校正方法和等离子体处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种校正方法和等离子体处理装置，用于导出从开始向腔室供给处理气体起至处理气体到达腔室内为止的到达时间。校正方法包括以下工序：开始检测腔室的阻抗，在该腔室的内部设置有用于载置基板的载置台；开始向腔室供给处理气体；以及根据检测到的阻抗的变化来导出从开始向腔室供给处理气体起至处理气体到达腔室内为止的到达时间。体到达腔室内为止的到达时间。体到达腔室内为止的到达时间。

【技术实现步骤摘要】
校正方法和等离子体处理装置


[0001]本公开涉及一种校正方法和等离子体处理装置。

技术介绍

[0002]专利文献1公开了一种将用于生成等离子体的高频电力和偏置用的高频电力控制为具有规定的相位差且用于生成等离子体的高频电力的占空比为偏置用的高频电力的占空比以上之后施加于载置台的技术。另外，专利文献2公开一种稳定且迅速地切换处理气体的技术。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开2016
‑
157735号公报
[0006]专利文献2：日本特开2020
‑
4931号公报

技术实现思路

[0007]专利技术要解决的问题
[0008]本公开提供一种导出从开始向腔室供给处理气体起至处理气体到达腔室内为止的到达时间的技术。
[0009]用于解决问题的方案
[0010]本公开的一个方式的校正方法包括以下工序：开始检测腔室的阻抗，在所述腔室的内部设置有用于载置基板的载置台；开始向腔室供给处理气体；以及根据检测的阻本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种校正方法，包括以下工序：开始检测腔室的阻抗，在所述腔室的内部设置有用于载置基板的载置台；开始向所述腔室供给处理气体；以及根据检测的阻抗的变化导出从开始向所述腔室供给处理气体起至处理气体到达所述腔室内为止的到达时间。2.根据权利要求1所述的校正方法，其特征在于，还包括以下工序：基于导出的到达时间，来校正开始供给所述处理气体的定时。3.根据权利要求1所述的校正方法，其特征在于，还包括以下工序：基于导出的到达时间...

【专利技术属性】
技术研发人员：张仁镐，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：