双层可记录光学记录介质制造技术

本发明专利技术提供了一种双层可记录光学记录介质，包括：第一信息层；置于所述第一信息层上的中间层；以及置于所述中间层上的第二信息层，从激光照射侧依次沉积所述第一信息层、中间层和第二信息层，其中所述第一信息层从所述激光照射侧至少包括：包含Ｂｉ作为主成分的薄膜、电介质层、反射层和热扩散层，所述第二信息层从所述激光照射侧至少包括：包含Ｂｉ作为主成分的薄膜、电介质层和反射层，且其中所述第二信息层的电介质层的厚度（ｔ２）与第一信息层的电介质层的厚度（ｔ１）之比ｔ２／ｔ１的范围为０．７至１．５或者４．５至６．０。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及甚至在蓝色激光波长范围内也可以在其上进行高密度记录的可记录(一次写入多次读取(WORM))光学记录介质，更具体地涉及至少具有第一信息层、中间层、和第二信息层的双层可记录光学记录介质。
技术介绍
使用激光束照射能够进行记录的光学记录介质的示例为例如诸如CD-R和DVD-R的可记录光学记录介质。这些光学记录介质就信息再现而言被支持与CD-ROM和DVD-ROM兼容，并都被用做小规模散发介质和存储介质。然而，目前大多数情况下使用基于有机染料的CD-R和DVD-R，其可以被大量低成本地制造。如果待沉积的层的数目大，则设有无机记录层的可记录光学记录介质的制造会增大制造成本，且因此盘的商业价值降低。因此，已经提议具有最小层数目的可记录光学记录介质。同时存在一些类型的可记录光学记录介质烧蚀型、相变型、合金型等。烧蚀记录就成本而言具有前景，但是问题为低的C/N比(载波与噪声比)，这是由于在盘上存在熔化于坑内的波尔卡点(polka-dot)膜和/或在坑外围上存在熔化的膜。此外，由于烧蚀记录介质采用单层结构，一般记录膜无法支持ROM盘的高反射，得到的产品不满足标准。适用于烧蚀记录的材料本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种双层可记录光学记录介质，包括：第一信息层；置于所述第一信息层上的中间层；以及置于所述中间层上的第二信息层，从激光照射侧依次沉积所述第一信息层、中间层和第二信息层，其中所述第一信息层从所述激光照射侧至少包括：包含Ｂｉ作为主 成分的薄膜（Ｒｅ层）、电介质层、反射层和热扩散层，所述第二信息层从所述激光照射侧至少包括：包含Ｂｉ作为主成分的薄膜（Ｒｅ层）、电介质层和反射层，且其中所述第二信息层的电介质层的厚度（ｔ２）与第一信息层的电介质层的厚度（ｔ１）之比ｔ２ ／ｔ１的范围为０．７至１．５或者４．５至６．０。

【技术特征摘要】
JP 2006-2-15 038514/06;JP 2006-3-17 073896/06;JP 21.一种双层可记录光学记录介质，包括第一信息层；置于所述第一信息层上的中间层；以及置于所述中间层上的第二信息层，从激光照射侧依次沉积所述第一信息层、中间层和第二信息层，其中所述第一信息层从所述激光照射侧至少包括包含Bi作为主成分的薄膜(Re层)、电介质层、反射层和热扩散层，所述第二信息层从所述激光照射侧至少包括包含Bi作为主成分的薄膜(Re层)、电介质层和反射层，且其中所述第二信息层的电介质层的厚度(t2)与第一信息层的电介质层的厚度(t1)之比t2/t1的范围为0.7至1.5或者4.5至6.0。2.根据权利要求1的双层可记录光学记录介质，其中所述热扩散层包括比电阻为1×10-1Ωcm以下的导电氧化物。3.根据权利要求2的双层可记录光学记录介质，其中所述导电氧化物为IZO(In2O3-ZnO)和ITO(In2O3-SnO2)之一。4.根据权利要求1的双层可记录光学记录介质，其中所述第一信息层的热扩散层的厚度(T2)与第一信息层的反射层的厚度(T1)之比即T2/T1落在2至8的范围内。5.根据权利要求1的双层可记录光学记录介质，其中所述第一信息层的热扩散层的厚度为30nm至90nm。6.根据权利要求1的双层可记录光学记录介质，其中所述第一信息层的Re层为5nm至25nm，所述第一信息层的电介质层为10nm至30nm，所述第二信息层的Re层为5nm至25nm，且所述第二信息层的电介质层为10nm至30nm。7.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：藤井俊茂，笹登，林嘉隆，藤原将行，三浦裕司，篠塚道明，真贝胜，关口洋义，岩佐博之，山田胜幸，鸣海慎也，加藤将纪，
申请(专利权)人：株式会社理光，
类型：发明
国别省市：JP[日本]