一种光罩蚀刻用清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种光罩蚀刻用清洗装置，包括清洗水槽和支撑清洗水槽的U形支架，所述清洗水槽顶面设有支撑架，所述支撑架上设有喷淋组件，所述喷淋组件包括喷淋管和多个喷淋头，所述多个喷淋头等间距安装于喷淋管的表面，所述多个喷淋头顶端设有水压调节器，所述水压调节器一侧设有流量调节器；通过流量调节器随着水压自动调节水流量，既可以在低水压下满足水的流量供给来满足作业要求，又能在高水压下控制水的流量做到节约水资源，通过水压调节器来调节管道内水流压力的大小，方便使用者了解水流压力的具体情况，并根据数据在使用水时进行有效的水压调节，有效避免水压过高对光罩表面造成损伤，提高成品率。提高成品率。提高成品率。

【技术实现步骤摘要】
一种光罩蚀刻用清洗装置


[0001]本技术涉及光罩清洗
，具体为一种光罩蚀刻用清洗装置。

技术介绍

[0002]光罩，在制作IC的过程中，利用光蚀刻技术，在半导体上形成图型，为将图型复制於晶圆上，必须透过光罩作用的原理，类似于冲洗照片时，利用底片将影像复制至相片上，业内又称光掩模版、掩膜版，材质为石英玻璃、金属铬和感光胶，该产品是由石英玻璃作为衬底，在其上面镀上一层金属铬和感光胶，成为一种感光材料，把已设计好的电路图形通过电子激光设备曝光在感光胶上,被曝光的区域会被显影出来，在金属铬上形成电路图形，成为类似曝光后的底片的光掩模版，然后应用于对集成电路进行投影定位，通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻，其生产加工工序为:曝光，显影，去感光胶，最后应用于光蚀刻；经检索，中国专利授权号为CN211297177U的专利公开了一种蚀刻设备清洗装置，通过在中心轴圆周均布蚀刻桶、清洗桶和烘干桶，快速实现电路板的蚀刻、清洗和烘干，而由于网框结构的设置，避免了对电路板的损坏，使其蚀刻、清洗和烘干效率更高；但是在清洗过程中做不到随着水压的大小自动调节水流量，水压过高会对光罩表面造成损坏，水压过低会造成光罩表面清洗不干净，并且现有的光罩蚀刻用需要进行清洗作业，现有的清洗装置清洗效果差，无法快速冲洗光罩表面的蚀刻液，从而大大降低了使用的便捷性。

技术实现思路

[0003](一)解决的技术问题
[0004]针对现有技术的不足，本技术提供了一种光罩蚀刻用清洗装置，解决了
技术介绍
中所提出的在清洗过程中做不到随着水压的大小自动调节水流量，并且无法快速冲洗光罩表面的蚀刻液的问题。
[0005](二)技术方案
[0006]为实现以上目的，本技术通过以下技术方案予以实现：一种光罩蚀刻用清洗装置，包括清洗水槽和支撑清洗水槽的U形支架，所述清洗水槽内设有光罩放置架，所述光罩放置架表面放置多个待清洗光罩，所述清洗水槽顶面设有支撑架，所述支撑架上设有喷淋组件，所述喷淋组件通过支撑架安装于清洗水槽上方，所述喷淋组件包括喷淋管和多个喷淋头，所述多个喷淋头等间距安装于喷淋管的表面，所述多个喷淋头顶端设有水压调节器，所述水压调节器一侧设有流量调节器。
[0007]优选的，所述U形支架的四个边角处均设有万向轮，所述U形支架的表面平行设有两个支撑板，所述支撑板顶面连接有清洗水槽。
[0008]优选的，所述喷淋头包括前端呈弧形面的喷头本体，喷头本体内部安装多个喷射管，喷头本体后端设有进液管道，所述进液管道上安装有法兰装置，所述喷射管一端连接在所述进液管道上，所述喷射管另一端安装有高压喷头。
[0009]优选的，所述清洗水槽底端一侧安装进水管道，所述清洗水槽底端另一侧安装排
水管道，所述进水管道和排水管道一端设有单向阀，所述进水管道与高压水泵连接。
[0010](三)有益效果
[0011]本技术提供了一种光罩蚀刻用清洗装置。具备以下有益效果：
[0012](1)该一种光罩蚀刻用清洗装置，通过流量调节器随着水压自动调节水流量，既可以在低水压下满足水的流量供给来满足作业要求，又能在高水压下控制水的流量做到节约水资源，通过水压调节器来调节管道内水流压力的大小，方便使用者了解水流压力的具体情况，并根据数据在使用水时进行有效的水压调节，有效避免水压过高对光罩表面造成损伤，提高成品率。
[0013](2)该一种光罩蚀刻用清洗装置，能够实现对蚀刻后光罩的快速均匀冲洗，能够实现流水冲洗和喷淋冲洗相结合，提高了光罩清洗效果，并且采用喷淋头能够达到近距离喷射清洗的目的，提高了清洗质量，从而大大提高使用的实用性。
附图说明
[0014]图1为本技术整体结构示意图；
[0015]图2为本技术内部结构示意图；
[0016]图3为本技术喷淋头结构示意图；
[0017]图4为本技术压调节器结构示意图。
[0018]图中，1
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清洗水槽、2
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U形支架、201
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万向轮、202
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支撑板、3
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光罩放置架、4
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待清洗光罩、5
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支撑架、6
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喷淋组件、7
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喷淋管、8
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喷淋头、9
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水压调节器、10
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流量调节器、11
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喷射管、12
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进液管道、13
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法兰装置、14
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进水管道、15
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排水管道。
具体实施方式
[0019]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0020]请参阅图1
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4，本技术实施例提供一种技术方案：一种光罩蚀刻用清洗装置，包括清洗水槽1和支撑清洗水槽的U形支架2，所述清洗水槽1内设有光罩放置架3，所述光罩放置架3表面放置多个待清洗光罩4，所述清洗水槽1顶面设有支撑架5，所述支撑架5上设有喷淋组件6，所述喷淋组件6通过支撑架5安装于清洗水槽1上方，所述喷淋组件6包括喷淋管7和多个喷淋头8，所述多个喷淋头8等间距安装于喷淋管7的表面，所述多个喷淋头8顶端设有水压调节器9，所述水压调节器9一侧设有流量调节器10，通过流量调节器10随着水压自动调节水流量，既可以在低水压下满足水的流量供给来满足作业要求，又能在高水压下控制水的流量做到节约水资源，通过水压调节器9来调节管道内水流压力的大小，方便使用者了解水流压力的具体情况，并根据数据在使用水时进行有效的水压调节，有效避免水压过高对光罩表面造成损伤，提高成品率。
[0021]所述U形支架2的四个边角处均设有万向轮201，所述U形支架2的表面平行设有两个支撑板202，所述支撑板202顶面连接有清洗水槽1，通过万向轮201方便对清洗水槽1进行移动，省时省力。
[0022]所述喷淋头8包括前端呈弧形面的喷头本体，喷头本体内部安装多个喷射管11，喷头本体后端设有进液管道12，所述进液管道12上安装有法兰装置13，所述喷射管11一端连接在所述进液管道12上，所述喷射管11另一端安装有高压喷头。
[0023]所述清洗水槽1底端一侧安装进水管道14，所述清洗水槽1底端另一侧安装排水管道15，所述进水管道14和排水管道15一端设有单向阀，所述进水管道14与高压水泵连接。
[0024]使用时，通过在清洗水槽1内设置光罩放置架3，将蚀刻后的光罩放置于光罩放置架3内，将光罩放置架3放置于清洗水槽1内，之后控制高压水泵工作，高压水泵将清洗水抽至清洗水槽1内，水再从排水管道流出至过滤水箱本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光罩蚀刻用清洗装置，包括清洗水槽(1)和支撑清洗水槽的U形支架(2)，其特征在于：所述清洗水槽(1)内设有光罩放置架(3)，所述光罩放置架(3)表面放置多个待清洗光罩(4)，所述清洗水槽(1)顶面设有支撑架(5)，所述支撑架(5)上设有喷淋组件(6)，所述喷淋组件(6)通过支撑架(5)安装于清洗水槽(1)上方，所述喷淋组件(6)包括喷淋管(7)和多个喷淋头(8)，所述多个喷淋头(8)等间距安装于喷淋管(7)的表面，所述多个喷淋头(8)顶端设有水压调节器(9)，所述水压调节器(9)一侧设有流量调节器(10)。2.根据权利要求1所述一种光罩蚀刻用清洗装置，其特征在于：所述U形支架(2)的四个边角处均设有万向轮(201)，所述U形支架(2)...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈宏渊，
申请(专利权)人：艾斯尔光电南通有限公司，
类型：新型
国别省市：