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本实用新型公开了一种光罩蚀刻用清洗装置，包括清洗水槽和支撑清洗水槽的U形支架，所述清洗水槽顶面设有支撑架，所述支撑架上设有喷淋组件，所述喷淋组件包括喷淋管和多个喷淋头，所述多个喷淋头等间距安装于喷淋管的表面，所述多个喷淋头顶端设有水压调节器...
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