【技术实现步骤摘要】
曝光设备
[0001]本申请涉及曝光
，特别涉及一种曝光设备。
技术介绍
[0002]相关技术中，掩膜版是含有电子线路显微图像的精密镀膜玻璃基板，其作用是将设计者的电路图形通过光刻的方式转移到玻璃基板或半导体晶圆上，然后，进行后续制程，直至封装、测试合格。掩膜版是光刻复制图形的基准和蓝本，掩膜版上的任何缺陷都会对最终图形精度都会有较大影响，并直接影响最终制品的优品率。
[0003]在掩膜版制作过程中，通常需要曝光装置对掩膜版进行曝光，常规的曝光装置，结构较为复杂，不能通过简单的操作来对掩膜版进行曝光，此外，在曝光时取放掩膜版较为麻烦，不能对掩膜版进行较快速的取放，效率较低。
技术实现思路
[0004]本申请旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本申请提出一种曝光设备，能够对掩膜版进行紫外线光照射，结构简单，易于实施，操作方便，并且能够快速取放掩膜版，生产效率高。
[0005]根据本申请的第一方面实施例的曝光设备，包括：
[0006]机体；
[0007]工件放置板，所...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.曝光设备，其特征在于，包括：机体；工件放置板，所述工件放置板可从所述机体外部滑动至所述机体内部，所述工件放置板用于放置掩膜版；紫外线灯板，所述紫外线灯板位于所述机体内部，所述紫外线灯板用于照射所述工件放置板上的掩膜版。2.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，所述机体内部设置有容置腔，所述紫外线灯板设置在所述容置腔的一侧，所述容置腔设有开口，当所述工件放置板通过所述开口滑动至所述容置腔时，所述工件放置板位于所述紫外线灯板的对面。3.根据权利要求2所述的曝光设备，其特征在于，所述紫外线灯板的底部设置有第一支撑件，所述第一支撑件的对面设置有第二支撑件，所述第一支撑件和所述第二支撑件之间形成可使所述工件放置板滑动的通道。4.根据权利要求3所述的曝光设备，其特征在于，所述通道正...
【专利技术属性】
技术研发人员：黄国勇，司继伟，杜武兵，
申请(专利权)人：深圳市路维光电股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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