本实用新型专利技术公开了一种用于功率放大器生产的芯片光刻装置,包括热烘机构、放置机构,所述热烘机构的上部设置有所述放置机构,还包括用于放置掩膜板的光刻机构,所述光刻机构包括液压杆、滑套、掩膜架、固定板、光刻灯、行星减速器、电机,所述液压杆的外部套有所述滑套,所述滑套之间通过所述掩膜架连接。本实用新型专利技术利用滑套之间的相对距离可以依据液压杆表面的刻度进行精确调节，使得能够依据光刻灯调节相对距离进行对焦，可快速进行光刻，且多个掩膜架的作用可同时放置多个不同形状的掩膜板来组成所需光刻形状。成所需光刻形状。成所需光刻形状。
【技术实现步骤摘要】
一种用于功率放大器生产的芯片光刻装置
[0001]本技术涉及功率放大器生产
,特别是涉及一种用于功率放大器生产的芯片光刻装置。
技术介绍
[0002]功率放大器,简称“功放”,是指在给定失真率条件下,能产生最大功率输出以驱动某一负载(例如扬声器)的放大器。功率放大器在整个音响系统中起到了“组织、协调”的枢纽作用,在某种程度上主宰着整个系统能否提供良好的音质输出。但是在对其芯片进行光刻时对焦较慢，且光刻形状无法快速改变。
技术实现思路
[0003]本技术的目的就在于为了解决上述问题而提供一种用于功率放大器生产的芯片光刻装置。
[0004]本技术通过以下技术方案来实现上述目的：
[0005]一种用于功率放大器生产的芯片光刻装置,包括热烘机构、放置机构,所述热烘机构的上部设置有所述放置机构,还包括用于放置掩膜板的光刻机构,所述光刻机构包括液压杆、滑套、掩膜架、固定板、光刻灯、行星减速器、电机,所述液压杆的外部套有所述滑套,所述滑套之间通过所述掩膜架连接,所述掩膜架的上部通过螺栓连接有所述固定板,所述固定板的下表面中间安装有所述光刻灯,所述固定板的上部通过螺栓连接有所述行星减速器,所述行星减速器的上部键连接有所述电机。
[0006]优选的,所述热烘机构包括垫板、基座、热风机、插头、风箱、控制器,所述垫板的上表面中间通过螺栓连接有所述基座,所述基座的内部安装有所述热风机,所述热风机的上部安装有所述风箱,所述风箱的前表面安装有所述控制器, 所述热风机的前部安装有所述插头。
[0007]优选的,所述放置机构包括承载板、放置板、刮胶槽、连接板、清洗剂箱、水泵、连接管、雾化头,所述承载板通过轴承连接在所述热烘机构的上部,所述承载板的内部设置有所述放置板,所述承载板的中间纵向开有所述刮胶槽,所述承载板的对角处固定连接有所述连接板,所述连接板的上部通过卡扣连接有所述清洗剂箱,所述清洗剂箱的一侧通过法兰连接有所述水泵,所述水泵的一侧通过法兰连接有所述连接管,所述连接管的一端安装有所述雾化头。
[0008]优选的,所述清洗剂箱的一侧安装有注入管。
[0009]优选的,所述液压杆的伸缩端表面有刻度,所述掩膜架之间距离可调。
[0010]有益效果在于：利用滑套之间的相对距离可以依据液压杆表面的刻度进行精确调节，使得能够依据光刻灯调节相对距离进行对焦，可快速进行光刻，且多个掩膜架的作用可同时放置多个不同形状的掩膜板来组成所需光刻形状。
[0011]本技术的附加技术特征及其优点将在下面的描述内容中阐述地更加明显,或
通过本技术的具体实践可以了解到。
附图说明
[0012]附图是用来提供对本技术的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与下面的具体实施方式一起用于解释本技术,但并不构成对本技术的限制。在附图中：
[0013]图1是本技术所述一种用于功率放大器生产的芯片光刻装置的第一实施例的轴测图；
[0014]图2是本技术所述一种用于功率放大器生产的芯片光刻装置的第一实施例的右视图；
[0015]图3是本技术所述一种用于功率放大器生产的芯片光刻装置第二实施例的轴测图；
[0016]图4是本技术所述一种用于功率放大器生产的芯片光刻装置第二实施例的右视图。
[0017]附图标记说明如下：
[0018]1、热烘机构；101、垫板；102、基座；103、热风机；104、插头；105、风箱；106、控制器；2、放置机构；201、承载板；202、放置板；203、刮胶槽； 204、连接板；205、清洗剂箱；206、水泵；207、连接管；208、雾化头；209、注入管；3、光刻机构；301、液压杆；302、滑套；303、掩膜架；304、固定板； 305、光刻灯；306、行星减速器；307、电机。
具体实施方式
[0019]下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例,而不是全部的实施例。
[0020]在本技术的描述中,需要理解的是,术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本技术和简化描述, 而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本技术的限制。
[0021]下面结合附图对本技术作进一步说明：
[0022]一种用于功率放大器生产的芯片光刻装置,包括热烘机构1、放置机构2,热烘机构1的上部设置有放置机构2,还包括用于放置掩膜板的光刻机构3,光刻机构3包括液压杆301、滑套302、掩膜架303、固定板304、光刻灯305、行星减速器306、电机307,液压杆301的外部套有滑套302,可带动着掩膜架303滑动, 滑套302之间通过掩膜架303连接,内部可放置掩膜板,掩膜架303的上部通过螺栓连接有固定板304,使得液压杆301保持稳定,固定板304的下表面中间安装有光刻灯305,可作为光刻的光源,固定板304的上部通过螺栓连接有行星减速器 306,使得电机307将速度降至合适且保持稳定,行星减速器306的上部键连接有电机307,为固定板304提供转动动力。
[0023]实施例1
[0024]如图1和2所示,热烘机构1包括垫板101、基座102、热风机103、插头 104、风箱105、控制器106,垫板101的上表面中间通过螺栓连接有基座102, 使得热风机103保持稳定,基
座102的内部安装有热风机103,可产生热风,热风机103的上部安装有风箱105,能够将热风均匀送出,风箱105的前表面安装有控制器106,可控制热风温度及风力大小,热风机103的前部安装有插头104,直接与电源接触进行供电；放置机构2包括承载板201、放置板202、刮胶槽203、连接板204、清洗剂箱205、水泵206、连接管207、雾化头208,承载板201通过轴承连接在风箱105的上部,使得上部部件保持稳定,承载板201的内部设置有放置板202,可放置芯片,承载板201的中间纵向开有刮胶槽203,能够进行刮胶,承载板201的对角处固定连接有连接板204,使得清洗剂箱205保持稳定,连接板204的上部通过卡扣连接有清洗剂箱205,内部能够放置清洗剂,清洗剂箱 205的一侧通过法兰连接有水泵206,可将清洗剂泵出,水泵206的一侧通过法兰连接有连接管207,内部能够充斥清洗剂,连接管207的一端安装有雾化头208；液压杆301的伸缩端表面有刻度,便于调节掩膜板之间的距离,掩膜架303之间距离可调,便于进行掩膜。
[0025]工作原理：使用时,将硅片放置在放置板202上部,利用清洗剂箱205的作用先对硅片进行清洗,接着对硅片进行涂底,使其表面具有疏水性,然后利用电机307使得硅片能够被转动起来进本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于功率放大器生产的芯片光刻装置,包括热烘机构(1)、放置机构(2),所述热烘机构(1)的上部设置有所述放置机构(2),其特征在于：还包括用于放置掩膜板的光刻机构(3),所述光刻机构(3)包括液压杆(301)、滑套(302)、掩膜架(303)、固定板(304)、光刻灯(305)、行星减速器(306)、电机(307),所述液压杆(301)的外部套有所述滑套(302),所述滑套(302)之间通过所述掩膜架(303)连接,所述掩膜架(303)的上部通过螺栓连接有所述固定板(304),所述固定板(304)的下表面中间安装有所述光刻灯(305),所述固定板(304)的上部通过螺栓连接有所述行星减速器(306),所述行星减速器(306)的上部键连接有所述电机(307)。2.根据权利要求1所述的一种用于功率放大器生产的芯片光刻装置,其特征在于：所述热烘机构(1)包括垫板(101)、基座(102)、热风机(103)、插头(104)、风箱(105)、控制器(106),所述垫板(101)的上表面中间通过螺栓连接有所述基座(102),所述基座(102)的内部安装有所述热风机(103),所述热风机(103)的上部安装有所述风箱(105),所述风箱(105)的前表面安装有...
【专利技术属性】
技术研发人员：胡中民，
申请(专利权)人：深圳市海纳鑫信息科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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