【技术实现步骤摘要】
电感耦合等离子体镀膜组件
[0001]本技术涉及一种电感耦合等离子体镀膜装置，特别涉及一种应用于化学气相沉积系统中的电感耦合等离子体镀膜装置及其镀膜组件。
技术介绍
[0002]近年来，镀膜技术的快速发展，尤其是气相沉积技术日臻成熟，使利用表面镀膜技术提高电子产品的性能成为一种技术热点。表面镀膜技术可赋予电子产品，诸如高的抗摔次数，优异的防刮耐磨性、良好的散热性、防水性、耐水下通电性以及耐腐性等性能。等离子体化学气相沉积技术是目前常用的镀膜技术，在电场作用下产生等离子体，借助等离子体使含有膜层组成原子的气态物质发生化学反应，在产品表面沉积防护膜层。
[0003]伴随这种镀膜技术的产生和快速发展，等离子体反应装置随之成为一种重要的加工设备，广泛应用于薄膜沉积、刻蚀以及表面处理等工艺。等离子体反应装置因感应耦合元件不同分为容性耦合等离子体装置和感性耦合等离子体装置两种。目前容性耦合等离子体装置采用平板型容性耦合元件，驱动频率为 13.56MHz，向反应室提供激发电场使反应气体产生电离形成等离子体。这种等离子体反应装置因容...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种电感耦合等离子体镀膜组件，应用于一电感耦合等离子体镀膜装置，以用于为至少一待镀膜基材镀膜，其特征在于，所述电感耦合等离子体镀膜组件包括至少一装置主体、一基于电感耦合的等离子体发生单元、以及一介质板，其中所述装置主体具有一反应腔室，所述等离子体发生单元被设置于所述装置主体的外侧壁以在所述反应腔室内产生一等离子体区，所述介质板被固定设置于所述等离子体发生单元与所述反应腔室之间以区隔所述等离子体发生单元和所述等离子体区。2.根据权利要求1所述的电感耦合等离子体镀膜组件，其中该电感耦合等离子体镀膜装置包括一支架，以用于支撑该待镀膜基材，所述电感耦合等离子体镀膜组件进一步包括至少一偏压电源，该支架电性连接所述偏压电源的负极，所述偏压电源的正极电性连接所述反应腔室，从而在所述反应腔室内产生偏压。3.根据权利要求2所述的电感耦合等离子体镀膜组件，其中所述反应腔室被电连接于所述偏压电源的正极端并且所述反应腔室接地，其中该支架与所述反应腔室之间绝缘。4.根据权利要求1所述的电感耦合等离子体镀膜组件，其中该电感耦合等离子体镀膜装置包括一支架，以用于支撑该待镀膜基材，所述电感耦合等离子体镀膜组件进一步包括至少一电机，该支架电性连接于所述电机，以使该支架能够在所述电机的带动下运动。5.根据权利要求4所述的电感耦合等离子体镀膜组件，其中该支架为多面形柱形支撑架，所述待镀膜基材被设置于该支架的表面并能够随着该支架的转动而转动。6.根据权利要求5所述的电感耦合等离子体镀膜组件，其中所述待镀膜基材被固定连接于该支架的外周表面。7.根据权利要求6所述的电感耦合等离子体镀膜组件，其中该电感耦合等离子体镀膜装置进一步包括至少一电极连接件和一安装固定座，其中所述电极连接件通过所述安装固定座被固定连接于该支架的下端，并能够使所述电极连接件在该支架的旋转过程中一直保持与该支架接触。8.根据权利要求7所述的电感耦合等离子体镀膜组件，其中该电感耦合等离子体镀膜装置进一步包括至少一弹性元件，其中所述弹性元件固定连接于所述安装固定座，且所述电极连接件通过所述弹性元件被抵接于该支架的下端，以保持所述电极连接件在该支架的旋转过程中保持与该支架的持续接触。9.根据权利要求8所述的电感耦合等离子体镀膜组件，其中该电感耦合等离子体镀膜装置进一步包括至少一进气系统，其中所述进气系统被设置于所述装置主体并连通所述反应腔室，以将镀膜单体原料输送至所述反应腔室。10.根据权利要求9所述的电感耦合等离子体镀膜组件，其中所述进气系统进一步包括至少一蒸发器，所述蒸发器能够通过加热将镀膜单体原料蒸发为气体状态。11.根据权利要求10所述的电感耦合等离子体镀膜组件，其中所述进气系统进一步具有一进料口，所述进料口被设置于所述装置主体的外侧壁并连通所述反应腔室，从而将镀膜单体原料输送至所述反应腔室。12.根据权利要求1至11中任一所述的电感耦合等离子体镀膜组件，其中该电感耦合等离子体镀膜装置进一步包括至少一抽气系统，其中所述抽气系统具有一抽气口，所述抽气口被连通所述反应腔室，从而对所述反应腔室内的气体进行抽取。13.根据权利要求12所述的电感耦合等离子体镀膜组件，其中所述抽气系统进一步包
括至少一真空泵，所述真空泵与所述抽气口连接，从而通过所述真空泵将所述反应腔室内的气体抽至一预定真空度。14.根据权利要求1至11...
【专利技术属性】
技术研发人员：宗坚，李福星，
申请(专利权)人：江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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