磁记录介质、磁记录装置及制造磁记录介质的方法制造方法及图纸

一种磁记录介质，包括：环形基底（１１），其表面分成位于外圆周边缘与内圆周边缘之间的中央部分的记录区域（２１）、位于分别从外和内圆周边缘开始的１００μｍ或更大和２，０００μｍ或更小的范围之内的边缘区域（２３、２５），以及分别位于各边缘区域（２３、２５）和记录区域（２１）之间的相邻区域（２２、２４），基底（１１）上的磁性膜（１２），以及磁性膜（１２）上的保护膜（１３），其中边缘区域（２３、２５）的磁性膜（１２）比相邻区域（２２、２４）的磁性膜薄，以及边缘区域（２３、２５）的保护膜（１３）的至少一部分比相邻区域（２２、２４）的保护膜厚。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种例如离散磁道介质或纳米图案化介质的磁记录介质，制造该磁记录介质的方法以及磁记录装置。
技术介绍
最近，为了着力提高磁记录介质的密度，对配置成如下所述的离散磁道型介质和纳米图案化介质已经倾注了很多的关注。在离散磁道型介质中，相邻记录轨道通过沟槽或非磁性材彼此隔离，以降低记录轨道之间的磁干扰。在纳米图案化的介质中，相邻记录位通过沟槽或非磁性材料彼此隔离，以降低记录位之间的磁干扰。在这样的离散磁道型介质或纳米图案化介质的制造过程中，由于压印方法可以省去写入伺服轨道的步骤，从而导致成本的降低，所以优选使用压模，采用该方法来形成用于数据区和伺服区信号的磁性图案。然而，当将采用压印工艺制造的磁记录介质插入磁记录装置中时，介质表面上的凹陷和凸起可能不利地使磁头的飞行性能变得不稳定。因此，目前并没有建立对采用压印工艺制造磁记录介质的方法、要形成的适合图案以及用于磁性膜的处理方法的适当制造条件。传统地，已经提出了一种磁记录介质，该记录介质至少在相对于数据记录区的外部区域或内部区域之一中形成有凹陷和凸起图案，以便为了改善磁头飞行性能而调节施加到磁头的抬升力(JP-A 2005-38本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种磁记录介质，包括：环形基底（１１），其表面分成位于外圆周边缘与内圆周边缘之间的中央部分的记录区域（２１）、位于分别从外和内圆周边缘开始的１００μｍ或更大和２，０００μｍ或更小的范围之内的边缘区域（２３、２５），以及分别位于各边缘区域（２３、２５）和记录区域（２１）之间的相邻区域（２２、２４）；所述基底（１１）上的磁性膜（１２）；以及所述磁性膜（１２）上的保护膜（１３），其特征在于在所述边缘区域（２３、２５）的所述磁性膜（１２）比所述相邻区域（２２、２４）的所述磁性膜更薄，以及在所述边缘区域（２３、２５）的所述保护膜（１３）的至少一部分比所述相邻区域（２２、２４）的所述保护膜更厚。

【技术特征摘要】
JP 2006-3-30 094356/20061.一种磁记录介质，包括环形基底(11)，其表面分成位于外圆周边缘与内圆周边缘之间的中央部分的记录区域(21)、位于分别从外和内圆周边缘开始的100μm或更大和2,000μm或更小的范围之内的边缘区域(23、25)，以及分别位于各边缘区域(23、25)和记录区域(21)之间的相邻区域(22、24)；所述基底(11)上的磁性膜(12)；以及所述磁性膜(12)上的保护膜(13)，其特征在于在所述边缘区域(23、25)的所述磁性膜(12)比所述相邻区域(22、24)的所述磁性膜更薄，以及在所述边缘区域(23、25)的所述保护膜(13)的至少一部分比所述相邻区域(22、24)的所述保护膜更厚。2.如权利要求1所述的介质，其特征在于所述边缘区域(23、25)的所述保护膜(13)的至少一部分比所述相邻区域(22、24)的所述保护膜厚10nm或更多。3.如权利要求1所述的介质，其特征在于所述边缘区域(23、25)的所述保护膜(13)的厚度朝着外圆周边缘或内圆周边缘减少。4.如权利要求1所述的介质，其特征在于所述保护膜(13)包含选自碳、SiO2和ZrO2的材料。5.如权利要求1所述的介质，其特征在于所述保护膜(13)由两种或多种类型材料的叠层膜形成。6.如权利要求5所述的介质，其特征在于所述叠层膜包括含有无定型碳的下部保护膜和含有类金刚石碳的上部保护膜。7.如权利要求5所述的介质，其特征在于所述叠层膜包括含有SiO2的下部保护膜和含有类金刚石碳的上部保护膜。8.一种磁记录装置，其特征在于包括如权利要求1所述的磁记录介质(71)；主轴马达(72)，用于旋转所述磁记录介质(71)；致动器(...

【专利技术属性】
技术研发人员：白鸟聪志，樱井正敏，喜喜津哲，镰田芳幸，木村香里，
申请(专利权)人：株式会社东芝，
类型：发明
国别省市：JP[日本]