硬涂层制品、固化组合物以及信息记录介质制造技术

技术编号:3055759 阅读:158 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术的目的是提供适于形成具有高表面硬度、优异的耐擦伤性能,并且具有持久防污性能的防污硬涂层的固化组合物;并提供具有耐擦伤性能和防污性能、和记录的持久读取特性的光学信息记录介质。所述固化组合物包含光化能-固化树脂,其中,所述光化能-固化树脂具有硅含量为23-32重量%的硅氧烷树脂。并且所述光学信息记录材料具有通过涂布并固化所述固化组合物而形成的透光层,其中,所述硅氧烷树脂的涂布量为0.4-45毫克/平方米。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及具有防污硬涂层的硬涂层制品以及用于获得所述防污硬涂层的固化组合物。另外,本专利技术还涉及能够通过光学装置和磁性装置记录和再现光学信息并且具有优异的防污和耐擦伤性能的信息记录介质。
技术介绍
近年来,由于塑料制品的可加工性且重量轻,因此替代了玻璃制品,但塑料制品表面易于擦伤,因此,这些塑料制品备有硬涂层以提供耐擦伤性能,或者在许多情况下,在使用之前用具有硬涂层的薄膜进行层压。通常使用的玻璃制品在许多情况下也层压用于防止散射的塑料薄膜。为提高薄膜表面的硬度,将硬涂层形成在表面上,或者为了改善基材的表面硬度、耐磨性和防污性,并不仅仅是玻璃制品,具有在表面上形成的硬涂层的硬涂层制品已得到广泛使用。通常使用的硬涂层一般通过直接在基材上形成约3-10微米的热固性树脂或光化能-可聚合树脂,例如紫外线-固化树脂的薄膜或者通过厚度0.03-0.5微米左右的底涂层而制备。然而,由于迄今为止所使用的硬涂层其硬度不够或者涂膜厚度薄,因此当基材通过负载明显变形时,硬涂层也将随基材的变形而变形,并且在硬涂层中产生裂缝,因此,它们并不充分令人满意。为了增加硬涂层的硬度,在日本专利1815116中公开了包含作为硬涂层的树脂形成组分的多官能丙烯酸酯单体,并且包含粉末无机填料例如氧化铝,二氧化硅或二氧化钛,以及聚合引发剂的涂层组合物。在日本专利1416240中公开了包含无机填料例如用烷氧基硅烷进行表面处理的二氧化硅或氧化铝等等的光聚合组合物。另外,近年来,还研究了填充交联有机细粒。尽管这些技术有增加硬涂层表面硬度的作用,但也存在着一些缺点,如将增加混浊度并使抗脆性变差,因此,仅仅这些技术尚不能够充分满足所要求的性能。JP-A-2000-52472(在本专利技术中术语“JP-A”表示“待审公开的日本专利申请”。)提出了一种通过使用包括两层结构的硬涂层并且将二氧化硅细粒添加至第一层上而使卷曲问题和耐擦伤性能同时令人满意的方法。此外,包括两层结构硬涂层的硬涂层薄膜还公开于JP-A-2000-71392中,其中,将包含游离基固化树脂和阳离子固化树脂混合物的固化树脂层用作下层,并将只包含游离基固化树脂的固化树脂层用作上层。然而,这些技术也不能够获得足够的硬度。另一方面,已知的是,使硬涂层厚度增加至比3-10微米的通常厚度大对于增强硬度是有效的。然而,这也会产生一些问题,随着硬涂层的增厚混浊度将增加,由于抗脆性变差,易于产生破裂和剥离,同时由于固化收缩的问题,硬涂层薄膜的卷曲将变大。因此,通过现有技术将难以获得具有良好特性的切实可行的硬涂层。此外,在使用中,为了防护和防止玻璃的散射而提供在图像显示器和触板上的硬涂层易于被指纹,记号笔,化妆品和汗液弄脏,并且一旦粘到了污渍将难以除去,这将损害透明度和反射作用,并致使清晰度下降。作为该问题的对策,日本专利3417803公开了除通过提供包含树脂组合物的硬涂层而提供硬涂层性能以外,还给予防污性能的技术,所述组合物包含以每100重量份多官能丙烯酸酯为基准的0.1-100重量份的光化能-固化硅氧烷树脂。然而,业已发现,在这些专利中公开的任何硬涂层薄膜均存在着如下缺点通过重复擦拭,表面上的防污组分将剥离,使防污性能不能长久保持;或者由于表面组分的不均匀在表面上产生缺陷。将硬涂层薄膜用作例如信息记录介质的表面保护薄膜,但在表面上有缺陷,甚至是微小缺陷的薄膜也不能够用作这样的表面保护薄膜,这是因为所述缺陷将严重影响信息的读出。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供具有高表面硬度、优异的耐擦伤性能,并且具有持久防污性能的硬涂布制品。本专利技术的另一目的是提供能够获得防污硬涂层的固化组合物,所述防污硬涂层具有高表面硬度、优异的耐擦伤性能,并且具有持久防污性能。本专利技术的另一目的是提供具有耐擦伤性能和防污性能、并且具有数据持久读取特性的光学信息记录介质。本专利技术的上述目的通过下述方法得以解决。(1)包括基材和至少一硬涂层的制品,所述至少一硬涂层包括所述制品的最外层。其中,所述最外层包括通过涂布和固化包含光化能-固化树脂的固化组合物而形成的固化薄膜,其中,所述光化能-固化树脂包含硅含量为23-32重量%的硅氧烷树脂;并且硅氧烷树脂的涂布量为0.4-45mg/m2。(2)如第(1)项中所述的制品,其中,所述光化能-固化树脂另外还包含具有第一分子的第一固化树脂,所述第一分子具有三个或更多个烯键式不饱和基团。(3)如第(1)项中所述的制品,其中,所述光化能-固化树脂还包含具有第一分子的第一固化树脂,所述第一分子具有三个或更多个烯键式不饱和基团;和具有第二分子的第二固化树脂,所述第二分子具有三个或更多个可开环聚合的基团,和所述光化能固化树脂的第二树脂含量为所述第一树脂和所述第二树脂的总含量的5-40重量%。(4)如第(3)项中所述的制品,其中,所述第二固化树脂是可交联的聚合物,其具有由结构式(1)表示的重复单元 式中,R1表示氢原子或具有1-4个碳原子的烷基;P1表示具有可开环聚合基团的一价基团;L1表示单键或二价连接基团。(5)如第(3)或(4)项所述的制品,其中,所述三个或更多个可开环聚合的基团包括阳离子可聚合基团。(6)如第(1)-(5)任一项中所述的制品,其中,所述硅氧烷树脂是由结构式(a)表示的聚二甲基硅氧烷 其中,Y表示氢原子、甲基、羟基或甲氧基;p表示10-1,500的整数;且10-25%的甲基被带有(甲基)丙烯酸酯基团的烷基取代。(7)如第(1)-(6)任一项中所述的制品,其中,所述固化组合物包含相对于总计100重量份的光化能-固化树脂为5-35重量份的颗粒填料。(8)如第(1)-(7)任一项中所述的制品,其中,所述硬涂层为单层。(9)一种固化组合物,其包含光化能-固化树脂,所述光化能-固化树脂包含相对于其总重量为0.001-0.2重量%的硅树脂,其中,所述硅树脂的硅含量为23-32重量%。(10)一种包括基材和至少一硬涂层的制品,所述至少一硬涂层包括所述制品的最外层,其中,所述最外层包括通过将第(9)项中所述的固化组合物涂布且固化在所述基材上而形成的固化薄膜。(11)如1-8和10任一项所述的制品,其中,所述基材是厚度为20-300微米的薄膜。(12)一种通过光学装置能够再现信息信号的信息记录介质,其依次包括基体;能够记录信息信号的记录层;和能够透过光的透光层,其中所述透光层是第(1)-(8),(10)和(11)任一项中所述的制品。(13)如第(12)项中所述的信息记录介质,其中,所述基材是厚度为20-300微米的聚碳酸酯薄膜,且所述透光层的厚度为50-300微米。根据本专利技术,通过用规定的硅氧烷树脂的涂布量在制品的最外层表面上涂布由含有特定硅氧烷树脂的固化组合物形成的硬涂层,可获得具有高表面硬度、优异耐擦伤性能、以及长期防污性能的硬涂层制品,并且这样的硬涂层制品在各种领域中具有广泛的用途。通过将透明薄膜用作基材,作为硬涂层制品,可获得防污性能和耐擦伤性能优异的透明基材(硬涂层薄膜)。根据本专利技术的硬涂层制品可用作CRT、LCD、PDP和FED的显示器和触板,建筑物和车辆的窗体,能够防止票据、桌子、装饰胶合板等被涂鸦和被粘贴的屏障材料,并且它们作为光学信息记录介质如CD、DVD和Blu-射线盘的表面保护薄膜是特别优本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种包括基材和至少一硬涂层的制品,所述的至少一硬涂层包括所述制品的最外层,其中,所述最外层包含通过涂布和固化包含光化能-固化树脂的固化组合物而形成的固化薄膜,其中,所述光化能-固化树脂包含硅含量为23-32重量%的硅氧烷树脂;并且所述硅氧烷树脂的涂布量为0.4-45mg/m↑[2]。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2003-10-6 347111/20031.一种包括基材和至少一硬涂层的制品,所述的至少一硬涂层包括所述制品的最外层,其中,所述最外层包含通过涂布和固化包含光化能-固化树脂的固化组合物而形成的固化薄膜,其中,所述光化能-固化树脂包含硅含量为23-32重量%的硅氧烷树脂;并且所述硅氧烷树脂的涂布量为0.4-45mg/m2。2.如权利要求1所述的制品,其中,所述光化能-固化树脂另外还包含具有第一分子的第一固化树脂,所述第一分子具有三个或更多个烯键式不饱和基团。3.如权利要求1所述的制品,其中,所述光化能-固化树脂还包含具有第一分子的第一固化树脂,所述第一分子具有三个或更多个烯键式不饱和基团;和具有第二分子的第二固化树脂,所述第二分子具有三个或更多个可开环聚合的基团,和所述光能固化树脂的所述第二树脂含量为所述第一树脂和所述第二树脂总含量的5-40重量%。4.如权利要求3所述的制品,其中,所述第二固化树脂是具有由结构式(1)表示的重复单元的可交联聚合物 式中,R1表示氢原子或具有1-4个碳原子的烷基;P1表示具有可开环聚合基团的一价基团;L1表示单键或二价连接基团。5.如权利要求3或4所述的制品,其中,所述三个或更多个可开环聚合的基团包括阳离子可聚合基团。6.如权利要求1-5...

【专利技术属性】
技术研发人员:长冈克朗松藤明博福田谦一
申请(专利权)人:富士胶片株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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