【技术实现步骤摘要】
一种光罩蚀刻用清洗装置
[0001]本技术涉及光罩清洗
,具体为一种光罩蚀刻用清洗装置。
技术介绍
[0002]光罩,在制作IC的过程中,利用光蚀刻技术,在半导体上形成图型,为将图型复制於晶圆上,必须透过光罩作用的原理,类似于冲洗照片时,利用底片将影像复制至相片上,业内又称光掩模版、掩膜版,材质为石英玻璃、金属铬和感光胶,该产品是由石英玻璃作为衬底,在其上面镀上一层金属铬和感光胶,成为一种感光材料,把已设计好的电路图形通过电子激光设备曝光在感光胶上,被曝光的区域会被显影出来,在金属铬上形成电路图形,成为类似曝光后的底片的光掩模版,然后应用于对集成电路进行投影定位,通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻,其生产加工工序为:曝光,显影,去感光胶,最后应用于光蚀刻;经检索,中国专利授权号为CN211297177U的专利公开了一种蚀刻设备清洗装置,通过在中心轴圆周均布蚀刻桶、清洗桶和烘干桶,快速实现电路板的蚀刻、清洗和烘干,而由于网框结构的设置,避免了对电路板的损坏,使其蚀刻、清洗和烘干效率更高;但是在清洗过程中做不到随着 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种光罩蚀刻用清洗装置,包括清洗水槽(1)和支撑清洗水槽的U形支架(2),其特征在于:所述清洗水槽(1)内设有光罩放置架(3),所述光罩放置架(3)表面放置多个待清洗光罩(4),所述清洗水槽(1)顶面设有支撑架(5),所述支撑架(5)上设有喷淋组件(6),所述喷淋组件(6)通过支撑架(5)安装于清洗水槽(1)上方,所述喷淋组件(6)包括喷淋管(7)和多个喷淋头(8),所述多个喷淋头(8)等间距安装于喷淋管(7)的表面,所述多个喷淋头(8)顶端设有水压调节器(9),所述水压调节器(9)一侧设有流量调节器(10)。2.根据权利要求1所述一种光罩蚀刻用清洗装置,其特征在于:所述U形支架(2)的四个边角处均设有万向轮(201),所述U形支架(2)...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈宏渊,
申请(专利权)人:艾斯尔光电南通有限公司,
类型:新型
国别省市:
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