用于分析介质的光学系统技术方案

本发明专利技术涉及一种用于分析介质的光学系统，光学系统(1)包括用于发射穿过介质(2)的光束(4)的光源(3)、用于接收光束(4)的接收器(5)、至少一个用于限制光源(3)的光束(4)的第一光阑(6)、至少一个用于将至少第一光阑(6)成像到接收器(5)上的透镜(7)、至少一个在至少一个透镜(7)与介质(2)之间的第二光阑(8)。

An optical system for analyzing media

The invention relates to a method for the analysis of optical system of medium, optical system (1) comprises means for emitting through a medium (2) beam (4) light source (3) for receiving the beam (4) receiver (5) and at least one light source (3) for limiting the beam (4) of the article a diaphragm (6) and at least one for at least the first aperture imaging (6) to the receiver (5) on the lens (7), at least one of the at least one lens (7) and medium (2) between the second diaphragm (8).

【技术实现步骤摘要】
用于分析介质的光学系统
本专利技术涉及一种用于分析介质的光学系统。
技术介绍
为了在工艺测量技术中分析介质，尤其是液体，通常使用自动分析器。测量参量的确定在机构中经常通过光学的，例如光度计的或光谱分析的测量来实现。发光二极管是广泛应用于光学测量的光源。如果测量路径相对较长，那么需要限定的来自光束的射线集束。最简单的解决方案是来自平行光束的射线集束。但是，在此出现了不同的问题。一方面，在射线集束的直径很小的情况下，如其在自动分析器中通常出现的那样，能够看作干扰的是，光源不是完美的点光源。发光二极管例如包含具有有限延展尺寸的LED芯片。因此，发光二极管不能简单地放置到透镜的焦点中以产生平行的射线集束。另一方面，在射线集束的直径很小的情况下，具有小焦距的小透镜是必要的。这种透镜很难校准。此外，为了正确的光学取向，LED芯片必须居中地放置在光轴上。这由于构件公差和装备过程中的公差而不能够得到保证并且需要后续的校准。
技术实现思路
本专利技术所基于的任务是说明一种用于分析介质的光学系统，其光源可以在无需校准的情况下装配。该任务根据本专利技术通过本专利技术的主题解决。本专利技术的主题是用于分析介质的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于分析介质(2)的光学系统(1)，所述光学系统包括：用于发射穿过所述介质(2)的光束(4)的光源(3)，用于接收所述光束(4)的接收器(5)，用于限制所述光源(3)的光束(4)的至少一个第一光阑(6)，用于将所述至少第一光阑(6)成像到所述接收器(5)上的至少一个透镜(7)，在所述至少一个透镜(7)与所述介质(2)之间的至少一个第二光阑(8)。

【技术特征摘要】
2015.09.28 DE 102015116386.11.一种用于分析介质(2)的光学系统(1)，所述光学系统包括：用于发射穿过所述介质(2)的光束(4)的光源(3)，用于接收所述光束(4)的接收器(5)，用于限制所述光源(3)的光束(4)的至少一个第一光阑(6)，用于将所述至少第一光阑(6)成像到所述接收器(5)上的至少一个透镜(7)，在所述至少一个透镜(7)与所述介质(2)之间的至少一个第二光阑(8)。2.根据权利要求1所述的光学系统，其中，所述光学系统以如下方式确定规格，即，使所述至少第二光阑(8)的直径相当于所述第一光阑(6)在所述探测器(5)上的图像大小。3.根据权利要求1或2所述的光学系统，其中，所述至少第一光阑(6)在面对所述光源(3)的面上被设...

【专利技术属性】
技术研发人员：拉尔夫·伯恩哈特，
申请(专利权)人：恩德莱斯和豪瑟尔分析仪表两合公司，
类型：发明
国别省市：德国,DE