光学信息记录介质中使用的记录膜、光学信息记录介质以及溅射靶制造技术

本发明专利技术提供了一种用于光学信息记录介质的记录膜以及一种光学信息记录介质，所述记录膜具有优异生产率并且也具有优异耐久性（记录保持性）。本发明专利技术包括如下：（１）在光学信息记录介质中使用的记录膜，其热导率为０．８Ｗ／Ｋｃｍ或更小，对波长为０．３μｍ～１．０μｍ的光的光吸收率为１５％或更高，熔融温度为３００～８００℃，（２）光学信息记录介质，其中记录膜包括如上所述的记录膜，以及（３）用于形成所述记录膜的溅射靶。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于涉及在光学信息记录介质中使用的记录膜、光学信息记录介质以及溅射靶的
，更具体而言，涉及一种在不同于现有有机染料的光学信息记录介质中使用的记录膜以及使用这种属于与光学信息记录介质有关的
的记录膜的光学信息记录介质，所述记录膜用于一次性写入的光学信息记录介质如CD-R、DVD-R、一次性写入的蓝光光盘、一次性写入的HD DVD，等等。
技术介绍
光盘包括几种类型并且考虑到记录/再现原理，它们通常区分为只读、一次性写入类、可重复写入类这三种类型。其中，一次性写入类型的磁盘具有这样一种结构，其中在透明塑料基底上涂敷偶氮或花青类型的有机染料作为记录层，并且在其上形成包括Al合金或Ag合金的反射层。在一次性写入类型的磁盘中，染料记录层的反射率通过由激光辐射使其部分分解和变性来改变，并记录信号。由于染料记录层的分解和变性是不可逆变化，因此在一次性写入类型的磁盘中只能进行一次信号记录，这就是与在同一位置能够反复改写的可重复写入的磁盘的不同之处。在使用染料的这种一次性写入磁盘中，必须在生产磁盘的过程中使用旋转式涂布机形成染料，因此，涉及到难于控制染料记录层的厚度、难于形成本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种在光学信息记录介质中使用的记录膜，其热导率为０．８Ｗ／Ｋｃｍ或更小，对波长为０．３μｍ～１．０μｍ的光的光吸收率为１５％或更高，熔融温度为３００～８００℃。

【技术特征摘要】
JP 2005-2-7 2005-030788;JP 2005-12-8 2005-3550121.一种在光学信息记录介质中使用的记录膜，其热导率为0.8W/Kcm或更小，对波长为0.3μm～1.0μm的光的光吸收率为15％或更高，熔融温度为300～800℃。2.根据权利要求1所述的在光学信息记录介质中使用的记录膜，其中光反射率为20％或更高。3.根据权利要求1所述的在光学信息记录介质中使用的记录膜，其包括含Sn、Zn、和Mg中的至少一种并且含有的总量为5.0～60at％的Al合金。4.跟据权利要求3所述的在光学信息记录介质中使用的记录膜，其中所述Al合金含有In、Mn和Ni中的至少一种并且含有的总量为2.0～10.0at％。5.根据权利要求3所述的在光学信息记录介质中使用的记录膜，其中所述Al合金含有Nd和Y中的至少一种并且含有的总量为1.0～20.0at％。6.根据权利要求3所述的在光学信息记录介质中使用的记录膜，其中所述Al合金含有Cr、Ta、Ti、和Ni中的至少一种并且含有的总量为1.0～10.0at％。7.根据权利要求3所述的在光学信息记录介质中使用的记录膜，其中所述Al合金含有Si和Ge中的至少一种并且含有的总量为1.0～15.0at％。8.根据权利要求1所述的在光学信息记录介质中使用的记录膜，其中所述Ag合金含有Sn、In、Bi、和Nd中的至少一种并且含有的总量为5～30at％。9.根据权利要求1所述的在光学信息记录介质中使用的记录膜，其包括Ag合金，所述Ag合金含有Sn、In、和Nd中的至少一种并且含有的总量为5～30at％、及含有Bi和Sb中的至少一种并且含有的总量为0.01～2.0at％。10.一种光学信息记录介质，在所述介质中，记录膜和保护膜依次形成在基底上，其中所述记录膜包括如权利要求1中定义的在光学信息记录介质中使用的记录膜。11.一种光学信息记录介质，在所述介质中，反射膜或热量控制膜...

【专利技术属性】
技术研发人员：田内裕基，中井淳一，藤井秀夫，井土带刀，
申请(专利权)人：株式会社神户制钢所，
类型：发明
国别省市：JP[日本]