本实用新型专利技术公开了一种用于硅晶体生长设备的水冷却装置，包括箱体、水泵、反应炉和底座，所述底座顶端的一侧固定有箱体，所述导水管设置于冷凝管的内部，所述导水管的一侧固定有第一密封圈，且第一密封圈的一侧与箱体内部的一侧固定，所述导水管的外侧壁固定有第二密封圈，所述套筒设置于冷凝管和第二密封圈交结处的外侧壁。本实用新型专利技术通过在水冷却装置冷凝管的底端设置有回收结构，可以将导水管接入到冷凝管的内部，使得冷凝管内部通过的水流再次回到箱体的内部，避免了冷凝管内部通过的水流被排放掉造成水资源的浪费，该结构的设置很好的实现了水资源的循环利用，也为使用者节约了水的用量，提高了整体的实用性。提高了整体的实用性。提高了整体的实用性。
【技术实现步骤摘要】
一种用于硅晶体生长设备的水冷却装置
[0001]本技术涉及水冷却
，具体为一种用于硅晶体生长设备的水冷却装置。
技术介绍
[0002]硅晶体是一种性能良好的半导体材料，随着高新技术的飞速发展，硅晶体在半导体器件和太阳能电池中的应用逐渐扩大，硅晶体一般是在密闭的高温单晶炉内生长而成，在硅晶体生长完成后，需要将硅晶体从单晶炉内取出，但是由于炉内温度过高，等待冷却时间过长，所以需要使用到专门的冷却装置进行降温。
[0003]但是现有的水冷却装置不便于对水的循环利用，容易造成水资源的浪费，所以现开发出一种用于硅晶体生长设备的水冷却装置，以解决上述问题。
技术实现思路
[0004]本技术的目的在于提供一种用于硅晶体生长设备的水冷却装置，以解决上述
技术介绍
中提出的水冷却装置不便于对水的循环利用，容易造成水资源的浪费问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种用于硅晶体生长设备的水冷却装置，包括箱体、水泵、反应炉和底座，所述底座顶端的一侧固定有箱体，所述箱体的外侧壁设置有降噪结构，所述箱体的内部一侧贯穿有注水口，所述箱体内部的顶端固定水泵，所述水泵的一侧固定有抽水管，且抽水管延伸至箱体内部的底端，所述水泵的另一侧固定有进水口，所述箱体内部的底端设置有制冷结构，所述箱体的一侧设置有反应炉，且反应炉的底端和底座一侧的顶端固定，所述反应炉的内部设置有坩埚，所述坩埚的外侧壁均匀固定有冷凝管，且冷凝管的一侧与进水口的一侧固定，所述冷凝管的另一侧设置有回收结构，所述回收结构包括第一密封圈、套筒、导水管和第二密封圈，所述导水管设置于冷凝管的内部，所述导水管的一侧固定有第一密封圈，且第一密封圈的一侧与箱体内部的一侧固定，所述导水管的外侧壁固定有第二密封圈，所述套筒设置于冷凝管和第二密封圈的外侧壁。
[0006]优选的，所述降噪结构包括吸音棉、真空腔和隔音板，所述隔音板固定于箱体的外侧壁，所述隔音板的外侧壁设置有吸音棉，所述隔音板和吸音棉之间设置有真空腔。
[0007]优选的，所述套筒的内侧壁均匀设置有内螺纹，所述冷凝管一侧的外侧壁均匀设置有外螺纹，所述套筒和冷凝管之间构成螺纹连接。
[0008]优选的，所述套筒的外径小于冷凝管的内径，所述套筒和冷凝管之间构成卡合结构。
[0009]优选的，所述制冷结构包括冷却袋、制冷块和保温棉、所述冷却袋设置于箱体的内部，所述冷却袋内部均匀设置有制冷块，所述保温棉固定于吸音棉的外侧壁。
[0010]优选的，所述制冷块在冷却袋的内部设置有若干个，若干个所述制冷块在冷却袋的内部呈均匀分布。
[0011]与现有技术相比，本技术的有益效果是：该用于硅晶体生长设备的水冷却装
置，不仅实现了水资源循环利用，也同时实现了良好的冷却效果和良好的降噪效果，提高了整体的实用性。
[0012]（1）通过在水冷却装置冷凝管的底端设置有回收结构，可以将导水管接入到冷凝管的内部，使得冷凝管内部通过的水流再次回到箱体的内部，避免了冷凝管内部通过的水流被排放掉造成水资源的浪费，该结构的设置很好的实现了水资源的循环利用，也为使用者节约了水的用量，提高了整体的实用性。
[0013]（2）通过在水冷却装置箱体内部的底端设置有制冷结构，制冷块可以让箱体中的水保持在一个较低的温度，保温棉的设置可以降低外界温度对箱体内部水温的影响，使得箱体中的水温能够保持在同一温度，从而使得坩埚内部生长的晶体能够快速降温，提高整体的降温效率。
[0014]（3）通过在水冷却装置箱体的外侧壁设置有降噪结构，可以有效的降低箱体内部水泵工作时产生的噪音，避免操作者长期在高噪音的环境中工作对操作者的听力造成影响，为操作者提供了一个相对来说较为舒适的环境，该结构的设置提高了整体的使用效果。
附图说明
[0015]图1为本技术的正视剖面结构示意图。
[0016]图2为本技术的侧视结构示意图。
[0017]图3为本技术的图1中A处放大结构示意图。
[0018]图4为本技术的降噪结构正视剖面结构示意图。
[0019]图中：1、箱体；2、降噪结构；201、吸音棉；202、真空腔；203、隔音板；3、注水口；4、抽水管；5、水泵；6、进水口；7、反应炉；8、冷凝管；9、坩埚；10、底座；11、回收结构；1101、第一密封圈；1102、套筒；1103、导水管；1104、第二密封圈；12、制冷结构；1201、冷却袋；1202、制冷块；1203、保温棉。
具体实施方式
[0020]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0021]请参阅图1
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4，本技术提供的一种实施例：一种用于硅晶体生长设备的水冷却装置，包括箱体1、水泵5、反应炉7和底座10，底座10顶端的一侧固定有箱体1，箱体1的外侧壁设置有降噪结构2，箱体1的内部一侧贯穿有注水口3，箱体1内部的顶端固定水泵5，水泵5的一侧固定有抽水管4，且抽水管4延伸至箱体1内部的底端，水泵5的另一侧固定有进水口6，箱体1内部的底端设置有制冷结构12，箱体1的一侧设置有反应炉7，且反应炉7的底端和底座10一侧的顶端固定，反应炉7的内部设置有坩埚9，坩埚9的外侧壁均匀固定有冷凝管8，且冷凝管8的一侧与进水口6的一侧固定，冷凝管8的另一侧设置有回收结构11，回收结构11包括第一密封圈1101、套筒1102、导水管1103和第二密封圈1104，导水管1103设置于冷凝管8的内部，导水管1103的一侧固定有第一密封圈1101，且第一密封圈1101的一侧与箱体1内部的一侧固定，导水管1103的外侧壁固定有第二密封圈1104，套筒1102设置于冷凝管8和第
二密封圈1104的外侧壁。
[0022]套筒1102的内侧壁均匀设置有内螺纹，冷凝管8一侧的外侧壁均匀设置有外螺纹，套筒1102和冷凝管8之间构成螺纹连接，套筒1102的外径小于冷凝管8的内径，套筒1102和冷凝管8之间构成卡合结构。
[0023]具体地，如图1和图3所示，使用该机构时，首先，将套筒1102从导水管1103的一端套入，将导水管1103对准冷凝管8的内部插入，第二密封圈1104可以防止冷凝管8和导水管1103交界处的水流漏出，转动套筒1102，使得套筒1102完全将冷凝管8和导水管1103的接口处牢牢包裹，导水管1103的一侧通入箱体1的内部，第一密封圈1101对箱体1和导水管1103的接头处起到一个密封作用，防止水露出，该结构的设置很好的实现了水资源的循环利用，也为使用者节约了水的用量，提高了整体的实用性。
[0024]制冷结构12包括冷却袋1201、制冷块1202和保温棉1203、冷却袋1201本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于硅晶体生长设备的水冷却装置，包括箱体（1）、水泵（5）、反应炉（7）和底座（10），其特征在于：所述底座（10）顶端的一侧固定有箱体（1），所述箱体（1）的外侧壁设置有降噪结构（2），所述箱体（1）的内部一侧贯穿有注水口（3），所述箱体（1）内部的顶端固定水泵（5），所述水泵（5）的一侧固定有抽水管（4），且抽水管（4）延伸至箱体（1）内部的底端，所述水泵（5）的另一侧固定有进水口（6），所述箱体（1）内部的底端设置有制冷结构（12），所述箱体（1）的一侧设置有反应炉（7），且反应炉（7）的底端和底座（10）一侧的顶端固定，所述反应炉（7）的内部设置有坩埚（9），所述坩埚（9）的外侧壁均匀固定有冷凝管（8），且冷凝管（8）的一侧与进水口（6）的一侧固定，所述冷凝管（8）的另一侧设置有回收结构（11），所述回收结构（11）包括第一密封圈（1101）、套筒（1102）、导水管（1103）和第二密封圈（1104），所述导水管（1103）设置于冷凝管（8）的内部，所述导水管（1103）的一侧固定有第一密封圈（1101），且第一密封圈（1101）的一侧与箱体（1）内部的一侧固定，所述导水管（1103）的外侧壁固定有第二密封圈（1104），所述套筒（1102）设置于冷凝管（8）和第二密封圈（1104）的外侧壁。2.根据权利要求1所述的一种用于硅晶体生长设备的水...
【专利技术属性】
技术研发人员：张新峰，
申请(专利权)人：如皋卓远中乌第三代半导体产业技术研究院有限合伙，
类型：新型
国别省市：
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