一种硅片上下料系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种硅片上下料系统,包括导片机装置、硅片分合装置和搬运装置，所述导片机装置包括上料导片组件、下料导片组件以及连接上料导片组件和下料导片组件的横移输送机构，所述硅片分合装置包括六轴机器人以及夹爪分合机构，夹爪分合机构控制硅片的吸取和翻面，所述六轴机器人通过夹爪分合机构控制硅片的移动，所述搬运装置包括上料搬运机构、下料搬运机构和石英舟流转机构，所述上料导片组件、硅片分合装置、上料搬运机构和石英舟流转机构成硅片上料系统，所述下料导片组件、硅片分合装置、下料搬运机构和石英舟流转机构构成硅片下料系统，本实用新型专利技术实现了硅片由导片机装置到主机以及由主机到导片机装置的上料和下料的循环流程。下料的循环流程。下料的循环流程。

【技术实现步骤摘要】
一种硅片上下料系统


[0001]本技术属于光伏领域，涉及一种硅片上下料系统。

技术介绍

[0002]目前针对硅片上下料的方式多采用人工放置，人工抓取很容易造成裂料或破角，废品率很高，硅片上下料位置比较紧凑，相邻硅片之间的位置有较高要求，因此人工上料不易，效率较低，且上下料设备普遍存在着占地面积大，连续性不强，成本高，使用不简便等问题，本技术有效地解决了这种问题。

技术实现思路

[0003]本技术为了克服现有技术的不足，提供一种硅片上下料系统。
[0004]为了实现上述目的，本技术采用以下技术方案：一种硅片上下料系统，其特征在于：包括导片机装置、硅片分合装置和搬运装置，所述导片机装置包括上料导片组件、下料导片组件以及连接上料导片组件和下料导片组件的横移输送机构，所述硅片分合装置包括六轴机器人以及夹爪分合机构，夹爪分合机构控制硅片的吸取和翻面，所述六轴机器人通过夹爪分合机构控制硅片的移动，所述搬运装置包括上料搬运机构、下料搬运机构和石英舟流转机构，所述上料导片组件、硅片分合装置、上料搬运机构和石英舟流转机构成硅片上料系统，所述下料导片组件、硅片分合装置、下料搬运机构和石英舟流转机构构成硅片下料系统。
[0005]进一步的；所述上料导片组件和下料导片组件结构相同，所述上料导片组件和下料导片组件分别设有对称分布的两组，所述上料导片组件包括上料来料对接输送机构、上料缓存输送机构、上料花篮升降机构、上料花篮输送机构、上料硅片输送机构、上料硅片缓存机构以及上料接片机构，上料花篮输送机构位于上料花篮升降机构下侧，所述下料导片组件包括下料来料对接输送机构、下料缓存输送机构、下料花篮升降机构、下料花篮输送机构、下料硅片输送机构、下料硅片缓存机构以及下料接片机构，下料花篮输送机构位于下料花篮升降机构下侧，横移输送机构分别与上料花篮输送机构、下料花篮输送机构连接，花篮经上料花篮输送机构、横移输送机构以及下料花篮输送机构在上料导片组件和下料导片组件间流转。
[0006]进一步的；所述夹爪分合机构包括分片传动装置、吸盘调整机构以及吸盘旋转机构，所述吸盘调整机构包括吸盘吸取装置和控制吸盘吸取装置错位移动的调整装置，所述吸盘旋转机构包括吸盘吸片装置和控制吸盘吸片装置转动的旋转装置，六轴机器人控制夹爪分合机构的移动，所述分片传动装置通过吸盘调整机构与吸盘旋转机构控制硅片的移动，所述吸盘吸取装置和吸盘吸片装置控制硅片的吸取分合，所述旋转装置控制硅片翻面。
[0007]进一步的；所述上料搬运机构和下料搬运机构结构相同，所述上料搬运机构包括上料定位移动组件、上料硅片顶升组件、上料硅片规整组件以及上料离子吹风组件，所述下料搬运机构包括下料定位移动组件、下料硅片顶升组件、下料硅片规整组件以及下料离子
吹风组件。
[0008]进一步的；所述石英舟流转机构包括主机对接输送组件、夹爪组件和控制夹爪组件移动的移动模组组件，主机对接输送组件承载若干石英舟，移动模组组件控制夹爪组件夹持石英舟在主机对接输送组件和上料定位移动组件间流转。
[0009]进一步的；所述上料定位移动组件包括动力组件和两组承托组件，所述动力组件驱动两组承托组件同步往返运动，所述承托组件包括支架组件、承载组件以及翻转组件，所述支架组件对承载组件进行支撑，所述翻转组件控制承载组件相对于支架组件进行翻转，所述承载组件包括限位结构、压块结构和夹紧结构，所述压块结构将石英舟固定，所述夹紧结构将石英舟夹紧，所述限位结构对石英舟内硅片进行支撑和限位，所述上料定位移动组件还包括位置控制装置，所述位置控制装置包括三组检测传感器，承托组件固设有对应的挡片，所述三组检测传感器分别位于动力组件的两端以及承托组件的原点位置，通过三组检测传感器和挡片的配合控制上料定位移动组件的移动行程以及上料定位移动组件的原点检测，所述上料硅片顶升组件位于承托组件的原点位置，所述上料硅片顶升组件包括顶升移动组件和顶齿组件，顶升移动组件驱动顶齿组件上下往返移动，位于原点位置的一组上料定位移动组件翻转后石英舟与顶齿组件处于竖直方向的共线。
[0010]进一步的；所述上料硅片规整组件包括风刀机构和两组对称设置的规整支架，所述规整支架位于动力组件的两侧，所述规整支架包括规整齿，两组规整支架的规整齿相对设置，两组规整齿通过气缸实现同步的同向/反向运动，所述风刀机构安装在其中一组规整支架上，所述风刀机构包括吹气组件，通过吹气组件便于对硅片进行分片，所述上料离子吹风组件位于动力组件一端，对硅片除尘除静电，便于硅片的后续处理。
[0011]进一步的；所述主机对接输送组件包括对接机架、对接动力组件以及承载石英舟托的托架组件，所述对接机架对托架组件进行支撑，所述对接动力组件驱动托架组件往返，所述托架组件上固设有用于检测石英舟有无料的料传感器和用于检测石英舟托是否放置到位的到位传感器。
[0012]进一步的；所述夹爪组件包括传动组件、夹持组件以及承载传动组件和夹持组件的框架组件，所述夹持组件设置有两组，传动组件分别与两组夹持组件连接，控制两组夹持组件同步的同向或反向运动，所述夹持组件包括两组夹紧机构，两组夹紧机构将一组石英舟夹紧，传动组件通过控制两组夹持组件同向或反向运动，控制两组石英舟的间距，所述移动模组组件包括固定连接组件、移动升降组件、移动横移组件和移动平移组件，所述固定连接组件与夹爪组件连接，所述移动升降组件控制固定连接组件沿z方向的往返运动，所述移动横移组件控制固定连接组件沿x方向的往返运动，所述移动平移组件控制固定连接组件沿y方向的往返运动，移动模组组件控制夹爪组件的空间移动。
[0013]进一步的；所述上料来料对接输送机构其长度容纳多组花篮同时进行输送，上料来料对接输送机构在输送方向的两端固设有来料阻挡气缸，两侧固设有对称的两组来料对射传感器，两组来料对射传感器和来料阻挡气缸同步运行将花篮依次单个输送至上料缓存输送机构，上料来料对接输送机构设置有传感器，传感器对花篮满缺料状态进行检测，所述上料花篮升降机构包括升降输送组件和花篮升降组件，花篮升降组件控制升降输送组件升降，所述升降输送组件的长度与单个花篮长度相配，上料缓存输送机构将单个花篮输送至升降输送组件上，位于升降输送组件上的花篮通过夹紧装置固定，所述上料花篮升降机构
还包括用于检测花篮内硅片余量的对射传感器以及用于检测来料花篮朝向的朝向传感器，所述上料硅片输送机构包括硅片输入组件、硅片输送调整和硅片输出组件，所述硅片输入组件延伸至上料花篮升降机构，通过硅片输入组件将位于上料花篮升降机构上花篮内的硅片进行取片，所述硅片输出组件延伸上料硅片缓存机构和上料接片机构，硅片由硅片输入组件输送至硅片输出组件，并通过硅片输出组件将硅片流入上料接片机构，所述硅片输送调整位于硅片输入组件和硅片输出组件之间，硅片输送调整对硅片进行调整，所述上料接片机构包括接片组件和接片升降组件，所述接片组件包括两组对称设置的接片板和驱动一组接片板移动的动力组件，所述接片升降组件控制接片组件的升降，所述动力组件移动一组接片板，控制两组接片板本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种硅片上下料系统,其特征在于：包括导片机装置、硅片分合装置和搬运装置，所述导片机装置包括上料导片组件、下料导片组件以及连接上料导片组件和下料导片组件的横移输送机构，所述硅片分合装置包括六轴机器人以及夹爪分合机构，夹爪分合机构控制硅片的吸取和翻面，所述六轴机器人通过夹爪分合机构控制硅片的移动，所述搬运装置包括上料搬运机构、下料搬运机构和石英舟流转机构，所述上料导片组件、硅片分合装置、上料搬运机构和石英舟流转机构成硅片上料系统，所述下料导片组件、硅片分合装置、下料搬运机构和石英舟流转机构构成硅片下料系统。2.根据权利要求1所述的一种硅片上下料系统，其特征在于：所述上料导片组件和下料导片组件结构相同，所述上料导片组件和下料导片组件分别设有对称分布的两组，所述上料导片组件包括上料来料对接输送机构、上料缓存输送机构、上料花篮升降机构、上料花篮输送机构、上料硅片输送机构、上料硅片缓存机构以及上料接片机构，上料花篮输送机构位于上料花篮升降机构下侧，所述下料导片组件包括下料来料对接输送机构、下料缓存输送机构、下料花篮升降机构、下料花篮输送机构、下料硅片输送机构、下料硅片缓存机构以及下料接片机构，下料花篮输送机构位于下料花篮升降机构下侧，横移输送机构分别与上料花篮输送机构、下料花篮输送机构连接，花篮经上料花篮输送机构、横移输送机构以及下料花篮输送机构在上料导片组件和下料导片组件间流转。3.根据权利要求1所述的一种硅片上下料系统，其特征在于：所述夹爪分合机构包括分片传动装置、吸盘调整机构以及吸盘旋转机构，所述吸盘调整机构包括吸盘吸取装置和控制吸盘吸取装置错位移动的调整装置，所述吸盘旋转机构包括吸盘吸片装置和控制吸盘吸片装置转动的旋转装置，六轴机器人控制夹爪分合机构的移动，所述分片传动装置通过吸盘调整机构与吸盘旋转机构控制硅片的移动，所述吸盘吸取装置和吸盘吸片装置控制硅片的吸取分合，所述旋转装置控制硅片翻面。4.根据权利要求1所述的一种硅片上下料系统，其特征在于：所述上料搬运机构和下料搬运机构结构相同，所述上料搬运机构包括上料定位移动组件、上料硅片顶升组件、上料硅片规整组件以及上料离子吹风组件，所述下料搬运机构包括下料定位移动组件、下料硅片顶升组件、下料硅片规整组件以及下料离子吹风组件。5.根据权利要求1所述的一种硅片上下料系统，其特征在于：所述石英舟流转机构包括主机对接输送组件、夹爪组件和控制夹爪组件移动的移动模组组件，主机对接输送组件承载若干石英舟，移动模组组件控制夹爪组件夹持石英舟在主机对接输送组件和上料定位移动组件间流转。6.根据权利要求4所述的一种硅片上下料系统，其特征在于：所述上料定位移动组件包括动力组件和两组承托组件，所述动力组件驱动两组承托组件同步往返运动，所述承托组件包括支架组件、承载组件以及翻转组件，所述支架组件对承载组件进行支撑，所述翻转组件控制承载组件相对于支架组件进行翻转，所述承载组件包括限位结构、压块结构和夹紧结构，所述压块结构将石英舟固定，所述夹紧结构将石英舟夹紧，所述限位结构对石英舟内硅片进行支撑和限位，所述上料定位移动组件还包括位置控制装置，所述位置控制装置包括三组检测传感器，承托组件固设有对应的挡片，所述三组检测传感器分别位于动力组件的两端以及承托组件的原点位置，通过三组检测传感器和挡片的配合控制上料定位移动组件的移动行程以及上料定位移动组件的原点检测，所述上料硅片顶升组件位于承托组件的
原点位置，所述上料硅片顶升组件包括顶升移动组件和顶齿组件，顶升移动组件驱动顶齿组件上下往返移动，位于原点位置的一组上料定位移动组件翻转后石英舟与顶齿组件处于竖直方向的共线。7.根据权利要求4所述的一种硅片上...

【专利技术属性】
技术研发人员：沈晓琪，林佳继，朱斌，强嘉杰，
申请(专利权)人：拉普拉斯无锡半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：