一种制备图案化有机发光器件的方法技术

本公开实施例提供一种制备图案化有机发光器件的方法，包括：通过条纹图案化涂布形成一个或多个有机功能层，其中所述条纹图案具有微米级线宽。根据本公开的方法采用简单的涂布工艺，实现了条纹型图案化的OLED器件，使得条形图案具有微米级线宽，并且具有良好的边缘定义。义。义。

【技术实现步骤摘要】
一种制备图案化有机发光器件的方法


[0001]本公开涉及显示
，尤其涉及一种有机发光器件的图案化方法。

技术介绍

[0002]由于制造成本低，工艺简单，材料损耗小以及对大面积制造的高可扩展性，溶液制程工艺在有机发光二极管(OLED)显示和照明领域中引起了广泛的关注。在溶液制程工艺中，OLED采用了各种印刷和涂覆技术来制造多层有机薄膜。
[0003]目前的工艺中，会首选印刷工艺来形成需要高分辨率的横向和/或纵向构图的RGB像素，而涂布工艺(包括旋涂、刮涂、喷涂等)则适用于大型
‑
OLED公用层的面积均匀的涂层。与印刷工艺相比，溶液涂覆工艺具有很大的优势，因为设备维护方便，并且可以涂覆多种工艺材料。然而，一般的涂布工艺用于制造图案化器件仍存在很大问题。
[0004]有机薄膜的图案化在涂覆过程中是困难的，其中，狭缝模头涂层可实现有机光伏的低分辨率横向构图，但一般其线宽为毫米级，同时，其边缘的定义通常不良。因此，在涂覆之后不可避免地需要额外的图案化工艺。而光刻和激光刻蚀方法通常比较昂贵，并且不适用于连续图案化。

技术实现思路

[0005]本公开实施例提供一种制备图案化有机发光器件的方法，以解决或缓解现有技术中的一项或更多项技术问题。
[0006]作为本公开实施例的一个方面，提供一种制备图案化有机发光器件的方法，包括：通过条纹图案化涂布形成一个或多个有机功能层；其中，所述条纹图案具有微米级线宽。
[0007]在一些可能的实施方式中，所述条纹图案化涂覆通过针头狭缝涂布的方式进行。
[0008]在一些可能的实施方式中，根据涂布溶液的亲水性或疏水性，相应地对针头不进行疏水处理，或进行疏水处理。
[0009]在一些可能的实施方式中，所述疏水处理后，针杆的表面接触角大于90
°
。
[0010]在一些可能的实施方式中，所述条纹图案的条纹宽度在50μm～300μm的范围内。
[0011]在一些可能的实施方式中，所述条纹图案的涂层间隙在3μm至2000μm的范围内调节。
[0012]在一些可能的实施方式中，当涂布的条纹宽度大于100μm时，最大涂覆速度不超过40mm/s；当涂布的条纹宽度小于100μm时，最大涂覆速度不超过35mm/s。
[0013]在一些可能的实施方式中，所述针头狭缝涂布为双针涂覆，涂层间隙为10μm至2000μm。
[0014]在一些可能的实施方式中，所述疏水处理包括在针头涂覆聚四氟乙烯。
[0015]在一些可能的实施方式中，所述条纹图案为纵向构图的微图案。
[0016]在一些可能的实施方式中，所述有机功能层选自发光层、空穴注入层、空穴传输层、空穴阻挡层、电子注入层、电子传输层和电子阻挡层中的一层或多层。
[0017]在一些可能的实施方式中，所述条纹图案的分辨率为1μm。
[0018]本公开实施例中的制备图案化有机发光器件的方法，实现了纵向构图微图案化的OLED器件，其中的条形图案具有微米级的线宽，并且具有良好的边缘定义。
[0019]上述概述仅仅是为了说明书的目的，并不意图以任何方式进行限制。除上述描述的示意性的方面、实施方式和特征之外，通过参考附图和以下的详细描述，本公开进一步的方面、实施方式和特征将会是容易明白的。
附图说明
[0020]在附图中，除非另外规定，否则贯穿多个附图相同的附图标记表示相同或相似的部件或元素。这些附图不一定是按照比例绘制的。应该理解，这些附图仅描绘了根据本公开公开的一些实施方式，而不应将其视为是对本公开范围的限制。
[0021]图1和图2分别为实施例1和实施例2中的条纹涂覆的涂层的光学测量图像；
[0022]图3和图4分别为实施例3和对比例1中的双针头涂覆的涂层的光学测量图像；
[0023]图5为实施例4中PEDOT：PSS条带的图片；
[0024]图6为实施例4中器件结构的示意图；
[0025]图7为实施例4中PEDOT：PSS条带的图片；
[0026]图8和图9为实施例4和实施例5中条状图案的发光图像。
具体实施方式
[0027]在下文中，仅简单地描述了某些示例性实施例。正如本领域技术人员可认识到的那样，在不脱离本公开的精神或范围的情况下，可通过各种不同方式修改所描述的实施例。因此，附图和描述被认为本质上是示例性的而非限制性的。
[0028]本专利技术提供一种制备有机发光器件，特别是OLED中图案化有机功能层的方法。具体地，本专利技术采用简单的针头狭缝涂布方式，来实现OLED器件的有机功能层的纵向构图微图案化。其中，有机功能层为发光层(EML)、空穴注入层(HIL)、空穴传输层(HTL)、空穴阻挡层(HBL)、电子注入层(EIL)、电子传输层(ETL)或电子阻挡层(EBL)。
[0029]在本专利技术中，采用针头狭缝涂布的方式进行薄膜图案化涂覆，通常需要根据涂布溶液的亲水性和疏水性来决定是否需要对针头进行表面疏水处理。
[0030]如果涂布溶液是亲水性，则无需对针头进行表面处理。如果涂布溶液是疏水性的，则需要对针头进行表面处理。在本专利技术中，针头的表面疏水处理包括在针头表面涂覆疏水材料，优选包括在针头涂覆聚四氟乙烯。进行表面疏水处理后，针头的表面接触角大于90
°
。对针杆进行疏水处理可以防止横向和纵向的毛细流动问题，避免条状图案的端部出现弯月面和条纹轮廓震荡。
[0031]在本专利技术的方法中，对于用于涂布的针头，针孔内径通常小于160μm，优选小于120μm。针孔内径越小，其涂覆条宽越窄。在本专利技术的方法中，涂覆条纹宽度在50μm～300μm的范围内，优选100～200μm，更优选150μm。
[0032]薄膜涂覆过程中，涂覆速度的选择也会影响涂布条纹宽度。涂布条纹宽度大于100μm时，最大涂覆速度不超过40mm/s；涂布条纹宽度小于100μm时，最大涂覆速度不超过35mm/s。涂覆速度越快，线宽越窄，但超过最大速度会发生条纹断裂的情况。
[0033]根据一个具体实施方式，本专利技术的方法还可以采用双针涂覆的方式。其中，一根为抽吸针，内装涂覆溶剂；一根为排放针，内装涂覆溶液。涂覆溶液在进行涂覆前可选地加入表面活性剂，并经过滤，以去除涂覆溶液中的微聚颗粒。
[0034]采用双针涂覆方式的涂层间隙可在10μm至2000μm的范围内调节，分辨率可为1μm。在该间隙下，在去除溶解膜的同时在抽吸针与基板之间不会形成弯月面，边缘定义良好。
[0035]本专利技术的方法通过使用涂布工艺，实现了条纹型图案化的OLED器件，其条纹线宽为微米级。同时通过工艺优化，良好的解决了边缘定义的问题。
[0036]以下将通过具体实施例进一步说明本专利技术的各实施方式和特点。
[0037]实施例1
[0038]采用针头狭缝涂布方式，用内径为108μm的亲水针，30mm/s的涂覆速度，涂布PEDOT:PSS条纹层。<本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种制备图案化有机发光器件的方法，其特征在于，包括：通过条纹图案化涂布形成一个或多个有机功能层；其中，所述条纹图案具有微米级线宽。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述条纹图案化涂覆通过针头狭缝涂布的方式进行。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，根据涂布溶液的亲水性或疏水性，对应地对针头不进行疏水处理，或进行疏水处理。4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述疏水处理后，针头的表面接触角大于90
°
。5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述条纹图案的条纹宽度在50μm～300μm的范围内。6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述条纹图案的涂层间隙在3μm至2000μm的范围内。7.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，当涂布的条纹宽度...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴勇，王斯琦，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：