一种氧化铌旋转溅射靶材的制备工艺制造技术

本发明专利技术提供一种氧化铌旋转溅射靶材的制备工艺，首先制备不锈钢背管，对不锈钢背管采用五氧化二铌粉末进行喷涂，在喷涂时向背管内通入冷水再缓慢加热至90℃，喷涂完成后，以1℃/min速度缓慢降低水温，工件转速同步降低，最后对靶材进行后处理加工。通过采用先通冷水，再缓慢加热至设定温度，大大减少了背管内应力的增加，减少靶材开裂异常，产品质量更加稳定。稳定。

【技术实现步骤摘要】
一种氧化铌旋转溅射靶材的制备工艺


[0001]本专利技术涉及旋转溅射靶材制备
，尤其涉及一种氧化铌旋转溅射靶材的制备工艺。

技术介绍

[0002]氧化铌溅射靶材主要通过磁控溅射法制备高折射率薄膜的溅射材料，用来提高等离子显示器亮度与可视角度，应用在液晶显示器(lcd)、等离子显示器(pdp)、触摸屏(touchpanel)、光学镜片等方面。专利号104831243A公开了一种氧化铌旋转靶材及其制备方法，先进行对喷涂基体的处理，喷涂打底层，用等离子喷涂工艺在基体管上喷涂氧化铌喷涂粉，在工艺在喷涂过程中采用低温冷却水进行冷却，在冷却的过程中容易造成背管的内应力增加，从而导致背管产生开裂，因此解决这个问题就变得很重要了。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的是提供一种氧化铌旋转溅射靶材的制备工艺，通过在喷涂时先通入冷水，在缓慢对冷水进行加热，从而在冷却的同时减少内应力的产生，解决了
技术介绍
中使用低温冷却水冷却造成内应力的产生导致开裂的产生。
[0004]本专利技术提供一种氧化铌旋转溅射靶材的制备工艺，首先制备不锈钢本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种氧化铌旋转溅射靶材的制备工艺，其特征在于，首先制备不锈钢背管，对不锈钢背管采用五氧化二铌粉末进行喷涂，在喷涂时向背管内通入冷水再缓慢加热至90℃，喷涂完成后，以1℃/min速度缓慢降低水温，工件转速同步降低，最后再对靶材进行后处理加工。2.如权利要求1所述的一种氧化铌旋转溅射靶材的制备工艺，其特征在于：所述不锈钢背管的制备包括以下步骤：首先选取不锈钢管，并且不锈钢管按图纸进行两端端面预处理；然后采用喷砂机对不锈钢管表面进行处理；最后采用高功率电弧融化镍铝丝，并使融化的镍铝丝均匀溅射至不锈钢管表面。3.如权利要求1所述的一种氧化铌旋转溅射靶材的制备工艺，其特征在于：喷涂时，通入水温度不大于90℃，加热功率不大于30KW。4.如权利要求1所述的一种氧化铌旋转溅射靶材的制...

【专利技术属性】
技术研发人员：石煜，田晓磊，盛明亮，李小龙，
申请(专利权)人：芜湖映日科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：