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本发明公开了一种阵列基板、其制备方法及显示装置，通过将像素界定层中与发光功能层接触的部分设置成具有在外部条件变化下在亲水性与疏水性之间转换的功能，这样在形成发光功能层的各膜层时，由于发光功能层的各膜层亲、疏水性不一致，如在形成亲水性的发光功...
该专利属于京东方科技集团股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。

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