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本申请公开了一种实现样品表面高度可控的制备装置，包括主反应单元、样品夹持单元、刻蚀液单元：主反应单元用于存储刻蚀液和进行样品表面湿法刻蚀；样品夹持单元用于夹持和移动样品至主反应单元中；刻蚀液单元与主反应单元连通，用于向主反应单元提供刻蚀液，...
该专利属于广纳四维（广东）光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过广纳四维（广东）光电科技有限公司授权不得商用。

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