本发明专利技术公开了一种阵列基板、其制备方法及显示装置，通过将像素界定层中与发光功能层接触的部分设置成具有在外部条件变化下在亲水性与疏水性之间转换的功能，这样在形成发光功能层的各膜层时，由于发光功能层的各膜层亲、疏水性不一致，如在形成亲水性的发光功能层时，将像素界定层在外部条件处理下使与发光功能层接触的部分转换呈疏水性，在形成疏水性的发光功能层时，将像素界定层在外部条件处理下使与发光功能层接触的部分转换呈亲水性，从而可以使开口区域内形成的发光功能层不会向像素界定层内壁攀爬，从而使开口区域内形成的发光功能层膜厚均一，提高显示面板的显示效果和发光器件的寿命。发光器件的寿命。发光器件的寿命。
【技术实现步骤摘要】
一种阵列基板、其制备方法及显示装置
[0001]本专利技术涉及显示
，特别涉及一种阵列基板、其制备方法及显示装置。
技术介绍
[0002]有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode，OLED)显示器具有低能耗、自发光、宽视角及响应速度快等优点，是当今显示器研究领域的热点之一，被认为是下一代显示技术。
[0003]目前，OLED显示器中的发光层的成膜方式主要有蒸镀方式和喷墨打印方式。采用蒸镀方式成膜在制备小尺寸OLED显示器中应用较为成熟，而采用喷墨打印方式成膜由于其成膜速率快、材料利用率较高、可以实现大尺寸化，被认为是大尺寸OLED显示器实现量产的重要方式。通常在制作发光功能层的各膜层时，需要在基板上制作像素界定层以限定各像素所在的区域，之后采用喷墨打印工艺在对应的像素特定的开口区域中制作发光功能层。
[0004]但是在打印发光功能层的多个膜层时由于马格兰尼效应(由于二种表面张力不同的液体介面之间存在张力的梯度而使质量移动的现象)，容易形成厚度不均匀的薄膜(两边厚中间薄)，从而在开口区域中间容易形成薄膜层，薄膜层在最终器件中会由于高电压而导致击穿。同时开口区域膜层的不均一容易降低器件的发光效率和寿命，因此如何在开口区域形成膜厚均一的发光功能层是OLED工艺中至关重要的一步。
技术实现思路
[0005]有鉴于此，本专利技术实施例提供了一种阵列基板、其制备方法及显示装置，用于解决现有技术由于马格兰尼效应导致发光功能层膜厚不均一进而导致显示效果不佳的问题。
[0006]因此，本专利技术实施例提供了一种阵列基板，包括衬底基板，位于所述衬底基板一侧的像素界定层，所述像素界定层具有多个开口区域，所述开口区域内包括发光功能层，所述像素界定层中与所述发光功能层接触的部分具有在外部条件变化下在亲水性与疏水性之间转换的功能。
[0007]可选地，在具体实施时，在本专利技术实施例提供的上述阵列基板中，所述像素界定层包括第一像素界定层，以及位于所述第一像素界定层远离所述衬底基板一侧的第二像素界定层；
[0008]所述第一像素界定层包括围绕各所述开口区域且相互独立的多个像素界定结构，所述像素界定结构与所述发光功能层接触；
[0009]所述第二像素界定层覆盖多个所述像素界定结构，所述第二像素界定层的结构为具有露出各所述开口区域的网格状结构，且所述第二像素界定层用于使相邻所述像素界定结构之间相互绝缘。
[0010]可选地，在具体实施时，在本专利技术实施例提供的上述阵列基板中，沿所述衬底基板指向所述像素界定层的方向，所述像素界定结构的厚度大于所述发光功能层的厚度。
[0011]可选地，在具体实施时，在本专利技术实施例提供的上述阵列基板中，所述第一像素界
定层在紫外光照射下由亲水性转换为疏水性或由疏水性转换为亲水性。
[0012]可选地，在具体实施时，在本专利技术实施例提供的上述阵列基板中，所述第一像素界定层的材料为偶氮苯、螺吡喃、肉桂酸、二氧化钛或五氧化二钒；所述第二像素界定层的材料为绝缘材料。
[0013]可选地，在具体实施时，在本专利技术实施例提供的上述阵列基板中，所述第一像素界定层的厚度为100nm-200nm，所述第二像素界定层的厚度为50nm-150nm。
[0014]可选地，在具体实施时，在本专利技术实施例提供的上述阵列基板中，所述发光功能层包括依次层叠设置的空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层。
[0015]可选地，在具体实施时，在本专利技术实施例提供的上述阵列基板中，所述空穴注入层和所述电子传输层呈亲水性，所述空穴传输层和所述发光层呈疏水性。
[0016]可选地，在具体实施时，在本专利技术实施例提供的上述阵列基板中，所述发光层的材料为量子点材料。
[0017]相应地，本专利技术实施例还提供了一种显示装置，包括本专利技术实施例提供的上述阵列基板。
[0018]相应地，本专利技术实施例还提供了一种阵列基板的制备方法，包括：
[0019]在衬底基板上形成具有多个开口区域的像素界定层；
[0020]在各所述开口区域内形成发光功能层；其中，所述像素界定层中与所述发光功能层接触的部分具有在外部条件变化下在亲水性与疏水性之间转换的功能。
[0021]可选地，在具体实施时，在本专利技术实施例提供的上述制备方法中，在衬底基板上形成具有多个开口区域的像素界定层，具体包括：
[0022]在所述衬底基板上旋涂第一光刻胶，并对所述第一光刻胶进行曝光、显影后形成图形化的第一光刻胶层；
[0023]在形成有所述第一光刻胶层的衬底基板上旋涂制备第一像素界定材料层；
[0024]对所述第一光刻胶层进行剥离以除去所述第一光刻胶层和所述第一光刻胶层上方的第一像素界定材料层，以形成围绕各所述开口区域且相互独立的多个像素界定结构，各所述像素界定结构构成所述第一像素界定层；
[0025]在所述第一像素界定层远离所述衬底基板一侧沉积绝缘材料膜层；
[0026]对所述绝缘材料膜层进行构图露出各所述开口区域，以形成所述第二像素界定层；所述第二像素界定层覆盖多个所述像素界定结构，所述第二像素界定层的结构为具有露出各所述开口区域的网格状结构，且所述第二像素界定层用于使相邻所述像素界定结构之间相互绝缘。
[0027]可选地，在具体实施时，在本专利技术实施例提供的上述制备方法中，在各所述开口区域内形成发光功能层，具体包括：
[0028]对形成有所述第二像素界定层的衬底基板在第一外部条件下进行处理，以使所述第一像素界定层呈疏水性；
[0029]采用喷墨打印工艺在各所述开口区域内形成空穴注入层；
[0030]对形成有所述空穴注入层的衬底基板在第二外部条件下进行处理，以使所述第一像素界定层呈亲水性；
[0031]采用喷墨打印工艺在所述空穴注入层远离所述衬底基板一侧形成空穴传输层；
[0032]采用喷墨打印工艺在所述空穴传输层远离所述衬底基板一侧形成发光层；
[0033]对形成有所述发光层的衬底基板在所述第一外部条件下进行处理，以使所述第一像素界定层呈疏水性；
[0034]采用喷墨打印工艺在所述发光层远离所述衬底基板一侧形成电子传输层。
[0035]本专利技术实施例的有益效果：
[0036]本专利技术实施例提供的上述阵列基板、其制备方法及显示装置，通过将像素界定层中与发光功能层接触的部分设置成具有在外部条件变化下在亲水性与疏水性之间转换的功能，这样在形成发光功能层的各膜层时，由于发光功能层的各膜层亲、疏水性不一致，如在形成亲水性的发光功能层时，将像素界定层在外部条件处理下使与发光功能层接触的部分转换呈疏水性，在形成疏水性的发光功能层时，将像素界定层在外部条件处理下使与发光功能层接触的部分转换呈亲水性，从而可以使开口区域内形成的发光功能层不会向像素界定层内壁攀爬，从而使开口区域内形成的发光功能层膜厚均一，提高显示面板的显示效果和发光器件的寿命。
附图说明
[00本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，其特征在于，包括衬底基板，位于所述衬底基板一侧的像素界定层，所述像素界定层具有多个开口区域，所述开口区域内包括发光功能层，所述像素界定层中与所述发光功能层接触的部分具有在外部条件变化下在亲水性与疏水性之间转换的功能。2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述像素界定层包括第一像素界定层，以及位于所述第一像素界定层远离所述衬底基板一侧的第二像素界定层；所述第一像素界定层包括围绕各所述开口区域且相互独立的多个像素界定结构，所述像素界定结构与所述发光功能层接触；所述第二像素界定层覆盖多个所述像素界定结构，所述第二像素界定层的结构为具有露出各所述开口区域的网格状结构，且所述第二像素界定层用于使相邻所述像素界定结构之间相互绝缘。3.如权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，沿所述衬底基板指向所述像素界定层的方向，所述像素界定结构的厚度大于所述发光功能层的厚度。4.如权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述第一像素界定层在紫外光照射下由亲水性转换为疏水性或由疏水性转换为亲水性。5.如权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述第一像素界定层的材料为偶氮苯、螺吡喃、肉桂酸、二氧化钛或五氧化二钒；所述第二像素界定层的材料为绝缘材料。6.如权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述第一像素界定层的厚度为100nm-200nm，所述第二像素界定层的厚度为50nm-150nm。7.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述发光功能层包括依次层叠设置的空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层。8.如权利要求7所述的阵列基板，其特征在于，所述空穴注入层和所述电子传输层呈亲水性，所述空穴传输层和所述发光层呈疏水性。9.如权利要求7所述的阵列基板，其特征在于，所述发光层的材料为量子点材料。10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-9任一项所述的阵列基板。11.一种阵列...
【专利技术属性】
技术研发人员：梅文海，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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