的制备装置，其特征在于，所述刻蚀液单元包括溶液存储器、输入管路和输出管路；
6.根据权利要求5所述的制备装置，其特征在于，所述刻蚀液单元还包括至少一个液压阀和流量计；
7.根...
【专利技术属性】
技术研发人员：卢少雄，陈振浩，刘俊琛，史瑞，李晓军，
申请(专利权)人：广纳四维广东光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。