一种副室定位机构、副室自动回旋系统及方法技术方案

本发明专利技术提供一种副室定位机构，包括第一定位件和第二定位件，第一定位件与副室连接，第二定位件与炉体连接，第一定位件与第二定位件插接配合，第一定位件与第二定位件插接进行副室旋回时与炉体定位，第一定位件与第二定位件分离进行副室旋离炉体。本发明专利技术的有益效果是具有回旋定位机构，能够在副室回旋时对副室进行定位，使得副室能后准确、快速的安装在炉体上，使得副室能够自动回旋至炉体上，提高了副室回旋的自动化水平，降低人员劳动强度，为后续的自动稳定籽晶奠定了结实的基础。自动稳定籽晶奠定了结实的基础。自动稳定籽晶奠定了结实的基础。

【技术实现步骤摘要】
一种副室定位机构、副室自动回旋系统及方法


[0001]本专利技术属于单晶硅生产设备
，尤其是涉及一种副室定位机构、副室自动回旋系统及方法。

技术介绍

[0002]目前行业内竞争日益激烈，单晶生产企业自动化程度逐步提高，从工业2.0时代，逐步迈向工业3.0、4.0时代。单晶拉制过程中，等径过程已实现自动化控制，而拉晶过程有许多工步均需要人员手动完成。
[0003]目前单晶炉副室旋出已经实现自动化，但反观副室旋回、下降的功能却始终需要人员操作，对人力成本产生极大的浪费，其原因为副室旋回后无法确认准确位置导致。单晶拉制过程中，需要精确的进行对中，保证单晶圆心与单晶炉圆心一致，故副室手动旋回后还需要人员将单晶炉副室与炉体进行对中操作。

技术实现思路

[0004]鉴于上述问题，本专利技术要解决的问题是提供一种副室定位机构、副室自动回旋系统及方法，应用于单晶炉的副室自动回旋至炉体的上方，进行副室的安装，并在副室回旋安装的过程中对副室进行定位校正，实现副室的回旋安装自动化，降低劳动强度，提高工作效率。
[0005]为解决上述技术问题，本专利技术采用的技术方案是：一种副室定位机构，包括第一定位件和第二定位件，第一定位件与副室连接，第二定位件与炉体连接，第一定位件与第二定位件插接配合，第一定位件与第二定位件插接进行副室旋回时与炉体定位，第一定位件与第二定位件分离进行副室旋离炉体。
[0006]进一步的，第一定位件设有定位孔，定位孔包括调整孔和第一定位孔，第一定位孔与调整孔连通，且第一定位孔与调整孔同轴设置，以及，
[0007]调整孔的直径大于第一定位孔的直径，调整孔设于第一定位孔靠近第二定位件的一端，便于第二定位件在与第一定位孔插接配合时定位调整。
[0008]进一步的，调整孔为变径结构，沿着与第一定位孔连接的一端至自由端直径逐渐增大。
[0009]进一步的，第二定位件为定位柱，定位柱与副室平行设置，便于定位柱插入第一定位件进行副室旋回时定位。
[0010]一种副室自动回旋定位系统，包括上述的副室定位机构和升降旋转装置，升降旋转装置与副室连接，便于副室进行升降旋转，副室定位机构分别与副室和炉体连接，便于对副室旋回时进行定位。
[0011]进一步的，旋转升降机构为液压装置。
[0012]一种副室自动回旋方法，包括以下步骤，
[0013]副室上升至上限位置；
[0014]籽晶上升至最低位置；
[0015]副室按一定回旋转速回旋至炉体上方；
[0016]副室下降，在副室下降过程中副室定位机构进行定位；
[0017]完成副室回旋下降。
[0018]进一步的，副室上升至上限位置步骤中，上限位置为副室的下端相对于副室与炉体闭合状态时的距离，该距离为1500-1800mm。
[0019]进一步的，籽晶上升至最低位置步骤中，最低位置大于上限位置，最低位置为籽晶相对于副室与炉体闭合状态时的距离，该距离为1700-2000mm。
[0020]进一步的，回旋转速不大于3mm/s。
[0021]由于采用上述技术方案，具有回旋定位机构，能够在副室回旋时对副室进行定位，使得副室能后准确、快速的安装在炉体上，使得副室能够自动回旋至炉体上，提高了副室回旋的自动化水平，降低人员劳动强度，为后续的自动稳定籽晶奠定了结实的基础；该副室定位机构结构简单，制作成本低，零部件强度大，使用寿命长，降低了对现有的单晶炉进行升级改造的成本，降低员工劳动强度，降低人工成本，实现降本增效。
附图说明
[0022]图1是本专利技术的一实施例的副室闭合状态结构示意图；
[0023]图2是图1的俯视结构示意图；
[0024]图3是本专利技术的一实施例的副室打开状态结构示意图；
[0025]图4是图3的俯视结构示意图；
[0026]图5是本专利技术的一实施例的第一定位件的结构示意图。
[0027]图中：
[0028]1、副室
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2、第一定位件
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3、第二定位件
[0029]4、炉体
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5、升降旋转装置
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20、第一定位孔
[0030]21、调整孔
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6、旋转轨迹
具体实施方式
[0031]下面结合附图和具体实施例对本专利技术作进一步的说明。
[0032]图1示出了本专利技术一实施例的结构示意图，具体示出了本实施例的结构及连接关系，本实施例涉及一种副室定位机构、副室自动回旋定位系统及方法，用于直拉单晶炉副室的自动打开与关闭，具有定位机构，能够实现单晶炉副室在打开后旋回时进行定位，使得副室准确的安装在炉体上，定位准确，安装快速，具有副室自动旋回定位系统及方法，实现副室自动旋回、下降，提高了自动化程度，降低劳动强度，降低人工成本。
[0033]一种副室定位机构，如图1-4所示，用于副室1在旋回时定位，使得副室1准确的安装在炉体4上，该副室定位机构包括第一定位件2和第二定位件3，第一定位件2与副室1连接，第二定位件3与炉体4连接，第一定位件2与第二定位件3插接配合，第一定位件2与第二定位件3插接进行副室1旋回时与炉体4定位。在副室1旋回与炉体4上部安装时，第一定位件2与第二定位件3插接配合，第二定位件3插入第一定位件2内，对副室进行定位，使得副室1准确的安装在炉体4上，自动化程度高，不必人工参与，降低劳动强度；副室1旋离炉体4时，
第一定位件2与第二定位件3分离，便于副室1的旋回与旋离。
[0034]如图5所示，上述的第一定位件2与副室1连接，且第一定位件2固定安装在副室1的外部侧壁上，位于副室1的下部，靠近炉体4的位置，便于第一定位件2与第二定位件3配合动作。第一定位件2与副室1可以通过螺栓等连接件固定连接，或者是焊接，或者是其他固定连接方式，根据实际需求进行选择，这里不做具体要求。
[0035]第一定位件2设有定位孔，该定位孔的轴线与副室1的轴线平行设置，便于定位孔与第二定位件3插接配合定位。该定位孔包括调整孔21和第一定位孔20，第一定位孔20与调整孔21连通，且第一定位孔20与调整孔21同轴设置，也就是，第一定位孔20与调整孔21均为通孔，且同轴线设置，以及，调整孔21的直径大于第一定位孔20的直径，调整孔21设于第一定位孔20靠近第二定位件3的一端，便于第二定位件3在与第一定位孔20插接配合时定位调整。即，沿着副室1从上至下的方向，第一定位孔20与调整孔21依次设置，调整孔21位于第一定位孔20的下方，调整孔21为变径结构，沿着与第一定位孔20连接的一端至自由端直径逐渐增大，便于副室1旋回时对副室1进行定位。优选的，该调整孔21的截面形状为三角形，调整孔21的底部的直径最大，便于第二定位件3沿着调整孔21内壁移动，最终插入第一定位孔20内，对副室旋回安装在炉体本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种副室定位机构，其特征在于：包括第一定位件和第二定位件，所述第一定位件与副室连接，所述第二定位件与炉体连接，所述第一定位件与所述第二定位件插接配合，所述第一定位件与所述第二定位件插接进行所述副室旋回时与所述炉体定位，所述第一定位件与所述第二定位件分离进行所述副室旋离所述炉体。2.根据权利要求1所述的副室定位机构，其特征在于：所述第一定位件设有定位孔，所述定位孔包括调整孔和第一定位孔，所述第一定位孔与所述调整孔连通，且所述第一定位孔与所述调整孔同轴设置，以及，所述调整孔的直径大于所述第一定位孔的直径，所述调整孔设于所述第一定位孔靠近所述第二定位件的一端，便于所述第二定位件在与所述第一定位孔插接配合时定位调整。3.根据权利要求2所述的副室定位机构，其特征在于：所述调整孔为变径结构，沿着与所述第一定位孔连接的一端至自由端直径逐渐增大。4.根据权利要求1-3任一项所述的副室定位机构，其特征在于：所述第二定位件为定位柱，所述定位柱与所述副室平行设置，便于所述定位柱插入所述第一定位件进行所述副室旋回时定位。5.一种副室自动回旋定位系统，其特征在于：包括权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵国伟，徐强，高润飞，王林，谷守伟，王建平，周泽，杨志，吴树飞，刘振宇，刘学，刘有益，皇甫亚楠，高建芳，杨瑞峰，郭志荣，
申请(专利权)人：内蒙古中环协鑫光伏材料有限公司，
类型：发明
国别省市：