光罩蒙版的清洗机台及清洗方法技术

本申请实施例提供一种光罩蒙版的清洗机台及清洗方法，其中，清洗机台至少包括：风刀和清洗装置；所述风刀用于对所述光罩蒙版表面的污染颗粒进行吹除；所述清洗装置用于向所述光罩蒙版表面喷洒清洗液，以通过所述清洗液的挥发来风化未被所述风刀吹除的污染颗粒；所述风刀还用于对风化后的污染颗粒进行吹除。通过本申请能够去除附着性较强的污染颗粒，不会影响产品的生产过程和交付日期，且不会在清洗过程中破坏光罩蒙版。中破坏光罩蒙版。中破坏光罩蒙版。

【技术实现步骤摘要】
光罩蒙版的清洗机台及清洗方法


[0001]本申请涉及半导体
，涉及但不限于一种光罩蒙版的清洗机台及清洗方法。

技术介绍

[0002]在半导体生产制造过程中，因机台因素或者人为因素，不可避免地会使得光罩蒙版(Pellicle)被超出规格的微粒(Particle)污染，只有及时的对这些微粒进行处理才可以进行后续的产品生产过程。
[0003]目前，工厂内已启用风刀吹扫蒙版表面上的微粒，但是部分微粒在蒙版表面附着性很强，难以用机台风刀吹除时，只能送到光罩厂紧急维修，导致线上产品停线，产品交付延期。

技术实现思路

[0004]有鉴于此，本申请实施例提供一种光罩蒙版的清洗机台及清洗方法。
[0005]第一方面，本申请实施例提供一种光罩蒙版的清洗机台，至少包括：风刀和清洗装置；
[0006]所述风刀用于对所述光罩蒙版表面的污染颗粒进行吹除；
[0007]所述清洗装置用于向所述光罩蒙版表面喷洒清洗液，以通过所述清洗液的挥发来风化未被所述风刀吹除的污染颗粒；
[0008]所述风刀还用于对风化后的污染颗粒进行吹除。
[0009]在一些实施例中，所述清洗机台还包括控制器；
[0010]所述控制器分别与所述风刀和所述清洗装置连接；
[0011]所述控制器用于控制所述风刀对所述光罩蒙版表面的污染颗粒进行吹除，并在所述光罩蒙版表面存在未被所述风刀吹除的污染颗粒的情况下，控制所述清洗装置向所述光罩蒙版表面喷洒清洗液，以通过所述清洗液的挥发来风化未被所述风刀吹除的污染颗粒。
[0012]在一些实施例中，所述控制器还用于控制所述风刀对风化后的污染颗粒进行吹除。
[0013]在一些实施例中，所述清洗装置至少包括：喷嘴、出液管道和储液罐；
[0014]所述出液管道的一端连接所述喷嘴，所述出液管道的另一端连接所述储液罐；所述储液罐用于储存所述清洗液，并通过所述出液管道和所述喷嘴喷洒所述清洗液。
[0015]在一些实施例中，所述清洗装置还包括：设置于所述出液管道中的液体输送装置；
[0016]所述液体输送装置与所述控制器连接，所述液体输送装置用于在所述控制器的控制作用下从所述储液罐向所述喷嘴输送所述清洗液。
[0017]在一些实施例中，所述清洗装置还包括：设置于所述出液管道中的流量计；
[0018]所述流量计与所述控制器连接，所述流量计用于统计流经所述出液管道的清洗液的流量；
[0019]所述控制器还用于在所述流量大于预设流量值的情况下，输出告警信息。
[0020]在一些实施例中，所述清洗液包括酒精。
[0021]在一些实施例中，所述清洗机台还包括：风刀监控装置；
[0022]所述风刀监控装置与所述风刀和所述控制器连接，所述风刀监控装置用于实时监控所述风刀的输出参数；
[0023]所述控制器还用于在所述风刀的输出参数大于预设参数值的情况下，控制所述风刀停止工作。
[0024]在一些实施例中，所述控制器还用于在所述风刀的输出参数大于预设参数值的情况下，输出提示信息。
[0025]在一些实施例中，所述输出参数包括风压、风速和风量；所述预设参数值包括：预设风压值、预设风速值和预设风量值；
[0026]其中，在所述预设风压值、所述预设风速值或所述预设风量值下，不会使得所述光罩蒙版发生破损。
[0027]在一些实施例中，所述风刀监控装置包括以下任意一种：风压流量计、风速流量计、风量流量计、风压传感器、风速传感器或者风量传感器。
[0028]第二方面，本申请实施例提供一种光罩蒙版的清洗方法，所述光罩蒙版的清洗方法应用于上述光罩蒙版的清洗机台，所述清洗机台至少包括：风刀和清洗装置；所述方法包括：
[0029]采用所述风刀对所述光罩蒙版表面的污染颗粒进行吹除；
[0030]采用所述清洗装置向所述光罩蒙版表面喷洒清洗液，以通过所述清洗液的挥发来风化未被所述风刀吹除的污染颗粒；
[0031]采用所述风刀对风化后的污染颗粒进行吹除。
[0032]在一些实施例中，在采用所述清洗装置向所述光罩蒙版表面未被所述风刀吹除的污染颗粒喷洒清洗液之后，停留预设时间，以在所述预设时间内，通过所述清洗液的挥发来风化未被所述风刀吹除的污染颗粒；
[0033]其中，所述预设时间至少为3分钟。
[0034]在一些实施例中，所述清洗机台还包括控制器，所述控制器至少与所述清洗装置连接；在喷洒所述清洗液之前，所述方法还包括：
[0035]采用光刻机的集成掩模探测系统，检测所述光罩蒙版表面是否存在未被所述风刀吹除的污染颗粒；
[0036]在所述光罩蒙版表面存在未被所述风刀吹除的污染颗粒的情况下，通过所述控制器控制所述清洗装置向所述光罩蒙版表面喷洒所述清洗液。
[0037]在一些实施例中，所述清洗机台还包括：风刀监控装置；所述风刀监控装置与所述风刀和所述控制器连接；所述方法还包括：
[0038]在采用所述风刀对所述光罩蒙版表面的污染颗粒进行吹除的情况下，或者在采用所述风刀对风化后的污染颗粒进行吹除的情况下，采用所述风刀监控装置实时监控所述风刀的输出参数；
[0039]在所述输出参数大于预设参数值的情况下，通过所述控制器控制所述风刀停止工作。
[0040]在一些实施例中，所述方法还包括：
[0041]在所述输出参数大于所述预设参数值的情况下，通过所述控制器输出提示信息。
[0042]本申请实施例提供的光罩蒙版的清洗机台和清洗方法，其中，光罩蒙版的清洗机台至少包括风刀和清洗装置，风刀用于对光罩蒙版表面的污染颗粒进行吹除，清洗装置用于向光罩蒙版表面喷洒清洗液，以通过清洗液的挥发来风化未被风刀吹除的污染颗粒。由于清洗机台中的清洗装置可以对未被风刀吹除的污染颗粒进行风化处理，如此，能够通过本申请实施例提供的清洗机台去除附着性较强的污染颗粒，进而不会影响产品的生产过程和交付日期。
附图说明
[0043]在附图(其不一定是按比例绘制的)中，相似的附图标记可在不同的视图中描述相似的部件。具有不同字母后缀的相似附图标记可表示相似部件的不同示例。附图以示例而非限制的方式大体示出了本文中所讨论的各个实施例。
[0044]图1a为相关技术中蒙版表面存在微粒的结构示意图；
[0045]图1b为相关技术中去除蒙版表面的微粒的结构示意图；
[0046]图1c为相关技术中造成蒙版破损的结构示意图；
[0047]图2为本申请实施例提供的光罩蒙版的清洗机台的一种可选的结构示意图；
[0048]图3a为本申请实施例提供的光罩蒙版的清洗机台的一种可选的结构示意图；
[0049]图3b为本申请实施例提供的采用清洗液风化污染颗粒的结构示意图；
[0050]图4a为本申请实施例提供的光罩蒙版的清洗机台的一种可选的结构示意图；
[0051]图4b为本申请实施例提供的通过风刀监控装置实时本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光罩蒙版的清洗机台，其特征在于，至少包括：风刀和清洗装置；所述风刀用于对所述光罩蒙版表面的污染颗粒进行吹除；所述清洗装置用于向所述光罩蒙版表面喷洒清洗液，以通过所述清洗液的挥发来风化未被所述风刀吹除的污染颗粒；所述风刀还用于对风化后的污染颗粒进行吹除。2.根据权利要求1所述的清洗机台，其特征在于，所述清洗机台还包括控制器；所述控制器分别与所述风刀和所述清洗装置连接；所述控制器用于控制所述风刀对所述光罩蒙版表面的污染颗粒进行吹除，并在所述光罩蒙版表面存在未被所述风刀吹除的污染颗粒的情况下，控制所述清洗装置向所述光罩蒙版表面喷洒清洗液，以通过所述清洗液的挥发来风化未被所述风刀吹除的污染颗粒。3.根据权利要求2所述的清洗机台，其特征在于，所述控制器还用于控制所述风刀对风化后的污染颗粒进行吹除。4.根据权利要求1至3任一项所述的清洗机台，其特征在于，所述清洗装置至少包括：喷嘴、出液管道和储液罐；所述出液管道的一端连接所述喷嘴，所述出液管道的另一端连接所述储液罐；所述储液罐用于储存所述清洗液，并通过所述出液管道和所述喷嘴喷洒所述清洗液。5.根据权利要求4所述的清洗机台，其特征在于，所述清洗装置还包括：设置于所述出液管道中的液体输送装置；所述液体输送装置与所述控制器连接，所述液体输送装置用于在所述控制器的控制作用下从所述储液罐向所述喷嘴输送所述清洗液。6.根据权利要求4所述的清洗机台，其特征在于，所述清洗装置还包括：设置于所述出液管道中的流量计；所述流量计与所述控制器连接，所述流量计用于统计流经所述出液管道的清洗液的流量；所述控制器还用于在所述流量大于预设流量值的情况下，输出告警信息。7.根据权利要求5或6所述的清洗机台，其特征在于，所述清洗液包括酒精。8.根据权利要求4所述的清洗机台，其特征在于，所述清洗机台还包括：风刀监控装置；所述风刀监控装置与所述风刀和所述控制器连接，所述风刀监控装置用于实时监控所述风刀的输出参数；所述控制器还用于在所述风刀的输出参数大于预设参数值的情况下，控制所述风刀停止工作。9.根据权利要求8所述的清洗机台，其特征在于，所述控制器还用于在所述风刀的输出参数大于预设参数值的情况下，输出提示信息。10.根据权利要求8或9所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙飞，
申请(专利权)人：长鑫存储技术有限公司，
类型：发明
国别省市：