离子枪制造技术

技术编号:30217300 阅读:84 留言:0更新日期:2021-09-29 09:32
本发明专利技术的离子枪包括:阳极;磁极,具有与所述阳极相对的内表面、设置在与所述阳极对应的位置上的狭缝和从所述内表面的一端向所述狭缝延伸且形成所述狭缝的一部分的内倾斜面;和罩,至少包覆所述内表面及所述内倾斜面且由具有导电性和非磁性的材料构造,所述罩相对于所述磁极能够拆卸。述磁极能够拆卸。述磁极能够拆卸。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】离子枪


[0001]本专利技术涉及一种离子枪。
[0002]本申请在2019年9月9日向日本提出的专利申请第2019

163763号的基础上要求优先权,并且在此援引其内容。

技术介绍

[0003]以往,经常使用利用从离子枪引出的离子束的工艺,在各种装置中搭载有离子枪。一般而言,离子枪具有以下结构(例如,参见专利文献1):在形成于磁极(阴极)的狭缝与阳极(anode)之间生成等离子体,通过狭缝向外部引出离子束。
[0004]专利文献1:美国专利申请公开第2012/0187843号的说明书
[0005]近年来,要求通过增强离子枪的磁场强度来提高被处理体的蚀刻速率的工艺。然而,这种工艺具有因等离子体而磁极容易消耗、磁极的狭缝间隔(间隙)变宽且放电电流下降的问题。另外,还具有将消耗的磁极更换为新磁极的频率增加且维护性差的问题。此外,还具有伴随磁极的消耗而产生起因于磁极材料的污染,对使用离子枪的工艺带来不良影响这种问题。

技术实现思路

[0006]本专利技术是考虑这种情况而提出的,其目的是提供一本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种离子枪,包括:阳极;磁极,具有与所述阳极相对的内表面、设置在与所述阳极对应的位置上的狭缝和从所述内表面的一端向所述狭缝延伸且形成所述狭缝的一部分的内倾斜面;和罩,至少包覆所述内表面及所述内倾斜面且由具有导电性和非磁性的材料构造,所述罩相对于所述磁极能够拆卸。2.根据权利要求1所述的离子枪,其中,所述罩包括:第一包覆部,用于包覆所述磁极的所述内表面;和第二包覆部,与所述第一包覆部相连且包覆所述内倾斜面。3.根据权利要求2所述的离子枪,其中,所述罩的第二包覆部具有相对于所述阳极沿铅直方向延伸的铅直面,在所述狭缝中彼此面对的所述铅直面彼此平行。4.根据权利要求3所述的离子枪,其中,所述磁极的所述内倾斜面具有内前端,所述内前端位于所述内倾斜面的与所述内表面的所述一端相反的一侧,...

【专利技术属性】
技术研发人员:汤濑琢巳
申请(专利权)人:株式会社爱发科
类型:发明
国别省市:

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