一种曝光运动平台和光刻机制造技术

本实用新型专利技术实施例公开了一种曝光运动平台和光刻机。曝光运动平台包括：基础模块和曝光模块，所述曝光模块设置于所述基础模块的一侧；所述基础模块邻近所述曝光模块的一侧包括磁钢阵列和散热孔阵列；所述曝光模块邻近所述基础模块的一侧包括发力体和至少三组测距单元，所述至少三组测矩单元设置于所述曝光模块的不同位置，且每一所述测矩单元包括至少两个测量探头，同一所述测距单元包括的至少两个测量探头中至少一个测量探头在所述基础模块的垂直投影与任意散热孔之间的距离大于测量探头的靶面测量要求直径的一半与散热孔直径的一半的和。本实用新型专利技术实施例提高了曝光精度。本实用新型专利技术实施例提高了曝光精度。本实用新型专利技术实施例提高了曝光精度。

【技术实现步骤摘要】
一种曝光运动平台和光刻机


[0001]本技术实施例涉及光刻
，尤其涉及一种曝光运动平台和光刻机。

技术介绍

[0002]光刻装置利用构图部件通过曝光运动平台将构图部件上的图形转移到光刻胶上，一般情况下，曝光运动平台由两大模块组成，分别是曝光模块与基础模块，基础模块为曝光模块提供支撑以及一些必要工作条件。
[0003]现有技术中，曝光模块在工作过程中会产生一定的热量，从而导致曝光模块温度升高，影响曝光模块的曝光精度。

技术实现思路

[0004]本技术提供一种曝光运动平台和光刻机，以提高曝光精度。
[0005]第一方面，本技术实施例提供了一种曝光运动平台，包括：
[0006]基础模块和曝光模块，所述曝光模块设置于所述基础模块的一侧；
[0007]所述基础模块邻近所述曝光模块的一侧包括磁钢阵列和散热孔阵列；
[0008]所述曝光模块邻近所述基础模块的一侧包括发力体和至少三组测距单元，所述至少三组测矩单元设置于所述曝光模块的不同位置，且每一所述测矩单元包括至少两个测量探头，同一所述测距单元包括的至少两个测量探头中至少一个测量探头在所述基础模块的垂直投影与任意散热孔之间的距离大于测量探头的靶面测量要求直径的一半与散热孔直径的一半的和。
[0009]可选的，所述测距单元包括两个测量探头，所述两个测量探头的连线方向与多个散热孔的排列方向相同；
[0010]则所述两个测量探头之间的间距L满足：(N
‑
1)M+T+D<L<NM
‑
D
–
T，其中，N为大于或等于1的整数，M为相邻两个散热孔之间的间距，T为散热孔的直径，D为测量探头的靶面测量要求直径。
[0011]可选的，所述磁钢阵列包括多个依次排列的第一磁极列和第二磁极列，所述第一磁极列包括依次间隔设置的第一磁极和第二磁极，所述第二磁极列包括依次间隔设置的第二磁极和第一磁极，且同一磁极列中相邻所述第一磁极和所述第二磁极之间设置有中间单元；相邻的两个磁极列之间设置有中间单元列，所述中间单元列包括多个中间单元，每一中间单元设置于相邻两磁极列的相邻的第一磁极和第二磁极之间；
[0012]所述散热孔设置于所述中间单元列的相邻两中间单元之间，且相邻两散热孔之间的间距等于磁钢阵列的磁极距；
[0013]所述两个测量探头之间的距离L满足：(N
‑
1)K+T+D<L<NK
‑
D
–
T，其中，K为磁钢阵列的磁极距。
[0014]可选的，每一所述测矩单元包括至少两个测距传感器，每一测距传感器包括一个测量探头。
[0015]可选的，每一所述测矩单元包括一个测距传感器，所述测距传感器包括至少两个测量探头。
[0016]可选的，所述测距传感器在所述基础模块的垂直投影的形状为三角形。
[0017]可选的，所述测距传感器在所述基础模块的垂直投影的形状为长条形，
[0018]且所述测距传感器的两个测量探头沿长条形的长边方向排列。
[0019]可选的，所述至少两个测量探头的测量频率不同。
[0020]可选的，所述至少三组测矩单元围绕所述发力体均匀分布。
[0021]第二方面，本技术实施例还提供了一种光刻机，包括本技术任意实施例所述的曝光运动平台。
[0022]本技术实施例通过在基础模块上表面设置散热孔，通过散热孔将产生的热量带出，避免工作过程中温度升高影响曝光精度。且通过设置同一测距单元包括的至少两个测量探头中至少一个测量探头在基础模块的垂直投影与任意散热孔之间的距离大于测量探头的靶面测量要求直径的一半与散热孔直径的一半的和，保证了每一测距单元至少一个测量探头测量时不受散热孔的影响，从而保证所有的测距单元均能正常工作，避免散热孔影响曝光模块垂向Z及Rx、Ry的测量，进一步保证曝光模块具有较高的曝光精度。
附图说明
[0023]图1是本技术实施例提供的一种曝光运动平台的示意图；
[0024]图2是本技术实施例提供的一种曝光模块的示意图；
[0025]图3是本技术实施例提供的一种基础模块的示意图；
[0026]图4是本技术实施例提供的一种测量探头的位置示意图；
[0027]图5是本技术实施例提供的又一种测量探头的位置示意图。
具体实施方式
[0028]下面结合附图和实施例对本技术作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本技术，而非对本技术的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本技术相关的部分而非全部结构。
[0029]本实施例提供了一种曝光运动平台，图1是本技术实施例提供的一种曝光运动平台的示意图，图2是本技术实施例提供的一种曝光模块的示意图，图3是本技术实施例提供的一种基础模块的示意图，参考图1
‑
图3，曝光运动平台包括：
[0030]基础模块10和曝光模块20，曝光模块20设置于基础模块10的一侧；
[0031]基础模块10邻近曝光模块20的一侧包括磁钢阵列和散热孔11阵列；
[0032]曝光模块20邻近基础模块10的一侧包括发力体21和至少三组测距单元22，至少三组测矩单元22设置于曝光模块20的不同位置，且每一测矩单元22包括至少两个测量探头221，同一测距单元22包括的至少两个测量探头221中至少一个测量探头221在基础模块10的垂直投影与任意散热孔11之间的距离大于测量探头的靶面测量要求直径的一半与散热孔直径的一半的和。
[0033]其中，基础模块10为曝光模块20提供支撑以及一些必要工作条件。基础模块10上部安装有磁钢阵列，磁钢阵列可视为电机定子，曝光模块20下部安装有发力体21，发力体21
包括发力体线圈，发力体21可视为电机动子，发力体21在出力过程中会产生一定的热量，从而导致温度升高。散热孔11阵列可以设置于磁钢阵列中，用于带走产生的热量。对于不带屏蔽的测量探头221，靶面测量要求直径即为测量探头221的直径，对于带屏蔽的测量探头221，靶面测量要求直径即为测量探头221直径的的三倍。对于不带屏蔽的测量探头，测量探头221在基础模块10的垂直投影与任意散热孔11之间的距离大于测量探头221的靶面测量要求直径的一半与散热孔直径的一半的和，即测量探头221在基础模块10的垂直投影不与任意散热孔11交叠。
[0034]由于曝光模块20在初始化、传输和交换过程中垂向Z及Rx、Ry位置测量是通过磁浮平面电机周围布置的测距单元22实现。曝光模块20通过测量自身与基础模块10上表面的距离，来确定自身的垂向Z及Rx、Ry。在曝光模块20运动过程中，少许的测量误差都会给自身的正常工作带来巨大的影响，并且在曝光模块20运动工作过程中，需要时刻知道自身四周的垂向Z及R本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种曝光运动平台，其特征在于，包括：基础模块和曝光模块，所述曝光模块设置于所述基础模块的一侧；所述基础模块邻近所述曝光模块的一侧包括磁钢阵列和散热孔阵列；所述曝光模块邻近所述基础模块的一侧包括发力体和至少三组测距单元，所述至少三组测距单元设置于所述曝光模块的不同位置，且每一所述测距单元包括至少两个测量探头，同一所述测距单元包括的至少两个测量探头中至少一个测量探头在所述基础模块的垂直投影与任意散热孔之间的距离大于测量探头的靶面测量要求直径的一半与散热孔直径的一半的和。2.根据权利要求1所述的曝光运动平台，其特征在于：所述测距单元包括两个测量探头，所述两个测量探头的连线方向与多个散热孔的排列方向相同；则所述两个测量探头之间的间距L满足：(N
‑
1)M+T+D<L<NM
‑
D
‑
T，其中，N为大于或等于1的整数，M为相邻两个散热孔之间的间距，T为散热孔的直径，D为测量探头的靶面测量要求直径。3.根据权利要求2所述的曝光运动平台，其特征在于：所述磁钢阵列包括多个依次排列的第一磁极列和第二磁极列，所述第一磁极列包括依次间隔设置的第一磁极和第二磁极，所述第二磁极列包括依次间隔设置的第二磁极和第一磁极，且同一磁极列中相邻所述第一磁极和所述第二磁极之间设置有中间单元；相邻的两个磁极列之间设置有中间单元...

【专利技术属性】
技术研发人员：闫法领，赵文波，丛国栋，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：