【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种形成薄膜层、保护层、耐摩擦层的方法和系统，尤指一种在磁性装置上形成保护层的方法和系统。
技术介绍
目前，磁性装置，如磁性读/写头、磁盘，被广泛应用于数据储存工业。参考图4，典型的磁性读/写头，如磁阻(magneto-resistance，MR)磁头，通常包括基片34，屏蔽罩(shield)33，磁阻元件35，线圈32及磁轭(yoke)31.参考图6，典型的磁盘包括基片10、缓冲层(buffer layer)20及磁性层(magneticlayer)30。上述装置有一些重要的元件，如屏蔽罩33，磁阻元件35，磁轭31，及磁性层30，均由功能材料制成，而且这些功能材料大部分是金属，如Ni，Fe，Mn，Pt，Au，Co，Ti，Cu等。这些金属材料中的一些十分容易被腐蚀或损毁。因此，保护膜(被覆层)被用于阻止这些元件被腐蚀或损毁。此外，近年来，硬碟驱动器(Hard Disk Driver，HDD)的表面记录密度/面积密度(surface recording density/areal density)不断增长。面积密度的增长需要有更高的信号强度和更低...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种薄膜形成方法，包括如下步骤固持至少一个物体在真空室中；沉积一种成膜材料在所述物体上；在沉积成膜材料时对所述成膜材料进行蚀刻。2.如权利要求1所述的薄膜形成方法，其特征在于所述沉积与蚀刻过程被控制成同时进行。3.如权利要求2所述的薄膜形成方法，其特征在于所述沉积过程是通过置备一个成膜靶材并发射离子束轰击该成膜靶材而进行的。4.如权利要求3所述的薄膜形成方法，其特征在于所述蚀刻过程包括如下步骤在所述真空室中制备具有特定压力的惰性或活性气体；离子化所述气体产生蚀刻离子束轰击所述物体。5.如权利要求1所述的薄膜形成方法，其特征在于所述对沉积与蚀刻过程的控制是在所述离子束与蚀刻离子束稳定后，暴露...
【专利技术属性】
技术研发人员：方宏新，马洪涛，张柏清，陈宝华，丘德利·所门，
申请(专利权)人：新科实业有限公司，
类型：发明
国别省市：
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