【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种内部形成有垂直磁头的条杆的研磨方法及其研磨装置。
技术介绍
在包含垂直磁头的磁头滑动器的制造当中,人们应用了一种研磨条杆的工艺方法,其中,上述条杆内部形成有垂直磁头,上述每一垂直磁头包括读取元件以及主极和返回轭。在这种研磨方法中,准备一条杆,其中靠近读取元件设置研磨标记(lapping guides)(电阻元件),用以在监测研磨标记阻值的同时控制研磨深度(例如,可参见日本专利申请KOKAI公开号No.2004-47079和2001-14617)。监测研磨标记的阻值能够提高读取元件的条高度(stripeheight)即读取元件距离研磨表面之高度的工艺精度。然而,由于现有技术中仅在读取元件的两侧设置一对研磨标记,研磨深度的偏差与距读取元件之距离成比例地变大。因此,难以对整个研磨表面实施平坦研磨。特别是当读取元件和主极(或返回轭)之间的研磨表面发生倾斜时,难以控制主极和返回轭的尺寸,其中,上述尺寸是决定写入性能好坏的最重要的参数,这可能导致写入性能的分散问题。专利技术简述根据本专利技术的一个方面,提供了一种内部形成有垂直磁头的条杆的研磨方法,其中, ...
【技术保护点】
一种研磨条杆(45)的方法,所述条杆中形成有垂直磁头,所述每一个磁头包括读取元件以及主极和返回轭,该方法特征在于,其包括:准备条杆(45),在所述条杆中,在靠近所述读取元件处设置有第一研磨标记(61)、靠近所述主极(31)处设置有第二研磨标记(62);将所述条杆(45)安装到研磨装置(50)上,且使所述条杆(45)的研磨表面朝向研磨盘(51);和基于所述第一和第二研磨标记(61,62)的阻值控制施加到所述条杆(45)上的压力来进行研磨。
【技术特征摘要】
JP 2005-1-31 023899/20051.一种研磨条杆(45)的方法,所述条杆中形成有垂直磁头,所述每一个磁头包括读取元件以及主极和返回轭,该方法特征在于,其包括准备条杆(45),在所述条杆中,在靠近所述读取元件处设置有第一研磨标记(61)、靠近所述主极(31)处设置有第二研磨标记(62);将所述条杆(45)安装到研磨装置(50)上,且使所述条杆(45)的研磨表面朝向研磨盘(51);和基于所述第一和第二研磨标记(61,62)的阻值控制施加到所述条杆(45)上的压力来进行研磨。2.如权利要求1所述的方法,其特征在于满足以下条件S|tanθ|<30(nm),其中S为从所述读取元件(22)中心到所述主极(31)中心的距离,θ为在所述主极(31)中心处测量的所述研磨平面相对于所述读取元件(22)中心处的倾斜角度。3.如权利要求2所述的方法,其特征在于满足以下条件S|tanθ|<10(nm)。4.一种研磨条杆(45)的方法,所述条杆中形成有垂直磁头,每一个磁头包括读取元件以及主极和返回轭,该方法特征在于,其包括准备条杆(45),在所述条杆中,在靠近所述读取元件(22)处设置有第一研磨标记(61)、所述返回轭(32)的后侧设置有第三研磨标记(63);将上述条杆(45)安装到研磨装置(50)上,且使所述条杆(45)的研磨表面朝向研磨盘(51);基于所述第一和第三研磨标记(61,63)的阻值控制施加到所述条杆(45)上的压力来进行研磨。5.如权利要求4所述的方法,其特征在于满足以下条件S|tanθ|<30(nm),其中S为从所述读取元件(22)中心到返回轭(32)中心的距离,θ为在所述返回轭(32)中心处测量的所述研磨平面相对于所述读取元件(22)中心处的倾斜角度。6.如权利要求5所述的方法,其特征在于满足以下条件S|tanθ|<10(nm)。7.一种研磨条杆(45)的方法,所述条杆中形成有垂直磁头,每...
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